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本發(fā)明涉及馬波沙星的制備，實現了多步反應的連續(xù)進行，效率高，具有合成路線短、所用試劑都為常規(guī)易于商業(yè)化采購的試劑、操作簡便等優(yōu)點。

產品詳細介紹 ZYT—DDC 單人單面紫外誘變臺（垂直）   這是一種供單人操作的通用型局部凈化設備，氣流形式為垂直層流，它可造就局部高清潔度空氣環(huán)境，同時又具備紫外誘變技術功能對生物研究、科技育種、科研制藥、農業(yè)科技等部門，紫外誘變臺是您最好的助手。 特點： 1、操作區(qū)為全不銹鋼。 2、外型美觀結構合理。 3、采用自定們上下推拉門系統(tǒng)。 4、風量可調，雙側電源插座。 5、紫外線單個控制，時間定時功能。 技術指標：   型號 ZYT--DDC 外形尺寸 900×800×1630 工作臺尺寸 870×650×570 潔凈等級 100級@≥0.5ｕm(美聯(lián)邦209E) 平均風速 0.3—0.5m/s(可調) 噪音 ≤65dB(A) 振動 XYZ方向≤2ｕm 照明燈具 20W*1 感光燈 20W*1  紫外燈 主峰波長254NM  15W*3 紫外燈 主峰波長285NM  15W*3 電源 220V  50HZ 消耗功率 450W 備注 不銹鋼臺面，雙側電源，上下推拉門  

采用超前深孔爆破技術，破壞厚硬頂板的完整性，使得頂板在自重應力和原巖應力的作用下斷裂。1）采用深孔爆破技術，鉆孔數量少；2）采用專用封孔技術，封堵質量可靠，不出現沖孔等問題；3）施工工藝簡單、易于掌握。

產品詳細介紹可定制多種規(guī)格尺寸厚度一、產品介紹：產品名稱：防靜電抗疲勞地墊產品性能:采用工藝，精心制作而成，以滿足現代人工作舒適的要求。   1、防靜電或不防靜電可選。   2、柔韌、反彈力強、清潔方便、易于移動。   3、表面為柳葉紋防滑設計，使用方便。   4、可耐酸堿溶劑，弱酸弱堿。二、產品規(guī)格：厚度：20mm 寬度和長度可選 三層合一定制色彩：黑色黃邊棉層: 耐撕耐壓回彈快執(zhí)行標準GB/T 17794-2008三、靜電值：   表面電阻測試儀檢測為10的9次方歐姆。底部為10的3-5次方歐姆。四、保質期：16個月。正常8個小時連續(xù)作業(yè)踩踏。適用于需長時間站立的防靜電工作場所，起到有效緩沖腳部壓力、緩解疲勞的作用。五、注意事項： 避免使用易揮發(fā)性液體在表面清洗，如酒精、苯類、香蕉水等溶劑。⒈ 產品表面嚴禁接觸強酸堿性溶劑或易揮發(fā)性溶劑，此舉可能導致產品表面變色，褪色和電阻值衰退。不能用高溫鐵器和鋒利物器在表面接觸和劃傷。因為產品中間為棉層，連續(xù)12-24小時作業(yè)會有所下陷或有所損耗。地址：深圳市寶安西鄉(xiāng)黃麻布第二工業(yè)區(qū)第5棟四樓電話：0755-29165652傳真：0755-27490894郵箱：[email protected]  

電流變液在具有廣泛的應用前景，但是目前的巨電流變液采用極性分子包覆的方法，壽命很短，無實 數值孔徑是光學透鏡最重要的基本參量，衡量著光學系統(tǒng)的收集光子能力。對于顯微物鏡，數值孔徑 用價值。本項目已制備出納米碳鑲嵌在二氧化鈦表面的顆粒，與硅油混合后得到屈服強度高、漏電流低、 越大，成像光斑越小，成像細節(jié)越清晰。常規(guī)油浸物鏡由于采用了特殊的高折射率匹配液，在高分辨率成 壽命長、溫度穩(wěn)定性好的電流變液，達到實用的水平。計劃擴大生產量，并將電流變液應用在阻尼器上， 像和浸潤式光刻中更被廣泛應用。超構表面結構是一種具有橫向亞波長尺度的微納光學結構，可以在不 實現實用化。

以混合自適應人工智能優(yōu)化程序設計出亞波長單晶硅超構表面結構，實現了相位的精確控制并減小了單晶硅結構在可見光的吸收。進一步使用該結構演示了浸鏡油浸沒下數值孔徑為1.48的高透過率超構光學透鏡。

中協(xié)高靈敏擴聲系統(tǒng)融合了二合一桌麥、新型隱藏麥、吊麥、手持麥和手機麥多種擴聲手段，融合先進的高靈敏擴聲技術，拾音距離廣，為高校教學創(chuàng)造更加高效、便捷、靈活的擴聲環(huán)境，有效滿足現代教學對聲音處理的需求。

本發(fā)明公開了一種柔性超疏水超疏油結構制備方法，該制備方 法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結構底層：在基底上旋涂 一層負性光刻膠，不用掩膜進行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負性光刻 膠上旋涂一層負性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進行曝光；(3)結構層光 刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應的掩模進行套刻曝光；(4)顯影： 將上述步驟中曝光后的結構進行顯影；(5)鍍保護層膜：在步驟(4)中得 到的結構表面形成一層保護膜；(6)剝離：將經過步驟(5)處理后得到的 結構從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結構。按照本發(fā)明的 制備方法，工藝簡單，成本低廉，對該柔性超疏水超疏油結構的普及 應用具有極大的促進作用。 

本發(fā)明公開了一種柔性超疏水超疏油結構制備方法，該制備方法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結構底層：在基底上旋涂一層負性光刻膠，不用掩膜進行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負性光刻膠上旋涂一層負性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進行曝光；(3)結構層光刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應的掩模進行套刻曝光；(4)顯影：將上述步驟中曝光后的結構進行顯影；(5)鍍保護層膜：在步驟(4)中得到的結構表面形成一層保護膜；(6)剝離：將經過步驟(5)處理后得到的結構從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結構。按