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（專利號(hào)：ZL 201410545674.X） 簡(jiǎn)介：本發(fā)明公開了一種含有-SO3H的酸性磁性材料催化制備縮醛(酮)的方法，屬于化學(xué)材料及其制備技術(shù)領(lǐng)域。該制備方法中所用醛或酮與醇的摩爾比為1：(1～5)，以-SO3H計(jì)算所用酸性磁性材料催化劑的摩爾量是所用醛或酮的8～10％，反應(yīng)溫度為110℃，反應(yīng)時(shí)間為0.5～3h，反應(yīng)壓力為一個(gè)大氣壓，反應(yīng)后冷卻至室溫，用磁鐵吸出催化劑，反應(yīng)液通過氣相色譜分析檢測(cè)反應(yīng)原料的轉(zhuǎn)化率、選擇性及縮醛(酮)

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 1.      主要參數(shù)： ★掃描方式：激光手持照相式 ★掃描技術(shù)：激光線網(wǎng)格掃描技術(shù) 幀掃描區(qū)域：250mm×250mm 景深：250mm（自動(dòng)） 工作距離：300mm ★掃描速率： 300000次/秒 掃描分辨率：0.100（毫米） ★測(cè)量精度：0.03 mm ★體積精度：0.020 + 0.100（毫米/米） 體積精度（結(jié)合DigiMetric）：0.020 + 0.025（毫米/米） 測(cè)量范圍（物件尺寸）：0.1 ～6米，可擴(kuò)展 傳輸方式： USB3.0 工作溫度：-10 - 40℃ 工作濕度：10 - 90 % 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)配置與功能 數(shù)據(jù)采集傳感器：高速、高精密工業(yè)級(jí)相機(jī)2臺(tái) ★內(nèi)置微慣性傳感器，實(shí)時(shí)輸出設(shè)備位姿； ★測(cè)量光源：10束交叉激光線，激光級(jí)別ClassII(人眼安全)，波長(zhǎng)大于600納米 計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：支持windows 7，32位和64位操作系統(tǒng)，支持內(nèi)存16G以上 拼接方式：系統(tǒng)整合“專業(yè)模式”全自動(dòng)標(biāo)志點(diǎn)拼接模塊 全局誤差控制方式：GREC Pro全局誤差控制 ★掃描方式：FLESA可變點(diǎn)距掃描 ★使用方便：整個(gè)過程全部手持完成，無(wú)需三腳架等支撐裝置 所測(cè)量的物體表面可不做任何形式（如噴白）的預(yù)先處理 防抖設(shè)計(jì)：采用先進(jìn)的防抖動(dòng)算法，防止掃描過程中人為的抖動(dòng)對(duì)誤差的影響 自動(dòng)探測(cè)被掃描物體顏色材質(zhì)，從而自動(dòng)調(diào)節(jié)激光亮度及CCD曝光 可一鍵自動(dòng)過濾掃描背景數(shù)據(jù)，自動(dòng)刪除雜點(diǎn)及過濾不良點(diǎn)云數(shù)據(jù) 軟件界面實(shí)時(shí)捕捉靜態(tài)圖像，一鍵截圖功能 ★碳纖維材質(zhì)標(biāo)定板，輕量化，抗壓耐高溫，不易變形，非石英玻璃材質(zhì)。雙面標(biāo)定，白平衡標(biāo)定功能，有效減少掃描噪聲 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)軟件功能 ★全中文軟件界面 ★自適應(yīng)形面掃描模塊 自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)參數(shù)，自適應(yīng)各種材質(zhì)/顏色表面的不同掃描對(duì)象，無(wú)需手動(dòng)調(diào)節(jié)； FLESA可變點(diǎn)距掃描，在同一次掃描中，可對(duì)點(diǎn)距進(jìn)行靈活設(shè)置和改變，同時(shí)滿足高速掃描以及精細(xì)掃描的需求 ★自動(dòng)拼接模塊 智能標(biāo)志點(diǎn)識(shí)別技術(shù)：系統(tǒng)自動(dòng)跟蹤識(shí)別標(biāo)志點(diǎn)； 慣性—光學(xué)混合式傳感器定位技術(shù)，實(shí)時(shí)將數(shù)據(jù)自動(dòng)配準(zhǔn)到同一坐標(biāo)系； GREC Pro全局誤差控制模塊，可對(duì)拼接后的誤差進(jìn)行全局控制； ★全局框架掃描模塊 全局框架掃描技術(shù)，對(duì)框架點(diǎn)累積誤差進(jìn)行全局控制； 兼容DigiMetric系統(tǒng)，搭載全局?jǐn)z影測(cè)量技術(shù)可將掃描范圍擴(kuò)展至幾十米； ★后處理模塊 掃描數(shù)據(jù)后，可進(jìn)行點(diǎn)云噪聲處理及修剪 內(nèi)置友好的網(wǎng)格處理控制參數(shù)人機(jī)交互界面，可對(duì)去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等網(wǎng)格處理參數(shù)進(jìn)行設(shè)置 自動(dòng)生成STL三角面 自動(dòng)對(duì)三角網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行補(bǔ)洞、去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等處理 數(shù)據(jù)輸入輸出 導(dǎo)出結(jié)果為ASC，STL，OBJ，OKO等格式數(shù)據(jù)輸出接口廣泛,測(cè)量結(jié)果可與CATIA、Geomagic Studio、Imageware等逆向工程軟件自由交換數(shù)據(jù) 配備三維數(shù)據(jù)管理系統(tǒng)  1套 采用三維引擎實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型、圖片和文字的顯示； ★采用Access數(shù)據(jù)庫(kù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)對(duì)象的樹狀管理和從圖片上選擇區(qū)域進(jìn)行切換等功能，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)三維數(shù)據(jù)、圖片和文字的有效管理； ★能對(duì)三維數(shù)據(jù)進(jìn)行多層次樹狀結(jié)構(gòu)管理，實(shí)現(xiàn)從大場(chǎng)景到局部細(xì)節(jié)的有效管理； ★支持對(duì)三維模型、圖片和文字的綜合管理，并能相互切換； 支持從圖片上選擇區(qū)域切換，用戶可以隨心所欲的瀏覽對(duì)象的每一個(gè)細(xì)節(jié)； ★截取高清晰的光照?qǐng)D信息； ★實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型的分析如距離等進(jìn)行量測(cè)，得到最準(zhǔn)確的測(cè)繪資料； 數(shù)據(jù)庫(kù)基于Windows XP操作系統(tǒng)； 三維模型的支持格式為： STL，OBJ，VRML，IGES，OKO； 圖片支持的格式為：JPG，BMP； 文字支持的格式為：html； ★素材支持：配備一個(gè)3d素材庫(kù)，素材庫(kù)數(shù)量須大于2萬(wàn)個(gè)，素材涵蓋人物、卡通、教育、建筑、時(shí)尚、玩具、動(dòng)物、植物、家居、工具、動(dòng)漫游戲等類別，素材擁有25個(gè)以上特色專題，每個(gè)專題包含至少5個(gè)以上同類別優(yōu)質(zhì)素材。素材庫(kù)包含網(wǎng)站及APP，APP同步支持安卓及IOS下載，素材庫(kù)系統(tǒng)須取得電腦終端與iphone移動(dòng)終端及Android移動(dòng)終端《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書》。 2. 提供生產(chǎn)廠商對(duì)本項(xiàng)目的原廠項(xiàng)目授權(quán)委托書及售后服務(wù)承諾書原件。（須加蓋生產(chǎn)廠商單位公章） 3. 投標(biāo)單位配備的3D模型庫(kù)需提供《軟件著作權(quán)登記證書》。（復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章） 4. 投標(biāo)人所投3D掃描儀具有中美青年創(chuàng)客大賽指定3D掃描品牌證書 第1條所列產(chǎn)品參數(shù)為招標(biāo)基礎(chǔ)要求，加★部分為必須滿足項(xiàng)，投標(biāo)產(chǎn)品的參數(shù)值應(yīng)符合或高于本條要求。投標(biāo)單位須提供投標(biāo)產(chǎn)品的印刷彩頁(yè)，并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)參數(shù)。 第2條項(xiàng)目授權(quán)委托書及售后服務(wù)承諾書須提供原件并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第3條《軟件著作權(quán)登記證書》須提供復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第4條要求為招標(biāo)附加要求，投標(biāo)產(chǎn)品如符合要求，可加5分，如不符合，須減5分。

本發(fā)明公開了一種面向自由組合化可快速插裝的生物3D打印噴頭及其方法,可以通過燕尾連接塊連接實(shí)現(xiàn)多個(gè)主/副電磁閥快噴頭單元的自由組合與快速組裝，且多個(gè)噴頭單元只需一個(gè)供氣口供氣，解決了傳統(tǒng)打印噴頭每個(gè)噴頭單元都需要一個(gè)供氣口的技術(shù)難題，同時(shí)組裝在一起的多個(gè)噴頭單元可以在垂直方向上用一個(gè)電機(jī)或其他傳動(dòng)裝置來(lái)控制沉積高度，噴頭單元可利用擠出的氣動(dòng)壓力使噴頭單元內(nèi)部料筒向下運(yùn)動(dòng)從而將工作的噴頭從其他噴頭中篩選出來(lái)，這樣可實(shí)現(xiàn)多個(gè)噴頭單元的快速組裝，而且避免其他噴頭對(duì)工作成形面的干擾，也可簡(jiǎn)化系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，降低成本。

石墨烯是材料科學(xué)領(lǐng)域的一顆迅速崛起的明星，開啟了二維材料的大門。作為納米光電子器件廣泛使用的理想電極材料，石墨烯除了具有優(yōu)異的彈性和剛度外，還具有最高的載流子遷移率(104-105 cm2 V-1 s-1)。然而，石墨烯作為一種典型的半金屬材料，它的零帶隙極大地限制了其在半導(dǎo)體工業(yè)的應(yīng)用。自石墨烯被發(fā)現(xiàn)以來(lái)，它的零帶隙一直是世界范圍內(nèi)最具挑戰(zhàn)性的難題之一。  多年來(lái)，人們一直致力于解決這一關(guān)鍵問題，最主要的打開石墨烯帶隙方法可以概括為下面兩種。第一種是通過摻雜、吸附、襯底相互作用、外加電場(chǎng)、應(yīng)變、建立二維異質(zhì)結(jié)等方法直接打開石墨烯的帶隙。不幸的是，在打開石墨烯帶隙的同時(shí)，保持其具有超高載流子遷移率的線性電子色散的多種嘗試，至今仍未成功。第二種方法是開辟新的路徑，尋找新的具有超高載流子遷移率（線性色散）的二維材料，如二硫化鉬、硅烯、鍺烯和磷烯等，它們構(gòu)成了新的二維材料家族。遺憾的是，迄今還沒有發(fā)現(xiàn)任何具有類似石墨烯線性電子色散和超高載流子遷移率的二維半導(dǎo)體。 北京大學(xué)物理學(xué)院史俊杰教授及其研究團(tuán)隊(duì)注意到：鈣鈦礦材料具有多樣的組成和結(jié)構(gòu)，如ABX3(具有三個(gè)不同原子位置的三維結(jié)構(gòu))、A'2[An-1BnX3n+1] (二維Ruddlesden-Popper型結(jié)構(gòu))、A'[An-1BnX3n+1] (二維Dion-Jacobson型結(jié)構(gòu))、A'2An-1BnX3n+3(二維111型結(jié)構(gòu))和AnBnX3n+2(二維110型結(jié)構(gòu))等，為材料設(shè)計(jì)提供了一個(gè)理想和龐大的平臺(tái)。此外，鈣鈦礦結(jié)構(gòu)中陽(yáng)（陰）離子價(jià)態(tài)的劈裂和置換，陽(yáng)（陰）離子的混合等，為組分工程提供了更多的可能性，從而極大地調(diào)節(jié)了所設(shè)計(jì)的鈣鈦礦材料的電子結(jié)構(gòu)（帶隙和電子色散）及物理、化學(xué)性質(zhì)，為尋找具有新奇性質(zhì)的材料開辟了一條新的道路。圖注：左圖為二維Ca3Sn2S7鈣鈦礦結(jié)構(gòu)示意圖，中圖為它的三維線性色散能帶圖（帶隙0.5 eV），右圖為它的光吸收系數(shù)，并與光伏明星材料MAPbI3及Si的光吸收系數(shù)作對(duì)比。 最近，他們?cè)诹蚧镡}鈦礦的研究中，意外發(fā)現(xiàn)了一種新奇的穩(wěn)定且環(huán)境友好的二維鈣鈦礦半導(dǎo)體Ca3Sn2S7材料，它具有類似石墨烯的線性Dirac錐電子色散，直接的本征準(zhǔn)粒子帶隙0.5 eV，超小載流子有效質(zhì)量0.04m0，室溫下載流子遷移率高達(dá)6.7×104 cm2V-1s-1，光吸收系數(shù)高達(dá)105 cm-1（超越鈣鈦礦光伏明星材料MAPbI3）, 從一個(gè)全新的角度實(shí)現(xiàn)了打開石墨烯帶隙的夢(mèng)想。該研究將會(huì)為二維鈣鈦礦材料的設(shè)計(jì)和研發(fā)提供新的思路，并進(jìn)一步促進(jìn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

本發(fā)明提出一種3?苯磺酰類香豆素類化合物的合成方法，屬于有機(jī)合成領(lǐng)域，能夠直接利用香豆素類化合物與苯亞磺酸鈉類化合物為原料合成3?苯磺酰類香豆素類化合物。該技術(shù)方案包括向反應(yīng)瓶中分別加入香豆素類化合物和苯亞磺酸鈉類化合物，在碘和二甲基亞砜作用下，于55℃?70℃溫度下反應(yīng)8?10小時(shí)；待反應(yīng)結(jié)束后，進(jìn)行色譜分離，得到3?苯磺酰類香豆素類化合物。本發(fā)明能夠應(yīng)用于3?苯磺酰類香豆素類化合物的合成中，該

一種 g-C3N4/NiCo2S4 復(fù)合材料、制備方法及其應(yīng)用。具體是將 g-C3N4 和 NiCo2S4 混合得到，該混合可以是固相混合，也可以是液相 混合，本發(fā)明得到的 g-C3N4/NiCo2S4 復(fù)合材料能極大的增加了提高材 料的穩(wěn)定性，將復(fù)合電極作為超級(jí)電容器工作電極材料進(jìn)行測(cè)試，在 大電流密度條件下仍能具有較高的比電容量、較好的倍率性能和循環(huán) 穩(wěn)定性。

簡(jiǎn)介：本發(fā)明公開了一種鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料在降解有機(jī)染料廢水中的應(yīng)用，屬于光催化材料技術(shù)領(lǐng)域。該光催化材料的制備包括如下步驟：將三聚氰胺和KI充分研磨后平鋪于坩堝底部，將SBA?15均勻的分散在三聚氰胺和KI混合物的上面，然后將坩堝加蓋后置于馬弗爐內(nèi)進(jìn)行煅燒，產(chǎn)物經(jīng)處理后即得所述鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料。該光催化材料比表面積大使得反應(yīng)活性位點(diǎn)增加，鉀摻雜后可有效抑制光生電子和空穴的復(fù)合，表現(xiàn)出更優(yōu)異的光催化性能。本發(fā)明鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料可降解有機(jī)染料廢水，在60min能降解80％以上的目標(biāo)降解物，顯示了優(yōu)異的光催化活性。

本發(fā)明公開了一種基于納秒-皮秒-飛秒激光技術(shù)的金屬制品 3D 打印方法，該方法采用集成光纖激 光器提供納秒激光對(duì)金屬原材料進(jìn)行燒結(jié)熔化及固化，同時(shí)，使用皮秒或飛秒激光對(duì)精加工區(qū)域進(jìn)行 精加工。實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)可采用多種宏觀和微觀檢測(cè)手段，具體選用哪些檢測(cè)手段取決于待制作產(chǎn)品所 需精度。本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)更精確的尺寸控制，提高了打印效率，省去了傳統(tǒng) 3D 打印后所需的清

本發(fā)明提出了一種基于 3D 協(xié)同濾波與低秩矩陣重建的視頻去噪系統(tǒng)及方法，本發(fā)明首先對(duì)含噪視頻進(jìn) 行 3D 協(xié)同濾波預(yù)處理，得到基礎(chǔ)估計(jì)然后對(duì)基礎(chǔ)估計(jì)再進(jìn)行低秩矩陣重建來(lái)進(jìn)行進(jìn)一步的去噪，來(lái)得到最 終估計(jì)；本發(fā)明主要應(yīng)用于視頻去噪中，特別是應(yīng)用于基于 3D 協(xié)同濾波與低秩矩陣重建的視頻去噪；同時(shí) 本發(fā)明所提出去噪方法也適用于圖像的去噪，對(duì)于較大分辨率的圖像、視頻源也具有良好的去噪效果；此外， 本發(fā)明不僅對(duì)單純的高斯噪聲具有良好的去噪效果，同時(shí)對(duì)含