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超效分離工藝是思普潤針對MBBR工藝后續(xù)深度處理需求，在磁加載混凝沉淀技術(shù)基礎(chǔ)上研發(fā)的一種新型高效泥水分離技術(shù)。通過優(yōu)化篩選藥劑組合、投加優(yōu)篩磁種、配套高效的專用攪拌器、高剪機(jī)、高梯度磁分離機(jī)等設(shè)備，實(shí)現(xiàn)了對SS、TP和COD等污染物的強(qiáng)化處理。超效分離工藝適用于各類廢水的預(yù)處理和生物處理后水中具有一定黏度的脫落生物膜的分離沉淀，具有極高的處理效率，與MBBR工藝組成完整的高效深度脫氮除磷工藝包。 應(yīng)用領(lǐng)域 1、高標(biāo)準(zhǔn)污水處理廠的新建和提標(biāo)改造（一級A及準(zhǔn)地表IV、III類水）； 2、緊湊型污水處理廠的新建、擴(kuò)容、提標(biāo)； 3、水環(huán)境治理及村鎮(zhèn)點(diǎn)源污水處理（一體化可移動處理箱體設(shè)備）； 4、雨、洪水處理及回用； 5、高磷、含重金屬廢水的處理。

云之翼超融合，通過在同一組物理服務(wù)器（3臺及以上）中安裝計算虛擬化和存儲虛擬化軟件，并提供便利的統(tǒng)一管理界面,組成的計算和存儲融合的資源池，從而為客戶提供化繁為簡的新一代 IT 基礎(chǔ)架構(gòu)，其可用性、可靠性和高性能經(jīng)過運(yùn)營商、金融、醫(yī)療、大型制造業(yè)等行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者生產(chǎn)環(huán)境長時間檢驗(yàn)。 一、產(chǎn)品優(yōu)勢 真正的軟件定義與超融合架構(gòu)部署 基于 x86 或 ARM 等架構(gòu)的服務(wù)器構(gòu)建，且易于部署、維護(hù)與擴(kuò)展。 靈活多樣的虛擬化平臺選擇內(nèi)嵌功能豐富但無需付費(fèi)的虛擬化平臺，亦支持 VMware、Citrix 虛擬化平臺。 經(jīng)生產(chǎn)系統(tǒng)驗(yàn)證的分布式塊存儲自主研發(fā)的分布式塊存儲，具備豐富的生產(chǎn)級特性并經(jīng)過核心業(yè)務(wù)系統(tǒng)長時間運(yùn)行考驗(yàn)。 豐富且經(jīng)過驗(yàn)證的服務(wù)器硬件與生態(tài)解決方案適配主流 x86 或 ARM 等架構(gòu)的服務(wù)器和部件，并與主流的數(shù)據(jù)保護(hù)、安全、云管理平臺和容器管理平臺廠家進(jìn)行方案適配和認(rèn)證。 智能化的運(yùn)維功能基于機(jī)器學(xué)習(xí)的資源用量預(yù)測，以及智能資源優(yōu)化建議，提高運(yùn)維效率。 從硬盤到跨城市的生產(chǎn)級高可用特性提供硬盤數(shù)據(jù)效驗(yàn)、節(jié)點(diǎn)多副本冗余、機(jī)架拓?fù)涓兄⑼请p活集群、異地異步備份等多種級別的數(shù)據(jù)可靠性保障措施。 二、應(yīng)用場景 新建數(shù)據(jù)中心 超融合架構(gòu)簡單且易于擴(kuò)展，快速交付，運(yùn)維難度低，更低運(yùn)營成本，輕松構(gòu)建符合未來趨勢的新一代數(shù)據(jù)中心。 開發(fā)與測試平臺 借助超融合架構(gòu)，智能調(diào)度計算、存儲和網(wǎng)絡(luò)資源，實(shí)現(xiàn)開發(fā)測試環(huán)境的快速搭建。 分支機(jī)構(gòu) 借助超融合架構(gòu)，為分支機(jī)構(gòu)提供一站式業(yè)務(wù)應(yīng)用交付，實(shí)現(xiàn)總部對分支機(jī)構(gòu)資源的統(tǒng)一管理。 桌面云建設(shè) 通過超融合構(gòu)建桌面云，不僅可以提供桌面云所需的性能、可用性、可擴(kuò)展性，同時還可以降低架構(gòu)的復(fù)雜性、管理難度，以及建設(shè)成本。 應(yīng)用新建及擴(kuò)容 借助超融合架構(gòu)，實(shí)現(xiàn)計算、存儲資源池化，提供應(yīng)用快速上線和資源按需擴(kuò)展的能力。 服務(wù)器虛擬化 基于自研的分布式存儲技術(shù)，圍繞不同的服務(wù)器虛擬化，提供高可靠、高性能、易于擴(kuò)展和便于管理的新一代基礎(chǔ)架構(gòu)解決方案。

小試階段/n本發(fā)明采用無線傳輸模塊、ARM 系統(tǒng)模塊、陀螺儀模塊、氣壓計模塊、GPS 定位模塊和電機(jī)模塊與飛行器控制軟件共同作用，通過航點(diǎn)定向，讀取 GPS定位模塊、氣壓計模塊和陀螺儀模塊信息，使得航拍式旋翼飛行器的定點(diǎn)懸停、低空低速飛行、垂直起降和室內(nèi)飛行的動作精度更高。采用的 ARM 系統(tǒng)模塊集成度高、精度高、實(shí)時性強(qiáng)、功耗低、主控體積小、重量輕、抗干擾能力強(qiáng)和成本低。其中的陀螺儀模塊采用整合性 6 軸運(yùn)動處理組件，用于感測與維持方向，抗陀螺效應(yīng)好，使得航拍式旋翼飛行器動作迅速、反應(yīng)靈敏和飛行穩(wěn)

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 ZYT—DDC 單人單面紫外誘變臺（垂直）   這是一種供單人操作的通用型局部凈化設(shè)備，氣流形式為垂直層流，它可造就局部高清潔度空氣環(huán)境，同時又具備紫外誘變技術(shù)功能對生物研究、科技育種、科研制藥、農(nóng)業(yè)科技等部門，紫外誘變臺是您最好的助手。 特點(diǎn)： 1、操作區(qū)為全不銹鋼。 2、外型美觀結(jié)構(gòu)合理。 3、采用自定們上下推拉門系統(tǒng)。 4、風(fēng)量可調(diào)，雙側(cè)電源插座。 5、紫外線單個控制，時間定時功能。 技術(shù)指標(biāo)：   型號 ZYT--DDC 外形尺寸 900×800×1630 工作臺尺寸 870×650×570 潔凈等級 100級@≥0.5ｕm(美聯(lián)邦209E) 平均風(fēng)速 0.3—0.5m/s(可調(diào)) 噪音 ≤65dB(A) 振動 XYZ方向≤2ｕm 照明燈具 20W*1 感光燈 20W*1  紫外燈 主峰波長254NM  15W*3 紫外燈 主峰波長285NM  15W*3 電源 220V  50HZ 消耗功率 450W 備注 不銹鋼臺面，雙側(cè)電源，上下推拉門  

電流變液在具有廣泛的應(yīng)用前景，但是目前的巨電流變液采用極性分子包覆的方法，壽命很短，無實(shí) 數(shù)值孔徑是光學(xué)透鏡最重要的基本參量，衡量著光學(xué)系統(tǒng)的收集光子能力。對于顯微物鏡，數(shù)值孔徑 用價值。本項目已制備出納米碳鑲嵌在二氧化鈦表面的顆粒，與硅油混合后得到屈服強(qiáng)度高、漏電流低、 越大，成像光斑越小，成像細(xì)節(jié)越清晰。常規(guī)油浸物鏡由于采用了特殊的高折射率匹配液，在高分辨率成 壽命長、溫度穩(wěn)定性好的電流變液，達(dá)到實(shí)用的水平。計劃擴(kuò)大生產(chǎn)量，并將電流變液應(yīng)用在阻尼器上， 像和浸潤式光刻中更被廣泛應(yīng)用。超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)是一種具有橫向亞波長尺度的微納光學(xué)結(jié)構(gòu)，可以在不 實(shí)現(xiàn)實(shí)用化。

以混合自適應(yīng)人工智能優(yōu)化程序設(shè)計出亞波長單晶硅超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了相位的精確控制并減小了單晶硅結(jié)構(gòu)在可見光的吸收。進(jìn)一步使用該結(jié)構(gòu)演示了浸鏡油浸沒下數(shù)值孔徑為1.48的高透過率超構(gòu)光學(xué)透鏡。

中協(xié)高靈敏擴(kuò)聲系統(tǒng)融合了二合一桌麥、新型隱藏麥、吊麥、手持麥和手機(jī)麥多種擴(kuò)聲手段，融合先進(jìn)的高靈敏擴(kuò)聲技術(shù)，拾音距離廣，為高校教學(xué)創(chuàng)造更加高效、便捷、靈活的擴(kuò)聲環(huán)境，有效滿足現(xiàn)代教學(xué)對聲音處理的需求。

本發(fā)明公開了一種柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)制備方法，該制備方 法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)底層：在基底上旋涂 一層負(fù)性光刻膠，不用掩膜進(jìn)行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負(fù)性光刻 膠上旋涂一層負(fù)性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進(jìn)行曝光；(3)結(jié)構(gòu)層光 刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應(yīng)的掩模進(jìn)行套刻曝光；(4)顯影： 將上述步驟中曝光后的結(jié)構(gòu)進(jìn)行顯影；(5)鍍保護(hù)層膜：在步驟(4)中得 到的結(jié)構(gòu)表面形成一層保護(hù)膜；(6)剝離：將經(jīng)過步驟(5)處理后得到的 結(jié)構(gòu)從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)。按照本發(fā)明的 制備方法，工藝簡單，成本低廉，對該柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)的普及 應(yīng)用具有極大的促進(jìn)作用。 

本發(fā)明公開了一種柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)制備方法，該制備方法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)底層：在基底上旋涂一層負(fù)性光刻膠，不用掩膜進(jìn)行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負(fù)性光刻膠上旋涂一層負(fù)性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進(jìn)行曝光；(3)結(jié)構(gòu)層光刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應(yīng)的掩模進(jìn)行套刻曝光；(4)顯影：將上述步驟中曝光后的結(jié)構(gòu)進(jìn)行顯影；(5)鍍保護(hù)層膜：在步驟(4)中得到的結(jié)構(gòu)表面形成一層保護(hù)膜；(6)剝離：將經(jīng)過步驟(5)處理后得到的結(jié)構(gòu)從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)。按