硅單晶堿性拋光液及清洗液
一、 項(xiàng)目簡(jiǎn)介“硅單晶堿性拋光液及清洗液”項(xiàng)目,始自七十年代中期,不斷對(duì)產(chǎn)品研發(fā)與升級(jí)。FA/O硅單晶堿性拋光液,具有較高的拋光速率,能有效去除襯底表面損傷層,表面微粗糙度較低,可解決襯底片結(jié)底不平引起的噪聲增加、漏電流增大,實(shí)現(xiàn)了表面高完美性,提高了襯底片器件區(qū)的可靠性與襯底片良品率。FA/O硅單晶清洗液,采取特有的物理優(yōu)先吸附,有效去除拋光片表面顆粒物、有機(jī)物沾污,清洗后襯底片表面重金屬離子降至ppm級(jí),達(dá)到了易清洗、高潔凈。二、 項(xiàng)目技術(shù)成熟程度該項(xiàng)目的研發(fā)、應(yīng)用,滿足了硅單晶襯底片加工高去除速率、低表面粗糙度、高表面完美性、易清洗、高表面潔凈、高可靠性等指標(biāo)的工業(yè)要求。自1994年至今,產(chǎn)品已累積銷售一千多噸,性能穩(wěn)定、質(zhì)量可靠。三、 技術(shù)指標(biāo)(包括鑒定、知識(shí)產(chǎn)權(quán)專利、獲獎(jiǎng)等情況)拋光液拋光速率1.2-1.5um/min,粗糙度達(dá)A級(jí)。清洗劑可達(dá)到微電子的需求。研發(fā)的拋光液獲國(guó)家1983年發(fā)明四等獎(jiǎng)、1990年發(fā)明三等獎(jiǎng)、清洗技術(shù)獲1999年國(guó)家三等獎(jiǎng)。拋光液、拋光清洗液列為國(guó)家級(jí)科技成果重點(diǎn)推廣計(jì)劃,列為國(guó)家重點(diǎn)新產(chǎn)品。申請(qǐng)專利授權(quán)中3項(xiàng),授權(quán)6項(xiàng)。四、 市場(chǎng)前景(應(yīng)用領(lǐng)域、市場(chǎng)分析等)據(jù)統(tǒng)計(jì),僅中國(guó)(含臺(tái)灣地區(qū))硅單晶拋光液的年需求額40多億元。FA/O硅單晶堿性拋光液,廣泛用于硅分立器件、功率器件與集成電路襯底片加工。已多年供應(yīng)國(guó)內(nèi)華潤(rùn)華晶、洛陽鼎晶、深圳深愛等多家知名企業(yè),被指定唯一用于國(guó)家航天神五至神十專用集成電路高可靠襯底拋光片加工,具有廣泛的市場(chǎng)應(yīng)用前景。FA/O硅單晶清洗液,廣泛用于要求易清洗、高潔凈的硅襯底片清洗。已被中科晶電信息材料有限公司等多家知名企業(yè)應(yīng)用,市場(chǎng)應(yīng)用前景廣泛。五、 規(guī)模與投資需求(資金需求、場(chǎng)地規(guī)模、人員等需求)年產(chǎn)量5000噸的生產(chǎn)規(guī)模投資為約3000萬元,需千級(jí)以上超凈化廠房。可依產(chǎn)能需求調(diào)整資金投入。產(chǎn)品生產(chǎn)控制節(jié)點(diǎn)少,操作人員需求少,適于自動(dòng)化生產(chǎn)。六、 生產(chǎn)設(shè)備低壓真空系統(tǒng)、百級(jí)超凈車間、去離子水系統(tǒng)等。七、 效益分析生產(chǎn)工藝與操作簡(jiǎn)單、成本低、環(huán)保性好,效益較高。八、 合作方式主要采取合作生產(chǎn)、代理代銷,可提供技術(shù)支持與培訓(xùn),或面談。九、 項(xiàng)目具體聯(lián)系人及聯(lián)系方式(包括電子郵箱)項(xiàng)目聯(lián)系人:劉玉嶺 聯(lián)系電話:022-60204128Email:[email protected]十、 高清成果圖片2-3張
河北工業(yè)大學(xué)
2021-04-11