一種光學模鐵磁共振增強的多層膜及其制備方法
高頻軟磁薄膜的鐵磁共振頻率是集成化微磁電感的上限工作頻率。受限于較低的聲學模共振頻率,當前微磁電感的頻率較低。基于光學模共振的軟磁薄膜具有非常高的共振頻率,將成為提高微磁電感頻率的新突破口。本發明主要介紹了實現光學模共振的多層膜結構及其制備方法,有望用于制備集成化微磁電感或其他磁性薄膜集成器件。本發明所述的光學模共振是從未使用過的新原理,基于光學模共振的高頻軟磁薄膜材料及其集成電路工藝兼容性制備方法,將有利于將其推廣到集成電路磁性元器件的各個應用環節,例如,微磁電感、隔離器、耦合器、濾波器等等,具有廣闊的應用前景。
青島大學
2021-04-13