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產(chǎn)品詳細介紹KBM無框直驅(qū)電機系列采用了最新的直接驅(qū)動技術(shù)。 KBM直驅(qū)電機憑借多種多樣的規(guī)格和轉(zhuǎn)矩，為當今的設(shè)計工程師提供了他們所需的高性能、長壽命和便捷的安裝。KBM無框力矩電機的優(yōu)勢：? 和負載直接連接，消除了減速機、同步帶和滑輪? 零齒隙提供了更好的系統(tǒng)性能? 消除了機器連接設(shè)備，降低了機器的整體尺寸? 內(nèi)置式電機使機器更為緊湊? 大量的標準電機備選，并提供定制化服務(wù)，助您更快，更經(jīng)濟的研發(fā)您   的機器作為Kollmorgen的系統(tǒng)集成商，慧摩森公司可為您設(shè)計、加工、組裝和調(diào)試KBM全系列的集成產(chǎn)品。

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懸賞金額：50萬元 發(fā)榜企業(yè)：惠州市強達電子工業(yè)有限公司 需求領(lǐng)域：特種功能材料 LED前沿與核心技術(shù) 精細化工 電子材料、半導(dǎo)體材料高分子、復(fù)合材料 產(chǎn)業(yè)集群：先進材料產(chǎn)業(yè)集群 技術(shù)關(guān)鍵詞：光刻樹脂; 光刻膠; 特種硅樹脂; 高性能硅橡膠; 紫外光固化技術(shù)

"用紫銅導(dǎo)線做成的導(dǎo)線直計電度表，可使電度表由一公斤重，變成100克重 "

該產(chǎn)品可以用于加工直傘電極及直傘產(chǎn)品。該軟件包包括齒坯參數(shù)輸入、粗加工和精加工CAM軟件、齒厚測量及齒面網(wǎng)格生成軟件、測量誤差分析、齒輪切邊模軟件和齒形定位夾具軟件。所加工齒輪可以達到6級精度，在機床精度高的情況下可以達到4級。本軟件包為全部自主知識產(chǎn)權(quán)，可用于三軸，四軸，五軸的數(shù)控機床。 應(yīng)用范圍： 可加工靜鍛齒輪電極，也可加工齒輪樣品。 直齒傘齒輪在汽車差速器和各類機械設(shè)備中有著廣泛的應(yīng)用，其傳統(tǒng)的齒形加工方法主要是利用傘齒輪铇齒機或雙刀盤銑齒機來進行切削加工，加工效率不高，也無法采用半封閉齒槽等可以提高輪齒彎曲強度的設(shè)計方案。為了提高加工效率，降低成本和提高輪齒強度，目前汽車差速器所用的直齒傘齒輪基本上都采用精密鍛造的方法來生產(chǎn)。精鍛齒輪需要模具，雖然精鍛用的凹模也可以直接采用機械加工的方法來制造，但加工效率低，刀具消耗大，并不經(jīng)濟，因此目前基本上都采用先制造銅或石墨電極，再利用EDM來制造凹模。 本軟件包主要是針對汽車工業(yè)中的電極制造而開發(fā)的，包括齒輪設(shè)計或參數(shù)輸入、齒形粗加工、齒形精加工、齒厚測量、切邊模線切割數(shù)據(jù)生成、齒面接觸區(qū)分析、齒面網(wǎng)格點生成、三座標測量、測量數(shù)據(jù)分析等多個功能模塊，包含了直齒傘齒輪設(shè)計、制造和質(zhì)量保證所需的全部功能。為了滿足具有不同設(shè)備的客戶的需求，還分別開發(fā)了在三軸、四軸和五軸聯(lián)動數(shù)控機床上精加工電極齒形的軟件模塊。

?  成果簡介：高精度直驅(qū)伺服平臺是一種采用直線電機直接驅(qū)動的運動控制平臺，它改變過去依賴于機械轉(zhuǎn)換裝置才能將旋轉(zhuǎn)電機的旋轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)化為直線運動的約束，克服了傳統(tǒng)機械轉(zhuǎn)換機構(gòu)的傳動鏈長、體積大、效率低、精度差等缺陷。直線電機結(jié)構(gòu)類型廣泛，可針對不同安裝要求，選擇平板型、U型、盤型及圓筒型等，同時行程范圍不受機械轉(zhuǎn)換裝置限制，可廣泛適用于各種運動控制場合。采用直線電機驅(qū)動的高精度直驅(qū)伺服平臺，具有系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單、環(huán)境適應(yīng)能力強、效率高、動態(tài)性能好、定位精度高等優(yōu)點。?&n

1.痛點問題 光刻膠作為集成電路制備中不可或缺的一部分，已成為國家的戰(zhàn)略資源之一。半導(dǎo)體光刻膠的核心在于成膜樹脂，受限于研發(fā)難度大、專利壁壘高、資金投入多、準入門檻高，目前國內(nèi)企業(yè)尚難以突破KrF膠（248nm）或ArF膠（193nm），而EUV膠完全不能自主供給。 2.解決方案 本項技術(shù)采用了國際最前沿的納米氧化物團簇材料的工藝路線，可以實現(xiàn)單2nm小分子的光刻膠成膜樹脂材料，攻克了材料合成和納米材料提純的難題，可滿足目前半導(dǎo)體3nm制程節(jié)點的技術(shù)要求，RLS分辨率、邊緣粗糙度、靈敏度三項關(guān)鍵性能指標優(yōu)異，其曝光劑量遠低于Intel公司提出的20mJ/cm2的成本線。此外，本項技術(shù)具有多種半導(dǎo)體光刻膠兼容性，可以生產(chǎn)248nm和193nm光源的半導(dǎo)體光刻膠成膜樹脂，以及電子束半導(dǎo)體掩膜用光刻膠成膜樹脂，具有廣闊的技術(shù)替代優(yōu)勢和市場應(yīng)用前景。 3.合作需求 本項技術(shù)已設(shè)立衍生企業(yè)，位于江蘇常州的3000m2研發(fā)生產(chǎn)中心正在建設(shè)中。 1）融資需求：本輪天使輪融資6000萬元。 2）資源對接需求：集成電路芯片制造、掩膜板生產(chǎn)企業(yè)，地方政府等。

成果簡介：高精度直驅(qū)伺服平臺是一種采用直線電機直接驅(qū)動的運動控制平臺，它改變過去依賴于機械轉(zhuǎn)換裝置才能將旋轉(zhuǎn)電機的旋轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)化為直線 運動的約束，克服了傳統(tǒng)機械轉(zhuǎn)換機構(gòu)的傳動鏈長、體積大、效率低、精度差等缺陷。直線電機結(jié)構(gòu)類型廣泛，可針對不同安裝要求，選擇平板型、U 型、盤型及圓筒型等，同時行程范圍不受機械轉(zhuǎn)換裝置限制，可廣泛適用于 各種運動控制場合。采用直線電機驅(qū)動的高精度直驅(qū)伺服平臺，具有系統(tǒng)結(jié) 構(gòu)簡單、環(huán)境適應(yīng)能力強、效率高、動態(tài)性能好、定位精度高等優(yōu)

平臺式全自動數(shù)控沖床，采用平臺式送料機，配置三工位直線模具，通過CAD畫圖軟件自動生成加工程序，操作簡單、方便，是一款簡易數(shù)控設(shè)備，價格相對較低；主要用于廣告行業(yè)、設(shè)備面板、電器元件安裝板、櫥具及機箱機柜等大小不同，形狀各異的孔型加工。

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問題是光產(chǎn)酸在后烘階段會發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護部分酚羥基，由其組成了單組分的化學增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。  利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達5：1的光刻圖形：  在此基礎(chǔ)上，還制備了負型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經(jīng)過多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場的70%以上，而我國在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進口，即便是低端的i-線光刻膠國產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國外先進光刻膠產(chǎn)品競爭的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項目、專利及文章： 1.國家重大科技專項（02專項）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹脂的擴試技術(shù)研究） 2.國家自然科學基金應(yīng)急管理項目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國發(fā)明專利，專利號：9。