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XM-504透明肝臟模型 ? 功能特點： ■ XM-504透明肝臟模型顯示肝外形特征，肝內血管和膽管水體西面及其與肝臟分葉、分段的解剖關系，白色標志線示肝臟分葉分段。 ■ 內部分配肝內各管道系統，各管道系統均達三級分支，以顯示與肝臟分葉，分段的關系，包括： · 肝動脈系統（紅色） · 門靜脈系統（紫紅色） · 肝內膽管系統（綠色） · 肝靜脈系統（蘭色） ■ 顯示第一、二、三肝門的位置、內容、顯示經由第一肝門進出的肝動脈，門靜脈和肝管及其分叉部的相互位置關系。 ■ 尺寸：22×13.5×12.5cm ■ 材質：PVC材料

XM-918透明成人牙模型 ? XM-918透明成人牙模型由上頜牙列和下頜牙列兩個部件組成，并顯示成人上頜牙和下頜牙的形態和構造等結構。 尺寸：自然大，6.5×6.5×6.5cm 材質：樹脂材料

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制備對可見光透過良好，而對紫外線和紅外線有優良的阻隔作用，并且價格低廉，易于加工的建筑用或車用太陽膜是非常有應用價值和實際意義的。現今市場上的太陽膜，一般是采用沉積或濺射的方法在聚合物薄膜或直接在玻璃上沉積制備的一層或多層金屬或金屬氧化物，主要利用金屬膜或金屬氧化物膜對紅外線進行吸收和反射。但由于這種方法所需設備復雜昂貴，而且填充的金屬及金屬氧化物的成本也不低廉，所以制備低成本且性能優良的太陽膜成為一種需求。本項目采用價廉易得的炭黑作為填充物，與聚合物復合制備太陽膜。炭黑作為一種典型的吸光物質，對紫外線和紅外線有很強的吸收特性，但炭黑易團聚，在聚合物基體中不易分散，造成薄膜不同區域可見光和紫外線及紅外線的透過率差異很大，另外炭黑粒子的分布不均，也會造成成膜性能差，薄膜韌性不能達到應用要求。本項目首先通過對炭黑進行改性，改善其在聚合物基體中的分散，并使改性炭黑粒子的尺寸遠小于可見光的波長，粒子和基體的折射率盡量匹配，從而減小粒子填充的體積份數。炭黑經過改性后，其填充的聚合物復合薄膜將具有較好的透明性，同時又能在一定程度保持對紫外線和紅外線的強吸收特性,使這種復合薄膜作為太陽膜使用成為一種可能。本項目詳細研究了改性炭黑在基體中的分散狀況，并對復合薄膜的光學特性進行了重點研究, 解決可見光透過率與紅外線阻隔這一對矛盾，從而制備符合太陽膜性能要求的新型復合薄膜。另外，制備復合薄膜的方法簡單，操作時無需復雜昂貴的設備，因此應用前景廣闊。

在光學窗口和紅外頭罩領域，由于特殊的耐高溫和耐腐蝕性要求，能夠滿足惡劣工況下軍事應用的材料十分有限，對于新一代武器系統，目前成熟的材料只有藍寶石單晶。然而該材料具有成本高昂、加工困難、難以制備成特殊形狀等缺點，此外，其紅外截止波長不到5微米，很多實際應用受限。具有優異力學性能和較長紅外透過能力的大尺寸光學窗口材料屬于我國極缺的軍用材料，對國防安全具有特殊的意義。本實驗室以所掌握的透明陶瓷制備技術為核心，針對國防軍工對高性能窗口和頭罩的具體要求，積極開拓其在導彈頭罩、側向窗口、各種高溫光學元件保護窗口等軍用、民用領域的應用。

傳統上多采用Ni/Au金屬作為LED的電極，降低出光效率，因此，需要采用 透明電極。針對LED對透明電極的要求，利用磁控濺射法在玻璃襯底上設計不同 氣氛、襯底溫度、工作氣壓、濺射功率、靶距、濺射時間等參數下的實驗制備 CI0和ZA0薄膜，探尋制備兩類薄膜的合適的工藝條件；并研究了退火處理對制 備薄膜的結構和性能的影響。制備出高質量、高性能的CI0和ZA0薄膜，發現薄 膜的透光率均在80%以上，甚至可高達91%,電阻率達到10-3Q. cm數量級或 更低，達到了 LED用透明電極薄膜材料的性能要求。

中試階段/n透明導電薄膜是平臺式材料，是光電產業上游重要產品。柔性透明導電薄膜可以用于大尺寸柔性觸控，柔性顯示與照明、薄膜太陽能電池，可穿戴設備等戰略性新興柔性光電子產業，解決陶瓷基透明電極面臨主要成分的資源短缺和固有的脆性等不利因素，在相關領域取代ITO薄膜及金屬網格。本項目開發從材料到薄膜加工工藝的全鏈條技術，開發一系列面向不同光電器件需求的產品。目前，團隊通過第三方機構認證的樣品透過率導電性耐彎折特性處于國際先進水平。目前，正在進行小試階段的研發工作，高純原料和部分裝備可國產化。

透明柔性電子皮膚是一種基于少壁碳納米管取向陣列/高分子復合薄膜的通用器件結構，能夠監測人體關節的彎曲以及拉伸情況。在柔性高分子基底上平鋪一層少數壁碳納米管取向陣列的透明薄膜，再涂覆一層超薄的彈性高分子以形成表面光滑的碳納米管復合材料，蒸鍍上電極后即完成柔性電子皮膚的制備。測試彎曲電子皮膚的在不同電壓下的電學特性，顯示其為歐姆特性，而且電流大小與電子皮膚的彎曲角度呈現出高靈敏度、高度可重復的線性響應，即使彎曲上萬次仍能保持

傳統上多采用Ni/Au金屬作為LED的電極，降低出光效率，因此，需要采用透明電極。針對LED對透明電極的要求，利用磁控濺射法在玻璃襯底上設計不同氣氛、襯底溫度、工作氣壓、濺射功率、靶距、濺射時間等參數下的實驗制備CIO和ZAO薄膜，探尋制備兩類薄膜的合適的工藝條件；并研究了退火處理對制備薄膜的結構和性能的影響。制備出高質量、高性能的CIO和ZAO薄膜，發現薄膜的透光率均在80%以上，甚至可高達91％，電阻率達到10－3Ω.cm數