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關于實施支持科技創新專項擔保計劃的通知
撬動更多金融資源投向科技創新領域，為實現高水平科技自立自強、加快形成新質生產力、促進經濟高質量發展提供有力支撐。
財政部
2024-07-29
關于支持青年科技人才發展的若干措施
為深入學習貫徹黨的二十大、二十屆三中全會和省委十四屆歷次全會精神，全面貫徹落實習近平總書記對青年科技人才工作的重要指示批示精神，深入實施創新驅動發展戰略、人才強省戰略，深化人才發展體制機制改革，加快建設國家戰略人才力量，完善青年創新人才發現、選拔、培養機制，大力推進我省青年科技人才隊伍建設，結合工作實際，提出以下政策措施。
青海省科學技術廳
2024-12-16
維意真空小型桌面磁控濺射鍍膜機支持定制
MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機
真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質量流量計：10sccm、50sccm質量流量控制器各1套；膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25
維意真空小型桌面熱蒸發鍍膜機支持定制
EV-246小型電阻蒸發鍍膜機真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能）；蒸發源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發電源，功率2KW，配源間防污隔板；膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25
維意真空高真空金屬有機蒸發鍍膜機支持定制
EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機
真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養；
真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）；
真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；
蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；
蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能；
基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調；
基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm；
濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；
膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；
可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25
維意真空多靶高真空磁控濺射鍍膜機支持定制
MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機
真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，前開門結構；
真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；
極限真空：優于5?10-5Pa（經烘烤除氣后）；
真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；
升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續在線自動可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；
磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；
濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；
質量流量計：2～3路工藝氣體，可根據工藝要求增加；
膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；
控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25
維意真空手套箱金屬有機蒸發鍍膜機支持定制
SEV-400手套箱金屬有機蒸發鍍膜機
真空腔室：采用立式方形結構，前門為水平滑開式，位于手套箱體內部，前開門便于蒸發材料和樣片在保護環境下裝卸，后開門便于真空室的清理維護（后門帶鎖緊裝置在充氣條件下保持腔室密閉與大氣環境隔離），整機位于手套箱體下面，節約占地面積；
真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限高達2.0?10-5Pa，另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限高達3.0?10-6Pa；
真空抽速：大氣～5?10-4Pa≤30min（手套箱環境中）；
基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板，基片臺公轉，轉速0～20r/min可調，襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm；
蒸發源及電源：4～6組歐美技術金屬或有機束源爐蒸發源可選，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制，電流、功率可以預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能；
膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚；
控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-27
教育部部長懷進鵬：支持辦好新型研究型大學
2月23日，教育部黨組書記、部長懷進鵬赴深圳調研，深入深圳晶泰科技有限公司、深圳市光明科學城、深圳醫學科學院、深圳理工大學，了解新技術賦能藥物研發、合成生物研究、腦設施應用、醫學科技創新、新型研究型大學學科建設等情況，主持召開新型研究型大學調研座談會。
教育部、微言教育
2025-02-24
《大連市進一步支持科技創新若干政策措施》
政策措施自2025年1月1日起實施，有效期至2029年12月31日。
大連市政府辦公廳
2024-12-09
《北京市支持科技服務業高質量發展若干措施》發布
推動產教融合和科教融合，鼓勵高等院校、職業學校、行業組織開展科技服務業專業技術培訓。
北京市科學技術委員會、中關村科技園區管理委員會
2025-01-21