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本發明公開了一種高真空壓鑄用沖頭，包括：沖頭本體，其一 端開有一定深度的軸向中心孔以作為冷卻腔體；具有軸向中心通孔的 射桿，其與沖頭本體同軸相對布置，相對的另一端與驅動部件連接； 以及具有軸向中心通孔的沖頭射桿螺紋連接件，其置于沖頭本體和射 桿之間，兩端頭分別與兩者端部固定連接，一用于提供冷卻水的冷卻 水管穿過射桿和沖頭射桿螺紋連接件的中心通孔后與螺紋水槽件的中 心通孔連通。本發明還公開了用于上述沖頭的潤滑裝置。本發

（專利號：ZL 201510023278.5） 簡介：本發明公開了一種具有雙相交換耦合作用并保持高矯頑力的復合永磁鐵氧體，屬于磁性鐵氧體制備技術領域。該復合鐵氧體是采用水熱法單獨制備、并經過酸洗的SrFe12O19和CoFe2O4鐵氧體納米粉末按照一定質量比壓成圓片，然后分別在700～900℃的溫度下煅燒2h制備而成，含兩相的鐵氧體即對外顯示單一相磁性行為，即存在交換耦合作用。該復合鐵氧體由于采用高飽和磁化強度和矯頑力的CoFe2O4鐵氧

手性二芳基甲醇是重要的手性藥物合成前體，比如 (R)-新苯海 拉明、(R)-鄰甲苯海明，(S)-卡比沙明、(R,R)-氯馬斯汀等手性藥物 就是由光學活性二芳基甲醇合成得到，尚有一些具有明顯抗腫瘤前景 的化合物也是由手性二芳基甲醇合成的。本技術使用容易合成且價格 低廉的格氏試劑在不對稱催化的條件下與芳香醛加成，使用四異丙醇 鈦和 N,N,N′,N′-四甲基二氨基乙醚為添加劑，使用 10 mol% 光學 活性 H8-BINOL 為手性配體，產物產率為 90 ~ 97%，光學活性在 90 ~ >99

本發明公開一種含雜化長支鏈結構的高熔體強度聚烯烴的制備方法，包括如下步驟：（1）稱取接枝率≥0.3％（重量）極性單體接枝聚丙烯100重量份（A組分）、接枝率≥0.3％（重量）極性單體接枝聚乙烯5～30重量份（B組分）、胺類或醇類化合物1～10重量份、抗氧化劑0～0.5重量份、光和熱穩定劑0～0.5重量份；（2）將胺類或醇類化合物用醇和/或酮稀釋成20％～80％（重量）的溶液；（3）將A組分、B組分、抗氧化劑和熱穩定劑從喂料口加入擠出機，步驟（2）所得溶液、超臨界二氧化碳分別從第一、第二側線加入，熔融擠出制得含雜化長支鏈結構高熔體強度聚烯烴。該產品的色澤、力學性能及加工性能優良，適用于發泡、熱成型、薄膜吹塑及擠出涂覆等應用領域。

目前臨床上抗哮喘用藥主要包括糖皮質激素類藥物與β2受體激動劑（例如鹽酸丙卡特羅（美普清）），但這兩類藥物存在較大的副作用。糖皮質激素類藥物可引起水、鹽、糖、蛋白質及脂肪代謝紊亂；減弱機體抵抗力，阻礙組織修復，延緩組織愈合；抑制兒童生長發育。β2受體激動劑可引起心律失常、肌肉震顫、水鹽代謝紊亂。臨床急需療效確切、副作用小的新藥。 氣道高反應性是指氣管、支氣管本身對各種刺激，包括特異性抗原刺激和非特異性刺激，如物理、化學刺激，呈現過度反應，是支氣管哮喘病人區別于正常人的重要特征。CD38分子表達與分布在氣道平滑肌等。通過CD38分子的酶催化作用生成的環腺苷二磷酸核糖(cyclic adenosine diphosphate ribose, cADPR)來調節細胞內Ca2+的釋放而調節細胞收縮。氣道平滑肌的收縮能力主要依靠于平滑肌細胞內Ca2+的濃度，CD38分子可以調節細胞內Ca2+的濃度進而影響氣道平滑肌的收縮，在哮喘的發病機制中起到非常重要的作用。 本項目重點研究了兩種小分子CD38抑制劑，其中一種化合物即5-(3-苯基丙酰氨基)-N-(4-乙氧羰基苯基)-1H-3-吲哚甲酰胺治療能夠減輕臭氧攻擊所造成氣道與肺泡病理改變，炎癥反應、氧化損傷及氣道高反應，且無明顯血液毒性與全身性毒副作用。該化合物作為CD38酶抑制劑，可通過抑制Ca2+釋放舒張氣管平滑肌，對癥治療氣道高反應性疾病；我們利用臭氧制作小鼠氣道高反應模型，同時給予該化合物的乳化劑灌胃治療，發現經該化合物治療的小鼠氣道阻力明顯降低、動態肺順應性明顯增加、肺病變程度減輕。

主要性能指特點   您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！  ※高真空BNC直通頭，真空度達10-6pa，可用于面板安裝，也可用于機箱配線架安裝。 ※BNC雙通信號線連接，用于兩段或多段信號線連接，也可用于安裝面板，實屬工程安裝不可或缺。 ※兩端都是BNC母頭，可配合BNC公頭使用。 ※高真空BNC連接器是按照*工技術研制生產，具有卡口鎖定連接結構，可以快速接通和斷開。 ※此款真空式母頭專門用于壓接廣泛使用的RG174/188/316，50歐姆同軸線纜，真空度達10-6pa真空腔體*用屏蔽連接器。 ※BNC連接器連接扭鎖，因而特別適合射頻應用。   您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ BNC連接器主要性能指標 溫度范圍：-55℃～+165℃（PECable-40～+85℃） 特性阻抗：50Ω 頻率范圍：0～4GHz 工作電壓：500V（rms） 耐壓：1500V（rms） 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 接觸電阻    中心導體之間：≤0.002Ω 外導體之間：≤0.0025Ω 絕緣電阻：≥500MΩ 內導體保持力：≥0.57N 插入損耗：0.20dB/3GHz 連接器嚙合力：8-63N 連接器拉脫力：8-63N 電壓駐波比：直 式：≤1.22/3GHz  彎 式：≤1.30/3GHz 耐用性：≥500次 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 錦正科技以現代高科技產業和傳統產業為核心業務，對內承接科研生產任務，對外以商務平臺方式實現軍民兩用技術成果轉換，形成了科學管理的現代化經營模式，專門從事物理、化學和材料等領域的科學儀器研發、銷售各類型超低溫測試設備（液氮 液氦）制冷機系統集成 ，定制 ，高低溫真空磁場發生系統，Helmholtz線圈（全套解決方案），電磁鐵（全系列支持定制），螺線管，電子槍（高穩定性雙極性磁鐵恒流電源1ppm），高低溫磁場真空探針臺，霍爾測試系統，電輸運測量解決方案，磁光克爾效應測量系統等產品種類齊全，性能可靠，至今已有近10余年的歷史，是國內（較早）生產探針臺，電輸運，電磁鐵的廠家之一。  

集成電路是微電子技術的核心，與國防和國民經濟現代化, 乃至人們的文化生活都息息相關。集成電路由芯片和框架經封裝而成, 其中框架既是骨架又是半導體芯片與外界的聯接電路, 是芯片的散熱通道, 又是連結電路板的橋梁, 因此框架在集成電路器件和各組裝程序中占有極其重要的地位，目前，由于集成電路向高密度, 高集成化方向發展, 芯片的散熱問題已成為突出矛盾。集成電路大規模和超大規模的迅速推進，對集成電路框架及材料提出了高、精、尖、短、小、輕、薄的要求，過去廣泛使用的鐵鎳42合金已不能滿足要求。而銅合金框架材料, 利用銅合金優良的傳熱性能, 加入少量強化元素, 通過固溶強化和彌散強化提高其強度, 同時僅稍微損失導熱性能。目前，銅合金框架已成為主體，形成了中強中導、高強中導、高強高導合金系列。以前，由于在合金的熔煉工藝、軋制和熱處理工藝以及板型控制等關鍵技術與國外先進水平有較大差距，我國所使用的大規模集成電路引線框架材料長期以來都是依靠進口。目前，本課題組通過一系列研究，開發了具有自主知識產權的Cu-Ni-Si系合金，并實現了Cu-Fe-P 系合金銅帶和異型帶的國產化大規模生產。 一、Cu-Ni-Si系銅合金主要性能指標 1.抗拉強度σb：650～750MPa； 2.延伸率>8%； 3.導電率：45～60%IACS。 二、Cu-Fe-P系銅合金主要性能指標 1.抗拉強度σb：450～600MPa； 2.延伸率>7%； 3.導電率：60～80%IACS。

本專利公開了一種無氰離子的電鍍工藝，屬于材料表面處理領域。該工藝本專利是采取新的電鍍液，具有滲透性強、分散性好的特性。 鑄件在整個電鍍過程中，可以克服現有鑄鋼件電鍍工藝的所有缺陷，實現鑄件快速高效優質電鍍，該工藝具有鍍層厚度均勻、鍍層光澤度好、鍍層與鑄件結合力牢固、鍍層致密、鍍層抗氧化能力好的特點，鍍層的中性鹽霧化試驗、酸霧化試驗達到國家規定的標準（96小時無腐蝕點）。目前該項技術已經發展成熟，有很大的推廣應用價值。通過X射線能譜儀分析鍍層的成分，具體分析譜圖見附件。