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高等教育領(lǐng)域數(shù)字化綜合服務(wù)平臺(tái)
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一種燃料電池膜電極組件的復(fù)合方法及其裝置
本發(fā)明公開了一種燃料電池膜電極組件的復(fù)合方法及其裝置。該復(fù)合方法，通過機(jī)器視覺技術(shù)測(cè)定 GDL 偏角，催化劑層偏角，根據(jù)角度差值引導(dǎo)機(jī)械手對(duì) GDL 旋轉(zhuǎn)糾偏。糾偏完成后測(cè)定和計(jì)算 GDL兩條邊緣的交點(diǎn)坐標(biāo)距離 GDL 采圖相機(jī)視野中心的 X 和 Y 向偏差，測(cè)定和計(jì)算催化劑層兩條邊緣的交點(diǎn)坐標(biāo)距離催化劑層采圖相機(jī)視野中心的 X 和 Y 向偏差，并結(jié)合兩個(gè)相機(jī)的機(jī)械安裝位置，計(jì)算出 GDL與催化劑層的位置綜合偏差，該綜合偏差用于引導(dǎo)機(jī)械手將 GDL 與催化劑層精確復(fù)合。
華中科技大學(xué)
2021-04-11
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一種新型多通道Ni/CM陶瓷催化膜的制備方法
本發(fā)明屬于陶瓷催化膜技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種新型多通道Ni/CM陶瓷催化膜的制備方法。將2?氨基對(duì)苯二甲酸加入N,N二甲基甲酰胺中并混合均勻，緩慢滴加入六水合硝酸鎳的水溶液中，并混合均勻。將膜管浸沒，進(jìn)行水熱合成反應(yīng)，反應(yīng)結(jié)束后冷卻，洗滌并烘干，煅燒，冷卻，得到催化膜。將硼氫化鈉加入乙醇溶液并混合均勻，強(qiáng)制循環(huán)流動(dòng)經(jīng)過催化膜的膜孔，得到多通道Ni/CM陶瓷催化膜。本發(fā)明所提出的工藝能夠使Ni?MOF?NH<subgt;2</subgt;在膜孔內(nèi)充分生長(zhǎng)，增加活性組分，并且使得活性組分分布均勻，從而有效提高了金屬Ni的利用率。制備過程簡(jiǎn)單可控，催化膜活性高、穩(wěn)定性好，回收簡(jiǎn)單方便，適合大規(guī)模工業(yè)應(yīng)用推廣。
南京工業(yè)大學(xué)
2021-01-12
一種多通道Co/CM催化膜減小Co粒徑的方法
本發(fā)明屬于膜催化技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種多通道Co/CM催化膜減小Co粒徑的方法。Co/CM催化膜表面涂覆聚多巴胺涂層后烘干、煅燒。本發(fā)明所提出的減小Co/CM催化膜中Co粒徑的方法，能夠有效減小Co的粒徑，使得催化膜中的活性組分Co進(jìn)行再分散，催化膜在對(duì)硝基苯酚催化加氫反應(yīng)中活性明顯提高。
南京工業(yè)大學(xué)
2021-01-12
具有梯度浸潤性孔道結(jié)構(gòu)的納米纖維膜及其制備方法
本發(fā)明屬于空氣凈化領(lǐng)域，具體公開了一種具有梯度浸潤性孔道結(jié)構(gòu)的納米纖維膜及其制備方法，向聚丙烯腈(PAN)紡絲溶液中摻雜疏水性二氧化鈦(F?TiO<subgt;2</subgt;)納米顆粒，采用靜電紡絲技術(shù)制備了疏水性復(fù)合納米纖維膜，F(xiàn)?TiO<subgt;2</subgt;納米顆粒可在紫外光下發(fā)生響應(yīng)產(chǎn)生活性自由基催化分解表面接枝的全氟鏈段，實(shí)現(xiàn)浸潤性沿膜厚方向上的逐漸變化，構(gòu)筑具有梯度浸潤性孔道結(jié)構(gòu)的納米纖維膜。
南京工業(yè)大學(xué)
2021-01-12
XM-855A帶數(shù)字標(biāo)識(shí)螺旋器及膜性蝸管模型
XM-855A螺旋器及膜性蝸管模型（帶數(shù)字標(biāo)識(shí)）
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XM-855A帶數(shù)字標(biāo)識(shí)螺旋器及膜性蝸管模型放大350倍，可拆分為5部件，顯示螺旋器及膜性蝸管三壁的立體微細(xì)結(jié)構(gòu)，模型的內(nèi)側(cè)端為骨性螺旋板，相當(dāng)于螺旋緣處的斷面，可見其中的骨質(zhì)，表面肥厚的骨膜及穿通骨質(zhì)的聽神經(jīng)纖維束，模型的另一端為螺旋韌帶，內(nèi)含多數(shù)血管，由側(cè)面看可見前庭膜起于螺旋緣上面的骨膜，止于螺旋韌帶的上方。將前庭膜取下觀察，可見它由上面的間皮，中間的結(jié)締組織及下面的上皮所成，膜性蝸管的外壁為螺旋韌帶，內(nèi)面附有單層立方上皮。
尺寸：放大350倍，47.5×18×32.5cm
材質(zhì)：PVC材料
上海欣曼科教設(shè)備有限公司
2021-08-23
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清華團(tuán)隊(duì)提出多孔膜中催化劑取向生長(zhǎng)策略，制備堿性電解水的有序化膜電極，將1m3氫氣電耗降至3.83度
清華大學(xué)王保國教授團(tuán)隊(duì)從事膜分離和電化學(xué)工程的交叉領(lǐng)域科學(xué)研究，迄今已有近 20 年時(shí)間。他們從降低能耗角度出發(fā)，提出了“一體化”膜電極的概念，其核心是通過在多孔膜中，電催化劑原位取向生長(zhǎng)策略，降低電子/氣體/離子的傳遞阻力，從而提高電解水產(chǎn)氫速率。
清華大學(xué)
2023-08-09
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一種超雙親多孔膜材料及其制備方法和應(yīng)用
一種超雙親多孔膜材料及其制備方法和應(yīng)用，步驟如下：（1）室溫下，先將碳納米管粉體和表面活性劑分散于水中，形成均一混合溶液；（2）向上述混合溶液中加入水性三聚氰胺甲醛樹脂溶液，混勻制得所需反應(yīng)液；（3）將上述反應(yīng)液刷涂或噴涂在干凈的多孔基材上，80~120℃干燥固化10~30min，即可制得超雙親油水分離用多孔膜材料。本發(fā)明所述的多孔膜材料既保持了原有泡沫銅基底良好的機(jī)械性能，同時(shí)又具有很好的超雙親性，即可截留水讓油通過，也可截留油讓水通過，從而具有雙重分離效果。
東南大學(xué)
2021-04-11
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大面積高質(zhì)量金剛石自支撐膜的制備技術(shù)
本項(xiàng)目是國家863計(jì)劃”85” 和”95”重大項(xiàng)目的階段性研究成果(合作單位:河北省科學(xué)院)。 包含”大面積高功率DC Arc Plasma Jet CVD金剛石膜高速沉積設(shè)備”和”大面積高質(zhì)量金剛石自支撐膜制備工藝”兩部分。其目標(biāo)是向國內(nèi)外市場(chǎng)提供大面積高質(zhì)量廉價(jià)金剛石自支撐膜。技術(shù)基本成熟, 設(shè)備和工藝已在廣東、北京和天津的一些工廠和研究院所應(yīng)用。目前已開發(fā)兩種不同功率級(jí)別, 100千瓦級(jí)和30千瓦級(jí)的設(shè)備, 工具級(jí)金剛石膜沉積速率: 40～50mm/h, 沉積面積: ?110mm (100千瓦級(jí)), 或?60mm (30千瓦級(jí))。利用本項(xiàng)目技術(shù)生產(chǎn)的工具級(jí)金剛石膜可達(dá)到的指標(biāo): 面積: ????mm (100千瓦級(jí)), 或 ???mm (30千瓦級(jí)); 厚度: 最大2mm; 維氏硬度: 8000～11000 kg/mm2; 抗彎強(qiáng)度: > 300 MPa。光學(xué)級(jí)金剛石自支撐膜目前最大面積為?60mm, 厚度約0.6mm, 從紫外(0.22?m)到遠(yuǎn)紅外(>20?m, 直至微波)透明, 8～12?m波段透過率～70%, 熱導(dǎo)率～19W/cm.k, 各項(xiàng)物理化學(xué)性能均與天然Ⅱa型寶石級(jí)金剛石單晶接近。 該項(xiàng)目適用于光學(xué)級(jí)金剛石自支撐膜: 工業(yè)CO2激光器窗口, 需要在極端惡劣工業(yè)環(huán)境(高溫、腐蝕、幅射、磨損、沖刷等)下工作的光學(xué)裝置窗口、軍事窗口等。也可用于中高檔耐用裝飾品制作。 熱沉級(jí)金剛石自支撐膜: 半導(dǎo)體二極管激光器熱沉、功率半導(dǎo)體器件(Power IC)的金剛石封裝、MCMs (大規(guī)模集成電路的三維立體組裝技術(shù))用大面積金剛石熱沉、高功率微波器件熱沉。 工具級(jí)金剛石自支撐膜: 金剛石拉絲模模芯、金剛石自支撐膜釬焊工具、各種抗極度摩擦磨損工具和模具及儀器零件。
北京科技大學(xué)
2021-04-11
紫外光固化法制備電控調(diào)光膜的技術(shù)及材料的開發(fā)
本項(xiàng)目所研究的電控調(diào)光膜材料即為聚合物分散液晶（Polymer dispersed liquid crystal，簡(jiǎn)稱PDLC）薄膜材料，其主要應(yīng)用領(lǐng)域?yàn)殡娍刂悄懿ＡА⒋竺娣e柔性液晶顯示等。PDLC薄膜材料是將向列相液晶微滴均勻分散在高分子網(wǎng)絡(luò)中而形成的復(fù)合材料，當(dāng)未對(duì)PDLC薄膜施加電場(chǎng)時(shí)，在高分子網(wǎng)絡(luò)的作用下液晶分子的指向矢呈無規(guī)分布，薄膜呈強(qiáng)烈光散射狀態(tài)；當(dāng)對(duì)PDLC薄膜施加電場(chǎng)時(shí)，液晶分子的長(zhǎng)軸平行于電場(chǎng)排列（通常PDLC中所使用的液晶的各向介電常數(shù)為正），薄膜呈透明狀態(tài)。 目前，國外的PDLC薄膜生產(chǎn)廠家均采用熱固化法制備PDLC薄膜，而課題組所采用的為紫外光固化法，是世界上首家可以使用紫外固化法制備PDLC薄膜的科研單位，紫外光固化法相對(duì)于熱固化法，其固化速度快、節(jié)能環(huán)保、成品率高。并且所制備的PDLC薄膜電-光性能優(yōu)異，綜合電-光性能優(yōu)于其它國外PDLC薄膜生產(chǎn)廠家所生產(chǎn)的PDLC薄膜。
北京科技大學(xué)
2021-04-11
大面積高質(zhì)量金剛石自支撐膜的制備技術(shù)
本項(xiàng)目是國家863計(jì)劃”85” 和”95”重大項(xiàng)目的階段性研究成果(合作單位:河北省科學(xué)院)。 包含”大面積高功率DC Arc Plasma Jet CVD金剛石膜高速沉積設(shè)備”和”大面積高質(zhì)量金剛石自支撐膜制備工藝”兩部分。其目標(biāo)是向國內(nèi)外市場(chǎng)提供大面積高質(zhì)量廉價(jià)金剛石自支撐膜。技術(shù)基本成熟, 設(shè)備和工藝已在廣東、北京和天津的一些工廠和研究院所應(yīng)用。目前已開發(fā)兩種不同功率級(jí)別, 100千瓦級(jí)和30千瓦級(jí)的設(shè)備, 工具級(jí)金剛石膜沉積速率: 40～50mm/h, 沉積面積: ?110mm (100千瓦級(jí)), 或?60mm (30千瓦級(jí))。利用本項(xiàng)目技術(shù)生產(chǎn)的工具級(jí)金剛石膜可達(dá)到的指標(biāo): 面積: ????mm (100千瓦級(jí)), 或 ???mm (30千瓦級(jí)); 厚度: 最大2mm; 維氏硬度: 8000～11000 kg/mm2; 抗彎強(qiáng)度: > 300 MPa。光學(xué)級(jí)金剛石自支撐膜目前最大面積為?60mm, 厚度約0.6mm, 從紫外(0.22?m)到遠(yuǎn)紅外(>20?m, 直至微波)透明, 8～12?m波段透過率～70%, 熱導(dǎo)率～19W/cm.k, 各項(xiàng)物理化學(xué)性能均與天然Ⅱa型寶石級(jí)金剛石單晶接近。 該項(xiàng)目適用于光學(xué)級(jí)金剛石自支撐膜: 工業(yè)CO2激光器窗口, 需要在極端惡劣工業(yè)環(huán)境(高溫、腐蝕、幅射、磨損、沖刷等)下工作的光學(xué)裝置窗口、軍事窗口等。也可用于中高檔耐用裝飾品制作。 熱沉級(jí)金剛石自支撐膜: 半導(dǎo)體二極管激光器熱沉、功率半導(dǎo)體器件(Power IC)的金剛石封裝、MCMs (大規(guī)模集成電路的三維立體組裝技術(shù))用大面積金剛石熱沉、高功率微波器件熱沉。 工具級(jí)金剛石自支撐膜: 金剛石拉絲模模芯、金剛石自支撐膜釬焊工具、各種抗極度摩擦磨損工具和模具及儀器零件。
北京科技大學(xué)
2021-04-11