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產(chǎn)品詳細(xì)介紹KBM無(wú)框直驅(qū)電機(jī)系列采用了最新的直接驅(qū)動(dòng)技術(shù)。 KBM直驅(qū)電機(jī)憑借多種多樣的規(guī)格和轉(zhuǎn)矩，為當(dāng)今的設(shè)計(jì)工程師提供了他們所需的高性能、長(zhǎng)壽命和便捷的安裝。KBM無(wú)框力矩電機(jī)的優(yōu)勢(shì)：? 和負(fù)載直接連接，消除了減速機(jī)、同步帶和滑輪? 零齒隙提供了更好的系統(tǒng)性能? 消除了機(jī)器連接設(shè)備，降低了機(jī)器的整體尺寸? 內(nèi)置式電機(jī)使機(jī)器更為緊湊? 大量的標(biāo)準(zhǔn)電機(jī)備選，并提供定制化服務(wù)，助您更快，更經(jīng)濟(jì)的研發(fā)您   的機(jī)器作為Kollmorgen的系統(tǒng)集成商，慧摩森公司可為您設(shè)計(jì)、加工、組裝和調(diào)試KBM全系列的集成產(chǎn)品。

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懸賞金額：50萬(wàn)元 發(fā)榜企業(yè)：惠州市強(qiáng)達(dá)電子工業(yè)有限公司 需求領(lǐng)域：特種功能材料 LED前沿與核心技術(shù) 精細(xì)化工 電子材料、半導(dǎo)體材料高分子、復(fù)合材料 產(chǎn)業(yè)集群：先進(jìn)材料產(chǎn)業(yè)集群 技術(shù)關(guān)鍵詞：光刻樹(shù)脂; 光刻膠; 特種硅樹(shù)脂; 高性能硅橡膠; 紫外光固化技術(shù)

"用紫銅導(dǎo)線做成的導(dǎo)線直計(jì)電度表，可使電度表由一公斤重，變成100克重 "

該產(chǎn)品可以用于加工直傘電極及直傘產(chǎn)品。該軟件包包括齒坯參數(shù)輸入、粗加工和精加工CAM軟件、齒厚測(cè)量及齒面網(wǎng)格生成軟件、測(cè)量誤差分析、齒輪切邊模軟件和齒形定位夾具軟件。所加工齒輪可以達(dá)到6級(jí)精度，在機(jī)床精度高的情況下可以達(dá)到4級(jí)。本軟件包為全部自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，可用于三軸，四軸，五軸的數(shù)控機(jī)床。 應(yīng)用范圍： 可加工靜鍛齒輪電極，也可加工齒輪樣品。 直齒傘齒輪在汽車差速器和各類機(jī)械設(shè)備中有著廣泛的應(yīng)用，其傳統(tǒng)的齒形加工方法主要是利用傘齒輪铇齒機(jī)或雙刀盤銑齒機(jī)來(lái)進(jìn)行切削加工，加工效率不高，也無(wú)法采用半封閉齒槽等可以提高輪齒彎曲強(qiáng)度的設(shè)計(jì)方案。為了提高加工效率，降低成本和提高輪齒強(qiáng)度，目前汽車差速器所用的直齒傘齒輪基本上都采用精密鍛造的方法來(lái)生產(chǎn)。精鍛齒輪需要模具，雖然精鍛用的凹模也可以直接采用機(jī)械加工的方法來(lái)制造，但加工效率低，刀具消耗大，并不經(jīng)濟(jì)，因此目前基本上都采用先制造銅或石墨電極，再利用EDM來(lái)制造凹模。 本軟件包主要是針對(duì)汽車工業(yè)中的電極制造而開(kāi)發(fā)的，包括齒輪設(shè)計(jì)或參數(shù)輸入、齒形粗加工、齒形精加工、齒厚測(cè)量、切邊模線切割數(shù)據(jù)生成、齒面接觸區(qū)分析、齒面網(wǎng)格點(diǎn)生成、三座標(biāo)測(cè)量、測(cè)量數(shù)據(jù)分析等多個(gè)功能模塊，包含了直齒傘齒輪設(shè)計(jì)、制造和質(zhì)量保證所需的全部功能。為了滿足具有不同設(shè)備的客戶的需求，還分別開(kāi)發(fā)了在三軸、四軸和五軸聯(lián)動(dòng)數(shù)控機(jī)床上精加工電極齒形的軟件模塊。

?  成果簡(jiǎn)介：高精度直驅(qū)伺服平臺(tái)是一種采用直線電機(jī)直接驅(qū)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)控制平臺(tái)，它改變過(guò)去依賴于機(jī)械轉(zhuǎn)換裝置才能將旋轉(zhuǎn)電機(jī)的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)化為直線運(yùn)動(dòng)的約束，克服了傳統(tǒng)機(jī)械轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)的傳動(dòng)鏈長(zhǎng)、體積大、效率低、精度差等缺陷。直線電機(jī)結(jié)構(gòu)類型廣泛，可針對(duì)不同安裝要求，選擇平板型、U型、盤型及圓筒型等，同時(shí)行程范圍不受機(jī)械轉(zhuǎn)換裝置限制，可廣泛適用于各種運(yùn)動(dòng)控制場(chǎng)合。采用直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)的高精度直驅(qū)伺服平臺(tái)，具有系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、環(huán)境適應(yīng)能力強(qiáng)、效率高、動(dòng)態(tài)性能好、定位精度高等優(yōu)點(diǎn)。?&n

1.痛點(diǎn)問(wèn)題 光刻膠作為集成電路制備中不可或缺的一部分，已成為國(guó)家的戰(zhàn)略資源之一。半導(dǎo)體光刻膠的核心在于成膜樹(shù)脂，受限于研發(fā)難度大、專利壁壘高、資金投入多、準(zhǔn)入門檻高，目前國(guó)內(nèi)企業(yè)尚難以突破KrF膠（248nm）或ArF膠（193nm），而EUV膠完全不能自主供給。 2.解決方案 本項(xiàng)技術(shù)采用了國(guó)際最前沿的納米氧化物團(tuán)簇材料的工藝路線，可以實(shí)現(xiàn)單2nm小分子的光刻膠成膜樹(shù)脂材料，攻克了材料合成和納米材料提純的難題，可滿足目前半導(dǎo)體3nm制程節(jié)點(diǎn)的技術(shù)要求，RLS分辨率、邊緣粗糙度、靈敏度三項(xiàng)關(guān)鍵性能指標(biāo)優(yōu)異，其曝光劑量遠(yuǎn)低于Intel公司提出的20mJ/cm2的成本線。此外，本項(xiàng)技術(shù)具有多種半導(dǎo)體光刻膠兼容性，可以生產(chǎn)248nm和193nm光源的半導(dǎo)體光刻膠成膜樹(shù)脂，以及電子束半導(dǎo)體掩膜用光刻膠成膜樹(shù)脂，具有廣闊的技術(shù)替代優(yōu)勢(shì)和市場(chǎng)應(yīng)用前景。 3.合作需求 本項(xiàng)技術(shù)已設(shè)立衍生企業(yè)，位于江蘇常州的3000m2研發(fā)生產(chǎn)中心正在建設(shè)中。 1）融資需求：本輪天使輪融資6000萬(wàn)元。 2）資源對(duì)接需求：集成電路芯片制造、掩膜板生產(chǎn)企業(yè)，地方政府等。

成果簡(jiǎn)介：高精度直驅(qū)伺服平臺(tái)是一種采用直線電機(jī)直接驅(qū)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)控制平臺(tái)，它改變過(guò)去依賴于機(jī)械轉(zhuǎn)換裝置才能將旋轉(zhuǎn)電機(jī)的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)化為直線 運(yùn)動(dòng)的約束，克服了傳統(tǒng)機(jī)械轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)的傳動(dòng)鏈長(zhǎng)、體積大、效率低、精度差等缺陷。直線電機(jī)結(jié)構(gòu)類型廣泛，可針對(duì)不同安裝要求，選擇平板型、U 型、盤型及圓筒型等，同時(shí)行程范圍不受機(jī)械轉(zhuǎn)換裝置限制，可廣泛適用于 各種運(yùn)動(dòng)控制場(chǎng)合。采用直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)的高精度直驅(qū)伺服平臺(tái)，具有系統(tǒng)結(jié) 構(gòu)簡(jiǎn)單、環(huán)境適應(yīng)能力強(qiáng)、效率高、動(dòng)態(tài)性能好、定位精度高等優(yōu)

平臺(tái)式全自動(dòng)數(shù)控沖床，采用平臺(tái)式送料機(jī)，配置三工位直線模具，通過(guò)CAD畫圖軟件自動(dòng)生成加工程序，操作簡(jiǎn)單、方便，是一款簡(jiǎn)易數(shù)控設(shè)備，價(jià)格相對(duì)較低；主要用于廣告行業(yè)、設(shè)備面板、電器元件安裝板、櫥具及機(jī)箱機(jī)柜等大小不同，形狀各異的孔型加工。

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問(wèn)題是光產(chǎn)酸在后烘階段會(huì)發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問(wèn)題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們?cè)谄毓膺^(guò)程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對(duì)羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對(duì)羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。  利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：  在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡(jiǎn)便易行，成本相對(duì)低廉，在經(jīng)過(guò)多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對(duì)我國(guó)電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來(lái)困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場(chǎng)的70%以上，而我國(guó)在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來(lái)光刻膠引起了社會(huì)的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開(kāi)始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國(guó)外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國(guó)家十五“863”光刻膠重大專項(xiàng)開(kāi)始，至今近二十年來(lái)聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專利及文章： 1.國(guó)家重大科技專項(xiàng)（02專項(xiàng)）子課題,課題編號(hào):2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹(shù)脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國(guó)家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國(guó)發(fā)明專利，專利號(hào)：9。