一、 項目簡介

“硅單晶堿性拋光液及清洗液”項目,始自七十年代中期,不斷對產品研發與升級。FA/O硅單晶堿性拋光液，具有較高的拋光速率，能有效去除襯底表面損傷層，表面微粗糙度較低，可解決襯底片結底不平引起的噪聲增加、漏電流增大，實現了表面高完美性，提高了襯底片器件區的可靠性與襯底片良品率。FA/O硅單晶清洗液，采取特有的物理優先吸附，有效去除拋光片表面顆粒物、有機物沾污，清洗后襯底片表面重金屬離子降至ppm級，達到了易清洗、高潔凈。

二、 項目技術成熟程度

該項目的研發、應用，滿足了硅單晶襯底片加工高去除速率、低表面粗糙度、高表面完美性、易清洗、高表面潔凈、高可靠性等指標的工業要求。自1994年至今，產品已累積銷售一千多噸，性能穩定、質量可靠。

三、 技術指標（包括鑒定、知識產權專利、獲獎等情況）

拋光液拋光速率1.2-1.5um/min,粗糙度達A級。清洗劑可達到微電子的需求。

研發的拋光液獲國家1983年發明四等獎、1990年發明三等獎、清洗技術獲1999年國家三等獎。拋光液、拋光清洗液列為國家級科技成果重點推廣計劃，列為國家重點新產品。申請專利授權中3項，授權6項。

四、 市場前景（應用領域、市場分析等）

據統計，僅中國（含臺灣地區）硅單晶拋光液的年需求額40多億元。

FA/O硅單晶堿性拋光液，廣泛用于硅分立器件、功率器件與集成電路襯底片加工。已多年供應國內華潤華晶、洛陽鼎晶、深圳深愛等多家知名企業，被指定唯一用于國家航天神五至神十專用集成電路高可靠襯底拋光片加工，具有廣泛的市場應用前景。

FA/O硅單晶清洗液，廣泛用于要求易清洗、高潔凈的硅襯底片清洗。已被中科晶電信息材料有限公司等多家知名企業應用，市場應用前景廣泛。

五、 規模與投資需求（資金需求、場地規模、人員等需求）

年產量5000噸的生產規模投資為約3000萬元，需千級以上超凈化廠房。可依產能需求調整資金投入。產品生產控制節點少，操作人員需求少，適于自動化生產。

六、 生產設備

低壓真空系統、百級超凈車間、去離子水系統等。

七、 效益分析

生產工藝與操作簡單、成本低、環保性好，效益較高。

八、 合作方式

主要采取合作生產、代理代銷，可提供技術支持與培訓，或面談。

九、 項目具體聯系人及聯系方式（包括電子郵箱）

項目聯系人：劉玉嶺 

聯系電話：022-60204128

Email：[email protected]

十、 高清成果圖片2-3張