本專利公開(kāi)了一種無(wú)氰離子的電鍍工藝,屬于材料表面處理領(lǐng)域。該工藝本專利是采取新的電鍍液,具有滲透性強(qiáng)、分散性好的特性。
鑄件在整個(gè)電鍍過(guò)程中,可以克服現(xiàn)有鑄鋼件電鍍工藝的所有缺陷,實(shí)現(xiàn)鑄件快速高效優(yōu)質(zhì)電鍍,該工藝具有鍍層厚度均勻、鍍層光澤度好、鍍層與鑄件結(jié)合力牢固、鍍層致密、鍍層抗氧化能力好的特點(diǎn),鍍層的中性鹽霧化試驗(yàn)、酸霧化試驗(yàn)達(dá)到國(guó)家規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)(96小時(shí)無(wú)腐蝕點(diǎn))。目前該項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)發(fā)展成熟,有很大的推廣應(yīng)用價(jià)值。通過(guò)X射線能譜儀分析鍍層的成分,具體分析譜圖見(jiàn)附件。
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