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本發(fā)明公開了一種電場輔助的硅通孔刻蝕工藝，包括步驟：（1）在單晶硅片上旋涂光刻膠并通過光學(xué)光刻或電子束光刻得到光刻膠圖形 ；（ 2 ） 鍍 上 銀 膜 或 金 膜 ；（ 3 ） 在 電 場 之 中 ， 采 用 HF 、H₂O₂和去離子水的混合溶液作為刻蝕劑進(jìn)行金屬催化刻蝕；（4）去除光刻膠；（5）去除單晶硅片上殘留的金屬膜并進(jìn)行清洗處理。本發(fā)明通過在刻蝕過程中控制電場強(qiáng)度，由此形成從數(shù)十納米至數(shù)

合作的企業(yè)類型等。簡介請圖文并茂，字?jǐn)?shù)1000字以內(nèi)。） 本項(xiàng)目針對薄壁群孔結(jié)構(gòu)，研制出專用工藝及裝備，可顯著提高生產(chǎn)效率，降低制造成本，最小加工孔徑0.5mm,最大板厚1mm。適用于航空航天、電子等行業(yè)。研制出電鑄微小群孔的工藝，可實(shí)現(xiàn)最小孔徑為數(shù)微米直徑的群孔制造；研制出群坑結(jié)構(gòu)高效電解加工工藝及裝置，可實(shí)現(xiàn)活塞環(huán)、活塞及氣缸內(nèi)表面群坑的制造，目前最小加工坑直徑為0.2mm。

發(fā)榜企業(yè)：廣東中愛醫(yī)療科技股份有限公司 懸賞金額：5萬元 需求領(lǐng)域：圖形圖像處理、自動(dòng)化與智能控制技術(shù) 技術(shù)關(guān)鍵詞：圖形和圖像軟件、人工智能 支柱產(chǎn)業(yè)集群：生物醫(yī)藥與健康產(chǎn)業(yè)集群

簡單介紹： 小鼠五孔注意力測試系統(tǒng)基于視覺上的辨別力，通過運(yùn)行5-CSRTT任務(wù)(5-choice serial reaction time task)， 測試動(dòng)物的注意力、沖動(dòng)性(impulsivity)等一系列行為學(xué)指標(biāo)，主要用于注意力缺失/多動(dòng)綜合癥(attention deficit/hyperactivity disorder, ADHD)、老年癡呆、精神分裂癥等精神**研究。 詳情介紹：   圖1：設(shè)備箱體俯視圖 圖2：硬件布局 圖3：軟件界面     圖4：四鼠同時(shí)訓(xùn)練圖 圖5：實(shí)驗(yàn)流程圖   訓(xùn)練開始時(shí)，前面板的五個(gè)探鼻孔指示燈之一隨機(jī)亮起，大/小鼠如果探鼻進(jìn)入該孔，那么返回獎(jiǎng)勵(lì)孔可以獲得食物或水作為獎(jiǎng)勵(lì)。初始參數(shù)設(shè)置一般為：SD, 30s; LH, 30s; ITI, 2s; TO, 5s。**訓(xùn)練一個(gè)session，一個(gè)session包括100個(gè)trials。   參數(shù)說明： Trial：可以理解為大/小鼠一次操作，正確操作包括探鼻進(jìn)入前面板探鼻孔直至*后獲取獎(jiǎng)勵(lì)結(jié)束。如果做錯(cuò)，trial提前終止。 Stimulus duration (SD)：探鼻孔指示燈亮的時(shí)間。 Limited Hold (LH)：從探鼻孔指示燈亮到大/小鼠探鼻進(jìn)入所花費(fèi)的*長時(shí)間不能超過LH，否則操作錯(cuò)誤。 Intertrial Interval (ITI)：連續(xù)兩次trial之間的時(shí)間間隔。 Timeout (TO)：大/小鼠操作錯(cuò)誤時(shí)的懲罰時(shí)間。在這段時(shí)間內(nèi)所有燈熄滅。 隨著訓(xùn)練次數(shù)的增加，如果大/小鼠在一次session能至少做對30次trials，可以逐漸降低SD以及增加ITI，直至達(dá)到我們的訓(xùn)練要求。 分析指標(biāo)： Correct：正確反應(yīng)次數(shù) Incorrect：錯(cuò)誤反應(yīng)次數(shù) Premature：過早反應(yīng)次數(shù) Omission：錯(cuò)失次數(shù) Latency to Stimulus：探洞潛伏期 Latency to reward：獲得獎(jiǎng)賞潛伏期

簡單介紹： 大鼠五孔注意力測試系統(tǒng)基于視覺上的辨別力，通過運(yùn)行5-CSRTT任務(wù)(5-choice serial reaction time task)， 測試動(dòng)物的注意力、沖動(dòng)性(impulsivity)等一系列行為學(xué)指標(biāo)，主要用于注意力缺失/多動(dòng)綜合癥(attention deficit/hyperactivity disorder, ADHD)、老年癡呆、精神分裂癥等精神**研究。 詳情介紹： 圖1：設(shè)備箱體俯視圖 圖2：硬件布局 圖3：軟件界面     圖4：四鼠同時(shí)訓(xùn)練圖 圖5：實(shí)驗(yàn)流程圖   訓(xùn)練開始時(shí)，前面板的五個(gè)探鼻孔指示燈之一隨機(jī)亮起，大/小鼠如果探鼻進(jìn)入該孔，那么返回獎(jiǎng)勵(lì)孔可以獲得食物或水作為獎(jiǎng)勵(lì)。初始參數(shù)設(shè)置一般為：SD, 30s; LH, 30s; ITI, 2s; TO, 5s。**訓(xùn)練一個(gè)session，一個(gè)session包括100個(gè)trials。   參數(shù)說明： Trial：可以理解為大/小鼠一次操作，正確操作包括探鼻進(jìn)入前面板探鼻孔直至*后獲取獎(jiǎng)勵(lì)結(jié)束。如果做錯(cuò)，trial提前終止。 Stimulus duration (SD)：探鼻孔指示燈亮的時(shí)間。 Limited Hold (LH)：從探鼻孔指示燈亮到大/小鼠探鼻進(jìn)入所花費(fèi)的*長時(shí)間不能超過LH，否則操作錯(cuò)誤。 Intertrial Interval (ITI)：連續(xù)兩次trial之間的時(shí)間間隔。 Timeout (TO)：大/小鼠操作錯(cuò)誤時(shí)的懲罰時(shí)間。在這段時(shí)間內(nèi)所有燈熄滅。 隨著訓(xùn)練次數(shù)的增加，如果大/小鼠在一次session能至少做對30次trials，可以逐漸降低SD以及增加ITI，直至達(dá)到我們的訓(xùn)練要求。 分析指標(biāo)： Correct：正確反應(yīng)次數(shù) Incorrect：錯(cuò)誤反應(yīng)次數(shù) Premature：過早反應(yīng)次數(shù) Omission：錯(cuò)失次數(shù) Latency to Stimulus：探洞潛伏期 Latency to reward：獲得獎(jiǎng)賞潛伏期

簡單介紹： 五孔注意力測試系統(tǒng)基于視覺上的辨別力，通過運(yùn)行5-CSRTT任務(wù)(5-choice serial reaction time task)， 測試動(dòng)物的注意力、沖動(dòng)性(impulsivity)等一系列行為學(xué)指標(biāo)，主要用于注意力缺失/多動(dòng)綜合癥(attention deficit/hyperactivity disorder, ADHD)、老年癡呆、精神分裂癥等精神**研究。 詳情介紹： 圖1：設(shè)備箱體俯視圖 圖2：硬件布局 圖3：軟件界面     圖4：四鼠同時(shí)訓(xùn)練圖 圖5：實(shí)驗(yàn)流程圖   訓(xùn)練開始時(shí)，前面板的五個(gè)探鼻孔指示燈之一隨機(jī)亮起，大/小鼠如果探鼻進(jìn)入該孔，那么返回獎(jiǎng)勵(lì)孔可以獲得食物或水作為獎(jiǎng)勵(lì)。初始參數(shù)設(shè)置一般為：SD, 30s; LH, 30s; ITI, 2s; TO, 5s。**訓(xùn)練一個(gè)session，一個(gè)session包括100個(gè)trials。   參數(shù)說明： Trial：可以理解為大/小鼠一次操作，正確操作包括探鼻進(jìn)入前面板探鼻孔直至*后獲取獎(jiǎng)勵(lì)結(jié)束。如果做錯(cuò)，trial提前終止。 Stimulus duration (SD)：探鼻孔指示燈亮的時(shí)間。 Limited Hold (LH)：從探鼻孔指示燈亮到大/小鼠探鼻進(jìn)入所花費(fèi)的*長時(shí)間不能超過LH，否則操作錯(cuò)誤。 Intertrial Interval (ITI)：連續(xù)兩次trial之間的時(shí)間間隔。 Timeout (TO)：大/小鼠操作錯(cuò)誤時(shí)的懲罰時(shí)間。在這段時(shí)間內(nèi)所有燈熄滅。 隨著訓(xùn)練次數(shù)的增加，如果大/小鼠在一次session能至少做對30次trials，可以逐漸降低SD以及增加ITI，直至達(dá)到我們的訓(xùn)練要求。       分析指標(biāo)： Correct：正確反應(yīng)次數(shù) Incorrect：錯(cuò)誤反應(yīng)次數(shù) Premature：過早反應(yīng)次數(shù) Omission：錯(cuò)失次數(shù) Latency to Stimulus：探洞潛伏期 Latency to reward：獲得獎(jiǎng)賞潛伏期

本發(fā)明公開了一種亞納米厚度的納米孔傳感器。第二電泳電極或微泵、第二儲(chǔ)藏室、第二微納米分離通道、基板、第一絕緣層、亞納米功能層、第一微納米分離通道、第一儲(chǔ)藏室、第一電泳電極或微泵順次放置，亞納米功能層的中心設(shè)有納米孔，第一絕緣層的中心設(shè)有第一絕緣層開孔，基板的中心設(shè)有基板開口，第一微納米分離通道中部設(shè)有測量離子電流的第一電極，第二微納米分離通道的中部設(shè)有測量離子電流的第二電極。本發(fā)明解決了將亞納米功能層集成于納米孔的技術(shù)難點(diǎn)，其制備亞納米功能層的方法簡單；解決了DNA或RNA堿基穿越納米孔時(shí)由于堿基可能存在的不同取向而導(dǎo)致對堿基與亞納米功能層的相互作用的影響。

本發(fā)明公開了一種磁性載鐵有序介孔碳，以有序介孔碳為載體，載體通過硬模板法制備得到，磁性納米粒子通過納米共澆鑄法負(fù)載在載體上；磁性納米粒子主要由零價(jià)鐵和鐵的氧化物組成，鐵元素的配量按每克介孔硅模板配1～1.5mmol計(jì)，介孔碳的孔徑分布主要集中在5nm和3.8nm附近。本發(fā)明磁性載鐵有序介孔碳的制備方法包括：將鐵源物質(zhì)、蔗糖溶于硫酸后，浸漬介孔硅模版，采用兩段式熱處理；再用含蔗糖的硫酸溶液二次浸漬，兩段式熱處理；最后進(jìn)行恒溫高溫碳化，再使用熱NaOH溶液脫出硅模板，干燥后即得到產(chǎn)品。本發(fā)明產(chǎn)品具有大比表面積和孔體積、適用范圍廣、理化性質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)，可用于去除水體中重金屬六價(jià)鉻離子。

本發(fā)明公開了一種自動(dòng)化螺旋銑孔裝置及其方法。裝置包括底座、主軸滑座、外偏心套筒、內(nèi)偏心套筒、力矩電機(jī)、圓光柵、電主軸、壓腳、工業(yè)相機(jī)、直線光柵、4個(gè)激光距離傳感器、伺服電機(jī)、滾珠絲杠副、同步帶等；其中，內(nèi)、外偏心套筒的內(nèi)、外輪廓的軸線采用偏置設(shè)計(jì)，內(nèi)偏心套筒安裝在外偏心套筒內(nèi)部，外偏心套筒的內(nèi)輪廓軸線與內(nèi)偏心套筒的外輪廓軸線重合。本發(fā)明通過控制內(nèi)、外偏心套筒間的相對轉(zhuǎn)角實(shí)現(xiàn)刀具徑向偏置；主軸進(jìn)給采用雙光柵反饋，保證锪窩深度的精確性；采用工業(yè)相機(jī)檢測工件上的預(yù)制孔位置，通過4個(gè)激光距離傳感器檢測制孔位置的法矢，與工業(yè)機(jī)器人、數(shù)控機(jī)床等自動(dòng)化數(shù)控裝備配合使用，可實(shí)現(xiàn)高精度、高效率的自動(dòng)化制孔。

（專利號：ZL 201510358391.9） 簡介：本發(fā)明公開一種用于錐孔鏜削加工的輔助裝置，屬于機(jī)加工技術(shù)領(lǐng)域。該裝置包括固定刀座、活動(dòng)刀座、導(dǎo)向鍵、第一壓蓋、蝸桿、滑板、圓錐滾子軸承、推力滾子軸承、深溝球軸承、莫氏錐柄、活動(dòng)刀柄軸、滑塊、第二壓蓋、鏜刀桿、鏜刀頭、剎緊盤、第一支撐軸、刻度盤、蝸輪、定位盤、第二支撐軸以及角接觸球軸承。該裝置利用蝸輪蝸桿副調(diào)整活動(dòng)刀座的偏轉(zhuǎn)角度，根據(jù)刻度盤顯示的標(biāo)尺數(shù)值旋動(dòng)蝸桿，從而調(diào)整活動(dòng)刀座偏轉(zhuǎn)至要求的角度位置，然后擰緊剎緊盤上螺釘，由剎緊盤鎖定活動(dòng)刀座；鏜刀桿切削所需轉(zhuǎn)矩由導(dǎo)向鍵傳遞，進(jìn)給力由刀桿尾部的滑塊組件傳遞。本發(fā)明裝置配置在普通鏜床中，即可實(shí)現(xiàn)高精度錐孔的鏜削加工，且加工的錐孔尺寸范圍廣、適應(yīng)性好。