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一種可消除預運動的霍普金森拉桿裝置
本發(fā)明公開了一種可消除預運動的霍普金森拉桿裝置，包括同軸套設的外管和內管，外管內壁與內管外壁之間具有間隙，所述內管上套設有管狀子彈，所述管狀子彈上套設有密封滑動圈，管狀子彈和密封滑動圈位于外管內壁與內管外壁之間，所述外管和內管的一端通過焊接連接，另一端設有支撐件，所述外管上開設有接頭，所述接頭位于焊接端與管狀子彈之間。本發(fā)明提供的可消除預運動的霍普金森拉桿裝置，采用由外管和內管組成的雙層拉桿結構，設計合理，可有效解決現(xiàn)有技術中拉桿出現(xiàn)預運動的問題，使得采集到的實驗數(shù)據(jù)更加精確，有效的提高了實驗的成功率。
西南交通大學
2016-10-25
世界首例 | 西湖大學仿生型潛水器成功下潛海底2000米做實驗
此次南海實驗，是世界范圍內采用仿生結構驅動的潛水器在2000米深度的首次成功嘗試，也標志著“西谷I號”成為目前深度最大，且真正具有深海作業(yè)能力的新一代仿生型潛水器樣機。
西湖大學
2023-06-05
一種提高熒光粉熱穩(wěn)定性的方法
最近以來，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點，獲得了大規(guī)模的應用。在實際應用過程中，熒光粉會由于熱量的產生，而發(fā)生發(fā)光強度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過程及工作過程中會發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因為在涂屏PDP過程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機溶劑。這樣會使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過程中則會發(fā)生真空紫外激勵的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因為高能粒子的濺射會造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對熒光粉進行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個有效途徑，因為通過包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國專利CN1667081A公開了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國專利CN1664051A公開了一種氧化鎂包覆熒光粉的方法。這些方法均一定程度上解決了目前藍色熒光粉的衰減問題。但由于這些方法都是采用液相法,對溶液的酸堿性要求高，工藝較復雜，最終產品性能重復性差。 本專利通過一種新型包覆方法，在粉體表面沉積原子層的惰性層，通過精確控制碳的沉積厚度在1nm左右,如下圖，可保持表面包覆層在紫外至紅外波段的透明度,有效消除熒光粉表面缺陷而不影響光的入射和出射，從而有效地提高熒光粉的發(fā)光效率。 該方法適用于氧化物和氮化物熒光粉，普適性好，可提高熒光粉的熱穩(wěn)定20%以上，具有成本低，工藝簡單，重復性好等優(yōu)點，易于大規(guī)模生產。
電子科技大學
2021-04-10
一種提高熒光粉熱穩(wěn)定性的方法
最近以來，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點，獲得了大規(guī)模的應用。在實際應用過程中，熒光粉會由于熱量的產生，而發(fā)生發(fā)光強度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過程及工作過程中會發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因為在涂屏PDP過程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機溶劑。這樣會使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過程中則會發(fā)生真空紫外激勵的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因為高能粒子的濺射會造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對熒光粉進行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個有效途徑，因為通過包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國專利CN1667081A公開了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國專利CN1664051A公開了一
電子科技大學
2021-04-10
全自動晶圓級LED熒光粉智能涂覆機
項目成果/簡介: 本產品圍繞晶圓級、芯片級和倒裝等先進封裝形式的大功率白光LED產業(yè)發(fā)展重大需求，突破了高速高均勻度熒光粉膠霧化涂覆控制、生產過程品質控制與優(yōu)化管理等核心技術，自主研發(fā)了面向晶圓級級封裝的全自動晶圓級LED熒光粉高均勻涂覆機。本產品采用自動上下料傳送機構、自動加熱、自動視覺定位、涂覆厚度自動檢測、自動按照設定路徑和涂覆參數(shù)進行涂覆，是以復雜的光機電一體化精密封裝設備，主要技術性能指標達到國內領先水平。 應用于LED生產行業(yè)，滿足了各種新型LED封裝自動化生產需求，有效提升了封裝質量、熱阻分散性、色品一致性、出光效率等性能指標和產業(yè)競爭力。推動我國半導體照明等新興戰(zhàn)略產業(yè)的持續(xù)性發(fā)展。 全自動晶圓級LED熒光粉智能涂覆機知識產權類型:發(fā)明專利技術先進程度:達到國內領先水平成果獲得方式:獨立研究獲得政府支持情況:無
華南理工大學
2021-04-10
全自動晶圓級LED熒光粉智能涂覆機
本產品圍繞晶圓級、芯片級和倒裝等先進封裝形式的大功率白光LED產業(yè)發(fā)展重大需求，突破了高速高均勻度熒光粉膠霧化涂覆控制、生產過程品質控制與優(yōu)化管理等核心技術，自主研發(fā)了面向晶圓級級封裝的全自動晶圓級LED熒光粉高均勻涂覆機。本產品采用自動上下料傳送機構、自動加熱、自動視覺定位、涂覆厚度自動檢測、自動按照設定路徑和涂覆參數(shù)進行涂覆，是以復雜的光機電一體化精密封裝設備，主要技術性能指標達到國內領先水平。
應用于LED生產行業(yè)，滿足了各種新型LED封裝自動化生產需求，有效提升了封裝質量、熱阻分散性、色品一致性、出光效率等性能指標和產業(yè)競爭力。推動我國半導體照明等新興戰(zhàn)略產業(yè)的持續(xù)性發(fā)展。
全自動晶圓級LED熒光粉智能涂覆機
華南理工大學
2021-05-11
超臨界水熱合成納米金屬及其氧化物粉體
高校科技成果盡在科轉云
西安交通大學
2021-04-10
納米氮化釩及納米碳氮化釩粉體的制備方法
本發(fā)明提供了一種納米氮化釩及納米碳氮化釩粉體的制備方法。其特征在于以粉狀釩酸銨、碳質還原劑和微量稀土等催化劑為原料，按一定配比將它們溶于去離子水或蒸餾水中，并攪拌均勻，制得溶液。然后將該溶液加熱、干燥，最后得到含有釩源和碳源的前驅體粉末。將前驅體粉末置于高溫反應爐中，并通入還原氣體作為反應和保護氣體，于800～950℃、30～60min條件下，制得平均粒徑＜100nm、粒度分布均勻的納米氮化釩及納米碳氮化釩粉體。本方法具有反應溫度低、反應時間短、生產成本低、工藝簡單等特點，適合工業(yè)化生產。
四川大學
2021-04-11
一種六方氮化硼粉體及其制備方法
小試階段/n本發(fā)明解決六方氮化硼制備工藝復雜、生產周期長原料毒性大和不易規(guī)模化生產的技術問題。本發(fā)明具有生產周期短、工藝簡單、適宜工業(yè)化規(guī)模生產的特點，所制備的六方氮化硼粉體純度和結晶度顯著高于現(xiàn)有方法制備的六方氮化硼粉體。本發(fā)明處于待轉化階段，應用范圍廣闊，市場前景可觀，預期經(jīng)濟效益優(yōu)異。
武漢科技大學
2021-01-12
一種提高熒光粉熱穩(wěn)定性的方法
成果簡介： 最近以來，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點，獲得了大規(guī)模的應用。在實際應用過程中，熒光粉會由于熱量的產生，而發(fā)生發(fā)光強度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過程及工作過程中會發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因為在涂屏PDP過程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機溶劑。這樣會使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過程中則會發(fā)生真空紫外激勵的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因為高能粒子的濺射會造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對熒光粉進行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個有效途徑，因為通過包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國專利CN1667081A公開了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國專利CN1664051A公開了一種氧化鎂包覆熒光粉的方法。這些方法均一定程度上解決了目前藍色熒光粉的衰減問題。但由于這些方法都是采用液相法,對溶液的酸堿性要求高，工藝較復雜，最終產品性能重復性差。 本專利通過一種新型包覆方法，在粉體表面沉積原子層的惰性層，通過精確控制碳的沉積厚度在1nm左右,如下圖，可保持表面包覆層在紫外至紅外波段的透明度,有效消除熒光粉表面缺陷而不影響光的入射和出射，從而有效地提高熒光粉的發(fā)光效率。 該方法適用于氧化物和氮化物熒光粉，普適性好，可提高熒光粉的熱穩(wěn)定20%以上，具有成本低，工藝簡單，重復性好等優(yōu)點，易于大規(guī)模生產。
電子科技大學
2017-10-23