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該實驗箱以8051 CPU 1T增強型IAP15W4K58S4芯片為核心，配備豐富的接口和外設(shè)，提供實驗例程。同時也配備了可插拔的EMOD擴展電路板、和一系列EMOD擴展接口模塊，給學(xué)生提供一個無限擴展的平臺。

上海皮賽電子有限公司研發(fā)STC IAP15W 8051 MCU學(xué)習(xí)板。

提出一種漢克爾矩陣掃描的圖像置亂方法，算法實現(xiàn)簡單，置亂度高，通用性強，并且能抵抗一定的攻擊，可以很好的用于信息隱藏的預(yù)處理和圖像加密，而且可以滿足數(shù)字圖像加密和隱藏的魯棒性要求。

煤炭氣化，即在一定溫度、壓力下利用氣化劑與煤炭反應(yīng)生成潔凈合成氣（CO、H2的混合物），是實現(xiàn)煤炭潔凈利用的關(guān)鍵，可為煤基化學(xué)品（合成氨、甲醇、烯烴等）、整體煤氣化聯(lián)合循環(huán)發(fā)電（IGCC）、煤基多聯(lián)產(chǎn)、直接還原煉鐵等系統(tǒng)提供龍頭技術(shù)，為現(xiàn)代能源化工、冶金等行業(yè)的技術(shù)改造和節(jié)能降耗提供技術(shù)支撐。 多噴嘴對置式干煤粉加壓氣化技術(shù)是世界上最先進的氣流床氣化技術(shù)之一。干煤粉經(jīng)四個對置的噴嘴彌散后進入氣化爐（可以是耐火磚為襯里，也可以以水冷壁做襯里）內(nèi)，與氧氣反應(yīng)生成含CO、H2和CO2的合成氣，從氣化爐出來的粗合成氣經(jīng)新型洗滌冷卻室、混合器、旋風(fēng)分離器和水洗塔等設(shè)備的洗滌和冷卻后進入后序工段；氣體洗滌設(shè)備內(nèi)的黑水則經(jīng)高溫?zé)崴M行熱量回收和除渣后成為灰水再返回氣體洗滌設(shè)備內(nèi)，全氣化系統(tǒng)實現(xiàn)零排放。 該技術(shù)煤種適應(yīng)性廣，如果采用水冷壁襯里，則可氣化灰熔點超過1500℃的煤種，具有廣闊的應(yīng)用前景。 該技術(shù)工藝指標(biāo)先進，以耐火磚襯里氣化爐、北宿精煤進料為例，其合成氣中（CO+H2）含量89%～92%，碳轉(zhuǎn)化率>98%，與水煤漿進料相比，比氧耗降低16%～21%、比煤耗2%～4%。該技術(shù)生產(chǎn)強度大，專利實施許可費低。

化學(xué)鍍Ni-P具有優(yōu)良的耐腐蝕性能，在工業(yè)生產(chǎn)中獲得了廣泛應(yīng)用。但是，隨著應(yīng)用的增多也出現(xiàn)了一些問題。由于化學(xué)鍍層是陰極性的，如在施鍍過程中形成針孔、麻點以及使用過程中外力對鍍層的損壞等，往往造成鍍層在腐蝕介質(zhì)中形成電偶腐蝕，使得鍍層不僅對基體起不到保護作用，反而加速了基體的腐蝕。三元合金Ni-W-P鍍層的出現(xiàn)在一定程度上解決了Ni-P鍍層中所存在的問題。W元素的加入可以提高鍍層的致密性，減小了腐蝕介質(zhì)穿透鍍層在鍍層與基體之間形成電偶腐蝕的幾率。此外，W是一種自鈍化元素，在腐蝕介質(zhì)中有利于鍍層表面鈍化膜的形成，提高了鍍層的耐蝕性能，因此，P的含量相近時Ni-W-P鍍層的耐蝕性能優(yōu)于Ni-P鍍層。但是Ni-W-P鍍層與Ni-P鍍層相比在與基體的結(jié)合力上并沒有提高，在后續(xù)加工過程中如受到一定外力作用時，鍍層很容易脫落，這就使得鍍層的應(yīng)用范圍受到了一定的限制。該技術(shù)針對現(xiàn)有化學(xué)鍍層在使用過程中所存在的問題，提出將含有一定量W元素的Ni-W-P鍍層在高溫下進行熱處理，提高鍍層的結(jié)合力和硬度，大幅度提高鍍層的耐蝕耐磨性能，延長鍍層的使用壽命。

化學(xué)鍍Ni-P具有優(yōu)良的耐腐蝕性能，在工業(yè)生產(chǎn)中被廣泛應(yīng)用。但是，隨著應(yīng)用的增多也 出現(xiàn)了一些問題。由于化學(xué)鍍層是陰極性的，如在施鍍過程中形成針孔、麻點以及使用過程中 外力對鍍層的損壞等，往往造成鍍層在腐蝕介質(zhì)中形成電偶腐蝕，使得鍍層不僅對基體起不到 保護作用，反而加速了基體的腐蝕。 三元合金Ni-W-P鍍層的出現(xiàn)在一定程度上解決了Ni-P鍍層中所存在的問題。W元素的加入 可以提高鍍層的致密性，減小了腐蝕介質(zhì)穿透鍍層在鍍層與基體之間形成電偶腐蝕的幾率。此 外，W是一種自鈍化元素，在腐蝕介質(zhì)中有利于鍍層表面鈍化膜的形成，提高了鍍層的耐蝕性 能，因此，P的含量相近時Ni-W-P鍍層的耐蝕性能優(yōu)于Ni-P鍍層。但是Ni-W-P鍍層與Ni-P鍍層 相比在與基體的結(jié)合力上并沒有提高，在后續(xù)加工過程中如受到一定外力作用時，鍍層很容易 脫落，這就使得鍍層的應(yīng)用范圍受到了一定的限制。 該技術(shù)針對現(xiàn)有化學(xué)鍍層在使用過程中所存在的問題，提出將含有一定量W元素的Ni-W-P 鍍層在高溫下進行熱處理，提高鍍層的結(jié)合力和硬度，大幅度提高鍍層的耐蝕耐磨性能，延長 鍍層的使用壽命。 可應(yīng)用于換熱器、泵、軸、空冷等耐蝕或者耐磨的場合

W-氧化物電極材料（通常氧化物種類為ThO2,CeO2及La2O3等，含量為2%重量百分比）廣泛應(yīng)用于惰性氣體保護電弧焊和等離子體焊接、切割、噴涂、熔煉等工業(yè)領(lǐng)域。在使用過程中，電極材料擔(dān)負(fù)發(fā)射電子，維持電弧穩(wěn)定燃燒的作用，同時還承受高能離子轟擊和高燒蝕等惡劣服役條件。正是由于其重要地位，電極材料被譽為電弧等離子體發(fā)生器的"心臟"。采用先進特殊工藝開發(fā)的新

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描述:兩個裝有陰離子樹脂和陽離子樹脂的垂直透明管安裝在背板上。安裝在管道的進口和出口處的多通道管可以改變流速配置來模擬去離子操作的循環(huán)過程。聯(lián)合聯(lián)軸器讓管子從多通道管處移走；也可以進行軟化和去礦化的實驗交換。再生劑和測量液/清洗液存放在獨立的集水槽中，通過一根穿越管進行選擇，然后在泵的作用下通過一個控制閥和流量計被傳送至裝置。流出物進入集水槽，處理過的水收集在瓶子里用于對硬性、導(dǎo)電率或溶解固體物的測試。一個導(dǎo)電率測量儀連接在二次離子交換層的外部，時時顯示去礦化過程。標(biāo)準(zhǔn)的商用陰陽離子樹脂提供給此設(shè)備。可以使用其它材質(zhì)的離子樹脂對它們的性質(zhì)、交換能力等做一個對比測量。 水軟化原理通常用于水軟化的離子交換材料是以磺化苯乙烯為主要成分的樹脂，以鈉的形式供給。它對鈣離子和鎂離子有很強的結(jié)合力，在完全移走鈣鎂離子后，也可以結(jié)合亞鐵離子。通過攪拌水中的樹脂直至平衡或達到可接受的硬度，軟化過程可以是批處理。它也可以方便的地進行連續(xù)水處理，讓水從上至下緩緩地通過裝有樹脂玻璃粉的柱子。在下層進行離子交換之前，交換反應(yīng)在上層迅速發(fā)生達到完成。因此有一個活躍的離子交換區(qū)域在柱內(nèi)向下移動，直到所有層次的樹脂都被消耗完。如圖1所示，活躍區(qū)在中間部分。當(dāng)活躍的離子交換區(qū)到達柱子底部時，形成的水表現(xiàn)出增長的硬度。此是用生理鹽水進行樹脂再生時的突破點。 演示性能：不同材質(zhì)樹脂的交換能力使用陽離子樹脂進行水軟化（圖1）軟化系統(tǒng)的再生效率使用雙層交換的去礦化作用陰陽離子樹脂的再生效率技術(shù)參數(shù)：泵：自吸膜片式流量計范圍：10-80mL/Min集水槽容量：20L陰離子交換樹脂：0.75L陽離子交換樹脂：1L化學(xué)藥品要求：氯化鈉、（不提供）鹽酸、氫氧化鈉 訂購規(guī)格：齊全的設(shè)備可以進行單層水軟化或雙層去礦化。樹脂裝在兩個垂直透明的管子里。在進口和出口處安裝多通道管，可以改變流速配置。設(shè)備包括泵，閥門，導(dǎo)電率測量儀，裝有再生劑和測量液或清洗液的集水槽。提供標(biāo)準(zhǔn)的商用陰陽離子樹脂。 推薦設(shè)備：支架型水去離子器可更換支架    杯形細(xì)胞 服務(wù)要求：電力供應(yīng)：W9-A：220-240V/單相/50HZW9-B ：120V/單相/60HZ水供應(yīng)：最初的盛滿和實驗室排放 尺寸：高：900mm寬：1100mm長：450mm 運輸規(guī)格：體積：  1.1立方米毛重：  120公斤