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一種機械零件表平面殘余應力場的預測方法
本發(fā)明公開了一種機械零件表平面殘余應力場的預測方法，包 括以下步驟:1)建立主殘余應力分量的二元 n 階三角級數(shù)多項式模型; 2)初步測試分析確定模型階數(shù) n 值;3)根據(jù)模型階數(shù) n，確定測試點個 數(shù)及測試方案并進行測試;4)根據(jù)預測模型和測試結(jié)果，對模型進行 矩陣形式整理求解模型系數(shù);5)根據(jù)殘余應力分量測試結(jié)果、已求的 模型系數(shù)和自平衡條件，求解其它殘余應力分量預測模型系數(shù);6)表 平面殘余應力場形象表征。本發(fā)明方法避免了測試的盲目性
華中科技大學
2021-04-14
一種樁板平面與立面交錯組合的輔助消能工
本發(fā)明公開了一種樁板平面與立面交錯組合的輔助消能工，通過在泄流堰下游的消力池內(nèi)等距設(shè)置 3 級板樁結(jié)構(gòu)，形成空間結(jié)構(gòu)交錯的板樁錯位布置，使水流出現(xiàn)旋滾，達到多級輔助消能的效果;所述 板樁結(jié)構(gòu)均由若干消能樁及其之間架設(shè)的高低板組成，布置于同一過水斷面上。水流劇烈撞擊板樁結(jié)構(gòu)，
武漢大學
2021-04-14
基于 FPGA 的紅外焦平面陣列條帶狀非均勻性校正系統(tǒng)和方法
本發(fā)明公開了一種基于 FPGA 的紅外焦平面陣列條帶狀非均勻性校正系統(tǒng)和方法，屬于紅外成像技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明以中值紅外均衡算法(MIRE)為核心，針對算法以及 FPGA 的特性進行了優(yōu)化，包括圖像緩存模塊、參數(shù)計算模塊、非均勻性校正模塊與數(shù)據(jù)輸出模塊。參數(shù)計算模塊根據(jù)上位機指令得到加權(quán)系數(shù)，原始圖像經(jīng)過緩存后，按列方向順序輸入非均勻性校正模塊得到每一列圖像的直方圖、累計直方圖與逆直方圖，然后通過對累計直方圖和逆直方圖進
華中科技大學
2021-04-14
高性能自適應紅外焦平面探測系統(tǒng)芯片及其應用技術(shù)研究
本項目整體技術(shù)通過產(chǎn)學研用相結(jié)合，已得到充分的推廣應用。本成果申請專利85項，其中授權(quán)34項，發(fā)表SCI/EI論文69篇；本項目攻克了片上自適應補償與校正、輸出數(shù)字化、智能圖像增強等關(guān)鍵技術(shù)；研制出了目前國際上最先進的智能靈巧型焦平面探測系統(tǒng)芯片；解決了系統(tǒng)芯片低噪聲、低溫漂、高均勻性、智能靈巧化的瓶頸問題；實現(xiàn)了焦平面向單片集成片上系統(tǒng)的跨越式發(fā)展。經(jīng)權(quán)威檢測和鑒定：該成果的綜合技術(shù)指標達到國際先進水平，其中RMS噪聲電壓（325.3 μV）、固定圖像噪聲電壓（12.1mV）居國際領(lǐng)先”。
電子科技大學
2021-04-14
一種對毛坯自動分區(qū)、分步加工的平面混合刀路生成方法
本發(fā)明公開了一種基于勢能場梯度線的平面加工混合刀路生成 方法，其利用勢能場梯度線長度的變化趨勢對加工區(qū)域分區(qū)，并在不 同的加工區(qū)域分別產(chǎn)生單向行切刀路和螺旋刀路，包括：在平面加工 區(qū)域生成一個虛擬勢能場，得到一系列梯度線。從毛坯的拐角處出發(fā)， 沿毛坯外邊界采用基于梯度線長度的搜尋算法獲得兩種刀路區(qū)域的分 界線的極限位置。通過引入比例因子(用單向行切刀路加工的區(qū)域占整 個加工區(qū)域的比例)，在極限分界線基礎(chǔ)上根據(jù)毛坯和葉片的具體形狀 決定兩種刀路所占的比例，從而得到兩種刀路的加工區(qū)域，分別在兩 個區(qū)域上
華中科技大學
2021-04-14
一種平面度誤差測量裝置及其二維掃描工作臺
本發(fā)明公開了一種平面度誤差測量裝置其包括激光器、柔性鉸 鏈、靜光柵、動光柵、測量頭、壓縮彈簧、底板以及光電探測器，測 量頭固定在柔性鉸鏈的第一端部處并伸出，動光柵設(shè)置在柔性鉸鏈的 第一端部內(nèi)，壓縮彈簧一端與底板連接且另一端與柔性鉸鏈的第一端部連接，壓縮彈簧位于測量頭的下方，柔性鉸鏈的第二端部與底板固 定，靜光柵固定在底板上，其與動光柵平行相對且相鄰設(shè)置，激光器 也設(shè)置在底板上，光電探測器設(shè)置在靜光柵出光端。本發(fā)明還提供一 種二維掃描工作臺。
華中科技大學
2021-04-14
一種在二維平面內(nèi)生成隨機橢圓形增強相的方法
本發(fā)明公開一種在二維平面內(nèi)生成隨機橢圓形增強相的方法，該方法利用計算機隨機數(shù)生成方式，隨機產(chǎn)生橢圓中心坐標和偏轉(zhuǎn)角，通過判斷點與橢圓的位置關(guān)系，避免了橢圓之間相互重疊。本發(fā)明理論簡單、快速高效，判斷橢圓之間是否相交只涉及到點與圓位置關(guān)系的判斷公式，相比已有專利中通過多邊形覆蓋法、橢圓覆蓋法等，本發(fā)明更易于學習掌握；本發(fā)明中橢圓的生成遵循逐行逐列的原則，相比在整個模擬區(qū)域內(nèi)隨機生成隨機的橢圓，特別是當生成橢圓的縱橫比相差較大的時候，生成橢圓形增強相的時間更短，效率更高。
東南大學
2021-04-11
一種基于金屬基平面納尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜
本發(fā)明公開了一種基于金屬基平面納尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜，其包括：由金屬平面納尖簇線密集排布構(gòu)成的一層圖案化陽極和一層平面金屬納膜陰極/陽極，它們被分別制作在透光的納米厚度的基膜/光學介質(zhì)層的兩個外表面上；在加電態(tài)下，圖案化陽極中的金屬平面納尖與金屬納膜陰極/陽極間形成局域彎曲的銳化電場陣，陰極/陽極上可自由移動的電子被陰陽電極間所激勵的陣列化納電場驅(qū)控，向各納電場中電場強度最強部位聚集。本發(fā)明基于金屬基平面納尖簇電
華中科技大學
2021-04-14
一種基于金屬平面微納線尖電極的電調(diào)透光率薄膜
本發(fā)明公開了一種基于金屬平面微納線尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜，其包括：由金屬平面微納線尖有序密集排布構(gòu)成的一層圖案化陰極和一層平面陽極，它們被分別制作在一層納米厚度的透光基膜/電絕緣膜的上下表面；在加電態(tài)下，陰極上可自由移動的電子被陰陽電極間所激勵的電場驅(qū)控，向金屬平面微納線尖簇其各納線尖頂聚集，納線尖金屬電連接線上的自由電子分布密度因部分甚至絕大多數(shù)電子被納線尖頂抽走而減少甚至急劇降低。本發(fā)明基于金屬平面微納線尖
華中科技大學
2021-04-14
一種融合多尺度特征的激光掃描數(shù)據(jù)物理平面自動化提取方法
本發(fā)明涉及一種融合多尺度特征的激光掃描數(shù)據(jù)物理平面自動化提取方法。本發(fā)明解決的現(xiàn)有問題 主要包括:1發(fā)展了基于信息熵的最佳鄰域自適應確定方法，克服了點密度變化、噪聲、數(shù)據(jù)缺失等因 素對三維點局部幾何特征計算的影響;2綜合利用基于點的特征(維數(shù)特征，法向量等)和基于區(qū)域的 特征(粗糙度、緊湊度、尺度、長寬比等)進行物理平面區(qū)域提取，提高了物理平面提取的準確性;3 擴展了現(xiàn)有平面分割方法的適用范圍，本發(fā)明適用于機載、車載、固定站等多種類型激光掃描數(shù)據(jù)的物 理平面提取。發(fā)明的整體技術(shù)流程圖如下圖。
武漢大學
2021-04-13