溝道的刻蝕方法、半導(dǎo)體器件及其制備方法與電子設(shè)備
本發(fā)明提供了一種溝道的刻蝕方法,提供一待刻蝕對象,對所述待刻蝕對象一次刻蝕后,交替進行表面處理?二次刻蝕,直至刻蝕掉所有的鰭結(jié)構(gòu)的犧牲層;其中,一次刻蝕用于刻蝕掉所述若干鰭結(jié)構(gòu)中當前寬度最小的鰭結(jié)構(gòu)的全部犧牲層以及其它寬度更寬的鰭結(jié)構(gòu)的部分犧牲層;表面處理用于在待刻蝕對象的溝道層與剩余的犧牲層的暴露在外的表面形成保護層;所述二次刻蝕用于刻蝕掉當前寬度次之的鰭結(jié)構(gòu)的全部的犧牲層,以及所述保護層。本發(fā)明在傳統(tǒng)的刻蝕工藝中加入氧化步驟,既實現(xiàn)了對溝道層的保護,又實現(xiàn)了在不同溝道寬度的刻蝕中,減少溝道層的損失量。
復(fù)旦大學(xué)
2021-01-12