高性能電磁屏蔽、隱身光學(xué)元件的設(shè)計(jì)、制備與應(yīng)用
常見的光學(xué)窗口材料一般是絕緣體,其電磁屏蔽能力往往比較差。為了提高光學(xué)窗口的電磁屏蔽性能,本成果通過(guò)設(shè)計(jì)、制備特殊薄膜結(jié)構(gòu),在保證其高光學(xué)透過(guò)率的前提下,實(shí)現(xiàn)電磁屏蔽性能的巨大提升。該類型窗口元件透過(guò)率大于90%@可見及近紅外區(qū),明視覺(jué)反射率分別為:8度0.24%,15度0.21%,30度0.27%;方塊電阻低于10ohm/sq,電磁屏蔽能力優(yōu)于24dB@100MHz-18GHz,經(jīng)用戶確認(rèn),性能指標(biāo)處于國(guó)內(nèi)領(lǐng)先,達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。
上海理工大學(xué)
2023-05-15