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一種可防止取多張非覆膜編織袋的取袋設備
本發(fā)明公開了一種可防止取多張非覆膜編織袋的取袋設備，包括機架及安裝在機架上的取袋翻袋機構、分袋機構、翻轉壓袋機構、袋口托板和吹氣噴嘴，所述取袋翻袋機構包括取袋翻袋安裝架、取袋氣缸、下壓板、翻轉氣缸旋轉軸、取袋吸盤、翻轉氣缸、翻轉板、活動鉸鏈、活頁、夾袋旋轉氣缸、夾板軸和夾板；所述分袋機構包括驅動電機、傳動機構和分袋板。本取袋設備采用從袋尾取袋的方式，吸盤在吸取上層袋時，下層袋在袋尾重量作用下容易與上層袋分離；此外，由于袋尾部分的厚度比袋中部分厚，因此在袋庫中，編織袋堆疊后，各層袋袋尾之間較袋口易形成較大間隙，間隙間存在空氣越多，包裝袋越容易分離。
華中科技大學
2021-01-12
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一種用于液流電池的不對稱無機陶瓷膜及其制備方法
本發(fā)明公開了一種用于液流電池的不對稱無機陶瓷膜及其制備方法，屬于電池隔膜技術領域。用于液流電池的不對稱無機陶瓷膜包括基底層、過渡層和選擇層；基底層為厚度為0.5~2 mm、孔徑為0.5~3μm的氧化鋁陶瓷片；過渡層的材質為氧化鋁，其厚度為10~30μm，孔徑為80~120 nm；選擇層為單層或多層結構，選擇層中各層的材質為氧化鋁、氧化鈦和氧化鋯中的至少一種，每一層的厚度為0.5~5μm，孔徑為2~10 nm。本發(fā)明的用于液流電池的不對稱無機陶瓷膜攜帶大量的羥基基團，這些呈電負性的羥基基團通過道南效應可以排斥鋅酸根離子，從而有效避免金屬鋅的不規(guī)則沉積，進而有效抵御鋅枝晶對隔膜的刺穿。
南京工業(yè)大學
2021-01-12
一種單晶石榴石厚膜的間歇式液相外延生長方法
專利內容是本發(fā)明針對背景技術存在的缺陷，提出了一種單晶石榴石厚膜的間歇式液相外延生長方法，緩解了襯底與薄膜之間的應力產生，得到的單晶石榴石厚膜可作為磁光或微波厚膜應用，該方法制得的磁光厚膜的厚度可達100µm以上。
電子科技大學
2021-02-01
一種糖基/磺化改性親和聚合物中空纖維分離膜、其制備方法及用途
本發(fā)明公開一種糖基/磺化改性親和聚合物中空纖維分離膜及其制備方法。該膜由聚合物樹脂、磺化聚合物樹脂和糖類高分子組成，在優(yōu)選的原料與比例下對LDL有良好的特異性吸附作用，且具有良好的穩(wěn)定性和生物相容性，可重復使用，成本低廉，有望投入大規(guī)模臨床應用。其制備方法包括以下過程:將膜用聚合物樹脂、磺化聚合物樹脂、糖類高分子、致孔劑按一定比例溶于溶劑，制成均一的紡絲制膜液，將紡絲制膜液過濾、真空脫泡后，通過浸沒沉淀相轉化法紡絲制備中空纖維成膜，然后將所制得的中空纖維膜依次在去離子水和超純水充分漂洗。本發(fā)明采用的共混溶解制備法具有操作簡便安全、原材料廉價易得等優(yōu)點。
浙江大學
2021-04-11
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超晶格結構的納米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制備方法
簡介：本發(fā)明提供一種超晶格結構的納米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制備方法,屬于材料表面技術領域。本發(fā)明該超硬膜是由電弧離子鍍的納米晶體相Cr2N和磁控濺射鍍的非晶體相WC層交替沉積而成,并且,超晶格的調制周期為10～20nm,Cr2N單層和WC單層的厚度分別為8～14nm和2～6nm。本發(fā)明的優(yōu)點在于:Cr2N層與WC層交替分布實現(xiàn)了Cr-N基膜成分多元化和結構多層化,解決了抗氧化性較強的Cr-N基膜獲得超高硬度的難題,同時非晶WC層進一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蝕性能,滿足不能熱處理的
安徽工業(yè)大學
2021-04-14
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復極式離子膜電解槽極網自動化激光焊接成套技術裝備
北京工業(yè)大學
2021-04-14
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低能耗低污染膜/生物反應器（MBR） 污水處理技術與設備
技術特點及優(yōu)勢 1、對現(xiàn)有的用于污水處理的膜進行改性，提高膜通量，減小跨膜壓力。膜通量較現(xiàn)有膜提高2倍以上，跨膜壓力只有1米左右水柱。 2、突破了以往MBR膜都是與泥水直接接觸的固有形式，對MBR結構進行了改進，減少膜與污泥、胞外聚合物（EPS）等膜污染關鍵物質的接觸，可以極大緩解膜污染問題； 3 、采用的廉價耐污染膜材料，延長膜的使用壽命，降低運行成本； 4 、控制反應器微生物處于內源呼吸期，反應器中能有效建立細菌—原生動物—后生動物微生態(tài)系
哈爾濱工業(yè)大學
2021-04-14
一種燃料電池膜電極熱壓頭上表面貼片的糾偏補償方法
本發(fā)明公開了一種燃料電池膜電極熱壓頭上表面貼片的糾偏補償方法。傳統(tǒng)的機器視覺采圖后擺動氣缸翻轉，然后貼片，不能保證GDL 的貼裝精度，另外，由于 GDL 料盒比 GDL 本身尺寸稍大，不能保證每次真空拾取機構吸取 GDL 的中心軸線都與旋轉軸的中心軸線重合，因此翻轉后也會有誤差。本發(fā)明主要解決這兩個誤差的計算和補償方法，實現(xiàn)熱壓頭上表面的準確貼片。本發(fā)明基于現(xiàn)有的 GDL 熱壓裝備實現(xiàn)，首先對相機進行標定，標定兩個相機各自的像素坐標系和世界坐標系的關系，分別根據是由安裝誤差引起的貼片糾偏或者是由軸線
華中科技大學
2021-04-14
一種納米氫氧化鈷-石墨烯復合膜、其制備方法及應用
本發(fā)明公開了一種納米氫氧化鈷-石墨烯復合膜、其制備方法及 應用。所述復合膜，包括納米石墨烯底層和納米氫氧化鈷表層，所述 納米石墨烯底層厚度在 4000nm 至 6000nm 之間，所述納米氫氧化鈷表 層厚度在 50nm 至 100nm 之間，所述納米氫氧化鈷表層均勻沉積在所 述納米石墨烯底層上。其制備方法，包括以下步驟：將氧化石墨烯均 勻分散于水中，涂敷在片狀導電基底上，干燥得到納米氧化石墨烯膜； 組建三電極體系采用
華中科技大學
2021-04-14
適用于對移動中的柔性膜執(zhí)行標識的多自由度打標裝置
本發(fā)明屬于柔性膜質量檢測設備相關領域，并公開了一種適用 于對移動中的柔性膜執(zhí)行標識的多自由度打標裝置，包括支撐組件、 傳動組件、動力組件、打標針組件和記號筆組件，其中支撐組件可實 現(xiàn)打標裝置的機械連接，同時還具有導向和位置調節(jié)的功能；動力組 件為打標裝置提供可控的動力，傳動組件可適于在運動中多自由度地 驅動打標針組件和記號筆組件，并提供高精度的打標操作；打標針組 件和記號筆組件分別可在柔性膜上打出針孔和顏色標記，并檢測標記 是否成功完成。通過本發(fā)明，在高速運動過程中也能夠高精度、穩(wěn)定 可靠地執(zhí)行打標操作，而且反應靈敏度高，因而尤其適用于 RFID 標 簽之類對表面標識質量高的運用場合。
華中科技大學
2021-04-11