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本實用新型屬于機械工程密封技術(shù)領(lǐng)域，特別適用于旋轉(zhuǎn)軸的磁性液體密封。 本實用新型所要解決的技術(shù)問題是，現(xiàn)有的真空應(yīng)用領(lǐng)域如：各種真空泵、鍍膜機等因受空間尺寸限制而未能采用磁性液體密封，為此，提供一種減小徑向空間尺寸的磁性液體密封裝置。 本實用新型的技術(shù)方案：在密封裝置兩軸承之間的旋轉(zhuǎn)軸的相應(yīng)位置上鍍導(dǎo)磁層，使得空間尺寸變小，從而能夠采用磁性液體密封，達到很好的密封效果要求。 減小徑向空間尺寸的磁性液體密封裝置包括：套、軸承、導(dǎo)磁膜、橡膠密封圈、極靴、永磁鐵、磁性液體、螺釘、調(diào)節(jié)墊片、法蘭盤、軸。在兩軸承之間的非磁性軸的相應(yīng)位置表面上，加工一個深度為0.1~0.2 mm的凹槽，在凹槽處鍍一層厚度和深度相同的鎳或鈷材料的導(dǎo)磁膜。安裝時先將橡膠密封圈嵌入極靴中，然后依次將軸承、嵌完橡膠密封圈的極靴、永磁鐵、另一個嵌完橡膠密封圈的極靴、另一個軸承安裝到套的內(nèi)凸臺右側(cè)，然后裝上調(diào)節(jié)墊片和法蘭盤，用螺釘固定，將以上零件壓緊，將磁性液體注入極靴的極齒之間，最后裝上鍍有導(dǎo)磁膜的軸。磁性液體在磁場的作用下吸附在極靴的極齒間隙中，形成可靠密封。 本實用新型的有益效果是，采用減小徑向空間尺寸的磁性液體密封裝置，不僅具有空間尺寸變小，密封效果不變的優(yōu)點，而且裝配方法簡單。 該密封裝置的徑向空間尺寸比采用導(dǎo)磁的軸套結(jié)構(gòu)減小4 mm，而密封能力不變。上述密封裝置同樣適用于正壓密封。

開發(fā)了一種制備大尺寸塊體非晶合金的方法，利用該技術(shù)方法還可以制備非晶合金基復(fù)合材料。該項技術(shù)已經(jīng)獲得授權(quán)國家發(fā)明專利 2 項。產(chǎn)品性能、指標(biāo)大尺寸塊體非晶合金或非晶合金基復(fù)合材料產(chǎn)品非晶一致性好、尺寸大，理論上可以做到任意尺寸，目前可以做到 500mm×300mm×300mm。適用范圍、市場前景塊體非晶合金具有超強、超硬、耐腐蝕等優(yōu)點，而且可用于制備塊體納米晶材料，但目前制備尺寸受到限制。本成果的目標(biāo)產(chǎn)品適用于生產(chǎn)、應(yīng)用超強、超硬金屬材料的企業(yè)

產(chǎn)品詳細介紹    

單層半導(dǎo)體性過渡族金屬硫?qū)倩衔铮∕X2: MoS2, WS2 等）是繼石墨烯之后備受關(guān)注的二維層狀材料。該類材料具有優(yōu)異的電學(xué)性質(zhì)、強的光物相互作用、高效的催化特性等，在光電子學(xué)器件、傳感器件、電催化產(chǎn)氫等領(lǐng)域具有非常廣闊的應(yīng)用前景。單層MX2 材料的批量制備和高品質(zhì)轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵的科學(xué)問題。現(xiàn)有方法仍面臨著諸多重大挑戰(zhàn)，例如，難以實現(xiàn)晶圓尺寸的層數(shù)均勻性、單晶疇區(qū)小、生長速度緩慢、生長襯底價格昂貴、轉(zhuǎn)移過程復(fù)雜、容易引入污染物等。北京大學(xué)張艷鋒課題組是國內(nèi)較早開展相關(guān)研究的課題組之一，在單層MX2材料的可控制備、精密表征和電催化產(chǎn)氫應(yīng)用方面取得了一系列重要進展：基于范德華外延的機理，他們在晶格匹配的云母基底上首次獲得了厘米尺度均勻的單層MoS2 (Nano Lett. 13, 3870 (2013)，他引198次)； 在藍寶石上獲得了大疇區(qū)單層WS2 (ACS Nano 7, 8963 (2013), 他引250次)；發(fā)展了一種新型的金屬性箔材(Au箔)基底，實現(xiàn)了疇區(qū)尺寸可調(diào)單層MoS2的制備，借助STM/STS表征技術(shù)建立起了材料原子尺度的形貌/缺陷態(tài)、電子結(jié)構(gòu)和電催化析氫之間的構(gòu)效關(guān)系 (ACS Nano 8, 10196 (2014)，他引124次)。上述成果也受邀撰寫綜述文章(Chem. Soc. Rev. 44, 2587 (2015)，他引92次)。最近他們在大尺寸均勻MoS2的批量制備以及“綠色”轉(zhuǎn)移方面取得重要進展。他們選用廉價易得的普通玻璃作為基底，創(chuàng)新性地采用Mo箔作為金屬源(與S粉共同作為前驅(qū)體)，采用“face-to-face”的金屬前驅(qū)體供給方式，實現(xiàn)了前驅(qū)體在樣品上下游的均勻供應(yīng)，使得樣品尺寸可以得到最大限度的放大(僅受限于爐體尺寸)，獲得了對角線長度可達6英寸的均勻單層MoS2; 結(jié)合DFT理論計算和系統(tǒng)的實驗結(jié)果發(fā)現(xiàn)，玻璃基底上微量的Na對材料生長起到明顯的促進作用, Na傾向于吸附在MoS2疇區(qū)的邊緣，起到顯著降低MoS2拼接生長能壘的作用，從而促進其快速生長。 獲取滿覆蓋單層樣品的生長時間僅為8 min，單晶疇區(qū)邊緣尺寸可達0.5 mm。此外，他們利用玻璃基底的親水特性，發(fā)展了一種無刻蝕的、僅利用超純水輔助的“綠色”轉(zhuǎn)移方法。該方法適用于晶圓尺寸樣品的快速轉(zhuǎn)移，且具有操作簡單，轉(zhuǎn)移樣品質(zhì)量高等明顯優(yōu)勢。該工作提出了利用廉價的普通玻璃基底來制備大面積、晶圓尺寸均勻、大疇區(qū)單層MoS2的新方法/新途徑，并深入分析了其生長機制，為相關(guān)二維材料的批量制備和高效轉(zhuǎn)移提供了重要的實驗依據(jù)，對于推動該類材料的實際應(yīng)用具有非常重要的意義。

?  成果簡介：大尺寸碟形金剛石砂輪是指用于齒輪專用磨床的直徑300mm～500mm之間的碟形金剛石砂輪，本項目對碟形金剛石砂輪的修整原理和技術(shù)基礎(chǔ)進行了深入研究，研究結(jié)果顯著地提高了硬質(zhì)合金插齒刀制造的齒形精度和表面質(zhì)量，解決了高精度、高速、高承載硬齒面?zhèn)鲃育X輪加工的關(guān)鍵技術(shù)難題。研制出一種利用杯形砂輪和對磨修整法的大尺寸碟形金剛石砂輪修整器，已獲得實用新型專利。修整器具有獨立的動力系統(tǒng)和雙向修整進給裝置，修整器剛性和工作穩(wěn)定性好，可分別使用D/GC杯形砂輪作為修整工具，修整器

本發(fā)明涉及一種花鍵套的端面尺寸的檢測系統(tǒng)及方法。該系統(tǒng)主要由 CMOS 相機、計算機、為此 系統(tǒng)編寫的特定的檢測軟件、檢測系統(tǒng)的工作臺、支架等部分組成，并采用了相機標(biāo)定技術(shù)校正光學(xué)系 統(tǒng)導(dǎo)致的零件圖像畸變，以及圖像測量技術(shù)實現(xiàn)對零件尺寸的檢測，檢測結(jié)果能夠量化、存儲及建庫管 理。該系統(tǒng)可實現(xiàn)花鍵套端面尺寸的高精度檢測，同時大大提高了零件檢測速度，系統(tǒng)操作簡單，工作 臺體積小，成本低，特別適合花鍵套的生產(chǎn)廠家在檢測過程中裝備使用，也可作為計質(zhì)檢部

本項目共包括10項授權(quán)專利，其中高品質(zhì)微波單晶薄膜的制備工藝獲得3項專利技術(shù)，同時將這種單晶薄膜應(yīng)用在微波器件/結(jié)構(gòu)、太赫茲結(jié)構(gòu)/器件和自旋邏輯器件中等，共獲得7項專利技術(shù)。本項目突破了我國在3英寸石榴石系列單晶體材料以及相關(guān)器件研究上的瓶頸技術(shù)，獲得了高法拉第效應(yīng)和低鐵磁共振線寬的大尺寸高質(zhì)量石榴石單晶薄膜材料。滿足了國內(nèi)在磁光、微波及毫米波集成器件方面對石榴石系晶體材料的需求，擺脫了完全依賴進口、受制于人的不利局面。（1）建成了我國第一條大尺寸磁

本發(fā)明公開了一種大尺寸骨支架制造裝置及其制造方法，包括：三維運動工作框架、擠出機構(gòu)，溫控單元，控制板以及工作臺面；溫控單元包括加熱單元以及驅(qū)動加熱裝置三維運動的運動平臺，加熱單元受控制板控制；溫控單元固定安裝在工作臺面上；擠出機構(gòu)和工作臺面安裝在工作框架上。本發(fā)明的骨支架制造裝置結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，制造成本低，利用生物墨水的特性，再加上控制板根據(jù)支架尺寸對加熱溫度的精確控制，實現(xiàn)高度方向大尺寸的不同形狀多孔骨支架結(jié)構(gòu)的制造，為大段骨缺損治療提供了有利的材料和技術(shù)支持。

本實用新型涉及試件加速腐蝕的鹽霧試驗裝置，旨在提供一種用于大尺寸試件加速腐蝕的鹽霧試驗裝置。包括鹽霧箱、密封箱和鹽霧管；密封箱是由兩個或兩個以上部件拼接而成的，各部件相對的側(cè)面上蝕刻凹槽，使拼接后的密封箱內(nèi)部呈中空的形狀；該中空的形狀與待測試件或待測試件局部位置的形狀相匹配，當(dāng)密封箱將待測試件或待測試件局部位置包裹起來后仍能保持間隙；密封箱的底部設(shè)有用于插入鹽霧管的開孔，鹽霧管的另一端接至鹽霧箱。本實用新型該不但能對大尺寸、全尺寸結(jié)構(gòu)構(gòu)件進行加速腐蝕試驗，加速腐蝕速率、縮短腐蝕試驗所用時長，還能進行多個平行構(gòu)件的同時腐蝕，提高試驗效率。還可以模擬構(gòu)件在水面上方使用時，下方水汽蒸騰所造成的腐蝕。

本發(fā)明公開了一種大型回轉(zhuǎn)類工件內(nèi)壁尺寸的測量裝置，包括 底座，用于支撐裝置其它部件；安裝架，用于將裝置安裝于待測工件 上；回轉(zhuǎn)機構(gòu)，安裝于底座與安裝架之間，用于帶動激光位移傳感器 在水平面上回轉(zhuǎn)；縱向移動機構(gòu)，用于調(diào)整激光位移傳感器在豎直方 向的位置；橫向移動機構(gòu)，用于在水平方向上調(diào)整激光位移傳感器相 對工件測點的距離；調(diào)平機構(gòu)，用于調(diào)節(jié)激光位移傳感器的姿態(tài)使其 發(fā)出的激光束水平入射工件測點；激光位移傳感器，用于測量工件測點到傳感器的距離。本發(fā)明還提供了基于該測量裝置的測量系統(tǒng)和方 法。本發(fā)明利用激光三角測量原理確定測點的空間坐標(biāo)，測量精度高； 能夠自動調(diào)整測量位置，適用于各種大型回轉(zhuǎn)殼體類零件的現(xiàn)場測量。