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近日，我校化工學院功能膜與電子化學品團隊青年教師莊黎偉博士，與美國約翰霍普金斯大學、北卡羅來納州立大學等單位合作，開發了一套原子層沉積（ALD）技術在多孔材料納米孔道內進行薄膜沉積的數值模型，可用于預測2-5納米孔道內前驅體擴散、吸附、脫附、沉積反應以及孔道收縮直至堵塞的動態過程。