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高等教育領(lǐng)域數(shù)字化綜合服務(wù)平臺(tái)
【人民網(wǎng)】直擊高博會(huì)開(kāi)幕首日：前沿科技與教育創(chuàng)新的精彩碰撞
第63屆高等教育博覽會(huì)在長(zhǎng)春開(kāi)幕。本屆高博會(huì)以“融合·創(chuàng)新·引領(lǐng)：服務(wù)高等教育強(qiáng)國(guó)建設(shè)”為主題，吸引了近700家知名企業(yè)和1000余所高校參會(huì)。
云上高博會(huì)
2025-05-23
直聯(lián)泵(直聯(lián)高速旋片式真空泵)
寧波華茂文教股份有限公司
2021-08-23
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秸稈直燃鍋爐
本產(chǎn)品主要應(yīng)用于秸稈直燃發(fā)電廠。生物質(zhì)能已成為世界上僅次于煤炭、石油和天然氣的第四大能源。在我國(guó)，生物質(zhì)特別是秸稈發(fā)電技術(shù)得到了廣泛重視，目前已有30多個(gè)生物質(zhì)發(fā)電項(xiàng)目獲核準(zhǔn)，到2020年，我國(guó)將建成約3000萬(wàn)千瓦的生物質(zhì)發(fā)電能力。
東南大學(xué)
2021-04-10
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壓印法集成電路光刻技術(shù)
本項(xiàng)目提出一種創(chuàng)新的集成電路(IC)制造工藝路線，即壓印光刻(Imprint Lithography－IL)技術(shù)，并對(duì)該技術(shù)相關(guān)的壓印和脫模工藝機(jī)理、紫外光固化阻蝕膠材料的物化和工藝特性、與IC制造其它工藝的綜合集成和優(yōu)化、壓印光刻設(shè)備的關(guān)鍵技術(shù)等進(jìn)行研究和技術(shù)開(kāi)發(fā)。其基本原理為：以電子束直寫刻蝕(或其它刻蝕技術(shù))生成IC圖型母板(模具)，以母板(模具)步
西安交通大學(xué)
2021-01-12
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用于浸沒(méi)式光刻的浸液溫控裝置
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于浸沒(méi)式光刻的浸液溫控系統(tǒng)，包括：用 于浸液流動(dòng)的浸液管路，待溫控的浸液通過(guò)一管路進(jìn)口進(jìn)入該浸液管 路，溫控處理后的具有穩(wěn)定溫度的浸液通過(guò)該浸液管路的出口輸出； 用于對(duì)所述浸液進(jìn)行冷卻的工藝?yán)鋮s液回路，工藝?yán)鋮s液在該回路中 循環(huán)流動(dòng)；以及多個(gè)熱交換器，其沿流向依次布置，所述浸液管路和 工藝?yán)鋮s水回路同時(shí)流經(jīng)每個(gè)熱交換器，并利用各熱交換器分別依次 完成工藝?yán)鋮s液和浸液之間的熱交換，從而通過(guò)多次換熱獲得具有穩(wěn) 定溫度的浸液，實(shí)現(xiàn)對(duì)浸液的溫度控制。本發(fā)明的裝置系統(tǒng)采用內(nèi)部 回流結(jié)構(gòu)與多級(jí)熱交換器相結(jié)合，實(shí)現(xiàn)對(duì)浸液溫度的多級(jí)控制，可以 實(shí)現(xiàn)浸沒(méi)光刻中對(duì)浸液穩(wěn)定的精確穩(wěn)定的控制，提供溫控效率。
華中科技大學(xué)
2021-04-11
一種光刻掩模優(yōu)化設(shè)計(jì)方法
本發(fā)明公開(kāi)了一種光刻掩模優(yōu)化設(shè)計(jì)方法，該方法首先依據(jù)表 征掩模的網(wǎng)格格點(diǎn)尺寸大小對(duì)掩模進(jìn)行分級(jí)，在粗網(wǎng)格上快速求解掩 模，然后對(duì)在粗網(wǎng)格上求解得到的掩模進(jìn)行插值傳播到下一級(jí)較細(xì)網(wǎng) 格上進(jìn)行細(xì)化校正，最終實(shí)現(xiàn)了掩模的快速優(yōu)化。
華中科技大學(xué)
2021-04-11
微納米壓印光刻工藝及裝備
微納米結(jié)構(gòu)成形是光電子制造中的核心工藝之一。壓印光刻克服了傳統(tǒng)光學(xué)光刻中光學(xué)衍射效應(yīng)的限制，是一種經(jīng)濟(jì)、高效、高分辨的結(jié)構(gòu)成形方法。 正在探索的壓印工藝方法包括：UV-NIL、模板電誘導(dǎo)自組裝納米成形、電潤(rùn)濕驅(qū)動(dòng)納米壓印等。 正在探討壓印光刻的應(yīng)用領(lǐng)域包括：集成電路(IC)、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、生物微流控、光波導(dǎo)、光或磁存儲(chǔ)、有機(jī)光電子、平板顯示等器件的制造。
西安交通大學(xué)
2021-04-11
超衍射極限納米光刻機(jī)技術(shù)
研發(fā)階段/n1、在該方向發(fā)表論文10余篇，Nature子刊，Science子刊各一篇。。2、申報(bào)和獲得該方向相關(guān)發(fā)明專利8項(xiàng)。其中1項(xiàng)授權(quán)轉(zhuǎn)讓給Facebook，Sony和中國(guó)一家企業(yè)。在華中科技大學(xué)申報(bào)5項(xiàng)發(fā)明專利，依托武漢舒博光電技術(shù)有限公司申報(bào)2項(xiàng)發(fā)明專利。。3、研發(fā)出2代超分辨納米光刻樣機(jī)。。4、配備光學(xué)裝備開(kāi)發(fā)專門團(tuán)隊(duì)，初步建成光學(xué)精密制造和檢測(cè)平臺(tái)。
華中科技大學(xué)
2021-01-12
一種光刻掩模優(yōu)化設(shè)計(jì)方法
本發(fā)明公開(kāi)了一種光刻掩模優(yōu)化設(shè)計(jì)方法，該方法首先依據(jù)表征掩模的網(wǎng)格格點(diǎn)尺寸大小對(duì)掩模進(jìn)行分級(jí)，在粗網(wǎng)格上快速求解掩模，然后對(duì)在粗網(wǎng)格上求解得到的掩模進(jìn)行插值傳播到下一級(jí)較細(xì)網(wǎng)格上進(jìn)行細(xì)化校正，最終實(shí)現(xiàn)了掩模的快速優(yōu)化。
華中科技大學(xué)
2021-04-14
用于浸沒(méi)式光刻的浸液溫控裝置
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于浸沒(méi)式光刻的浸液溫控系統(tǒng)，包括：用于浸液流動(dòng)的浸液管路，待溫控的浸液通過(guò)一管路進(jìn)口進(jìn)入該浸液管路，溫控處理后的具有穩(wěn)定溫度的浸液通過(guò)該浸液管路的出口輸出；用于對(duì)所述浸液進(jìn)行冷卻的工藝?yán)鋮s液回路，工藝?yán)鋮s液在該回路中循環(huán)流動(dòng)；以及多個(gè)熱交換器，其沿流向依次布置，所述浸液管路和工藝?yán)鋮s水回路同時(shí)流經(jīng)每個(gè)熱交換器，并利用各熱交換器分別依次完成工藝?yán)鋮s液和浸液之間的熱交換，從而通過(guò)多次換熱獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，實(shí)現(xiàn)對(duì)浸液的溫度控制。本發(fā)明的裝置系統(tǒng)采用內(nèi)部回流結(jié)構(gòu)與多級(jí)熱交換器相結(jié)合，
華中科技大學(xué)
2021-04-14