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良田小壁掛高拍儀
深圳市新良田科技股份有限公司
2021-08-23
大學(xué).jpg){kind=logo}
針對我國低 C/N 比污水現(xiàn)狀和深度脫氮除磷的要求，本項目全面開發(fā)適用于低 C/N 比污水處理的A2
高倍聚光光伏技術(shù)（HCPV）也稱為第三代光伏技術(shù)，是通過光學(xué)聚光器（聚光倍數(shù) 500-2000）將大面積的太陽光匯聚在很小面積的高效太陽能電池上，而進(jìn)行發(fā)電的一種技術(shù)。 與傳統(tǒng)的晶硅太陽能和薄膜太陽能相比，具有光電效率高、平衡時間短、度電成本低、無污染、壽 命長、土地綜合利用率高等優(yōu)點。 預(yù)計到 2020 年，HCPV 發(fā)電技術(shù)會成為人類最主要的太陽能發(fā)電方式之一。
北京工業(yè)大學(xué)
2021-04-13
良田快速打印文檔高拍儀S500A3B商務(wù)高拍儀
深圳市新良田科技股份有限公司
2021-08-23
良田S620A3掃碼高拍儀人物拍攝集成高拍儀
深圳市新良田科技股份有限公司
2021-08-23
良田S1020C多功能高拍儀指紋識別高拍儀
深圳市新良田科技股份有限公司
2021-08-23
良田辦事大廳高拍儀H620A3D活體識別高拍儀
深圳市新良田科技股份有限公司
2021-08-23
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一種提高熒光粉熱穩(wěn)定性的方法
最近以來，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點，獲得了大規(guī)模的應(yīng)用。在實際應(yīng)用過程中，熒光粉會由于熱量的產(chǎn)生，而發(fā)生發(fā)光強度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標(biāo)的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應(yīng)用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過程及工作過程中會發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因為在涂屏PDP過程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機溶劑。這樣會使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過程中則會發(fā)生真空紫外激勵的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因為高能粒子的濺射會造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導(dǎo)致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍(lán)色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對熒光粉進(jìn)行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個有效途徑，因為通過包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學(xué)活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國專利CN1667081A公開了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國專利CN1664051A公開了一種氧化鎂包覆熒光粉的方法。這些方法均一定程度上解決了目前藍(lán)色熒光粉的衰減問題。但由于這些方法都是采用液相法,對溶液的酸堿性要求高，工藝較復(fù)雜，最終產(chǎn)品性能重復(fù)性差。 本專利通過一種新型包覆方法，在粉體表面沉積原子層的惰性層，通過精確控制碳的沉積厚度在1nm左右,如下圖，可保持表面包覆層在紫外至紅外波段的透明度,有效消除熒光粉表面缺陷而不影響光的入射和出射，從而有效地提高熒光粉的發(fā)光效率。 該方法適用于氧化物和氮化物熒光粉，普適性好，可提高熒光粉的熱穩(wěn)定20%以上，具有成本低，工藝簡單，重復(fù)性好等優(yōu)點，易于大規(guī)模生產(chǎn)。
電子科技大學(xué)
2021-04-10
一種提高熒光粉熱穩(wěn)定性的方法
最近以來，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點，獲得了大規(guī)模的應(yīng)用。在實際應(yīng)用過程中，熒光粉會由于熱量的產(chǎn)生，而發(fā)生發(fā)光強度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標(biāo)的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應(yīng)用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過程及工作過程中會發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因為在涂屏PDP過程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機溶劑。這樣會使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過程中則會發(fā)生真空紫外激勵的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因為高能粒子的濺射會造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導(dǎo)致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍(lán)色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對熒光粉進(jìn)行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個有效途徑，因為通過包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學(xué)活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國專利CN1667081A公開了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國專利CN1664051A公開了一
電子科技大學(xué)
2021-04-10
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全自動晶圓級LED熒光粉智能涂覆機
項目成果/簡介: 本產(chǎn)品圍繞晶圓級、芯片級和倒裝等先進(jìn)封裝形式的大功率白光LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展重大需求，突破了高速高均勻度熒光粉膠霧化涂覆控制、生產(chǎn)過程品質(zhì)控制與優(yōu)化管理等核心技術(shù)，自主研發(fā)了面向晶圓級級封裝的全自動晶圓級LED熒光粉高均勻涂覆機。本產(chǎn)品采用自動上下料傳送機構(gòu)、自動加熱、自動視覺定位、涂覆厚度自動檢測、自動按照設(shè)定路徑和涂覆參數(shù)進(jìn)行涂覆，是以復(fù)雜的光機電一體化精密封裝設(shè)備，主要技術(shù)性能指標(biāo)達(dá)到國內(nèi)領(lǐng)先水平。 應(yīng)用于LED生產(chǎn)行業(yè)，滿足了各種新型LED封裝自動化生產(chǎn)需求，有效提升了封裝質(zhì)量、熱阻分散性、色品一致性、出光效率等性能指標(biāo)和產(chǎn)業(yè)競爭力。推動我國半導(dǎo)體照明等新興戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)的持續(xù)性發(fā)展。 全自動晶圓級LED熒光粉智能涂覆機知識產(chǎn)權(quán)類型:發(fā)明專利技術(shù)先進(jìn)程度:達(dá)到國內(nèi)領(lǐng)先水平成果獲得方式:獨立研究獲得政府支持情況:無
華南理工大學(xué)
2021-04-10
全自動晶圓級LED熒光粉智能涂覆機
本產(chǎn)品圍繞晶圓級、芯片級和倒裝等先進(jìn)封裝形式的大功率白光LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展重大需求，突破了高速高均勻度熒光粉膠霧化涂覆控制、生產(chǎn)過程品質(zhì)控制與優(yōu)化管理等核心技術(shù)，自主研發(fā)了面向晶圓級級封裝的全自動晶圓級LED熒光粉高均勻涂覆機。本產(chǎn)品采用自動上下料傳送機構(gòu)、自動加熱、自動視覺定位、涂覆厚度自動檢測、自動按照設(shè)定路徑和涂覆參數(shù)進(jìn)行涂覆，是以復(fù)雜的光機電一體化精密封裝設(shè)備，主要技術(shù)性能指標(biāo)達(dá)到國內(nèi)領(lǐng)先水平。
應(yīng)用于LED生產(chǎn)行業(yè)，滿足了各種新型LED封裝自動化生產(chǎn)需求，有效提升了封裝質(zhì)量、熱阻分散性、色品一致性、出光效率等性能指標(biāo)和產(chǎn)業(yè)競爭力。推動我國半導(dǎo)體照明等新興戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)的持續(xù)性發(fā)展。
全自動晶圓級LED熒光粉智能涂覆機
華南理工大學(xué)
2021-05-11