復雜光滑表面形變的高精度瞬態(tài)測量技術
擬針對復雜光滑表面加工原位測量、半導體材料生長監(jiān)控、MEMS膜層材料特性等研究領域應用中,動態(tài)檢測所帶來的基準面形變化大、形變動態(tài)范圍大、檢測速度要求高等難題,提供一種光滑表面形變高精度瞬態(tài)測量技術。最大可測形變量可達150微米,精度優(yōu)于1微米,測量速度優(yōu)于10幀每秒。 本項目研究團隊長期從事精密光電測試及成像理論和技術科研工作。在國家自然科學基金等支持下,深入研究了基于部分補償法和數(shù)字莫爾移相干涉的光學面形測試理論和方法,形成了光學面形高精度測量的系統(tǒng)理論,并研發(fā)了光學面形高精度測量原理樣機,在中國空間技術研究院、中國計量研究院、清華大學深圳研究生院等重要科研單位得到應用,解決相關的技術難題。先后申請國家發(fā)明專利18項,已獲授權13項,發(fā)表學術論文30余篇。
北京理工大學
2021-02-01