半導體設備超潔凈流控系統(tǒng)及其受制約流控零部件
浙江大學聚焦超潔凈流控系統(tǒng)基礎(chǔ)研究、技術(shù)攻關(guān)和產(chǎn)品研發(fā),攻克了影響光刻分辨率、良品率與產(chǎn)率的1mk級溫度測控、5ppt級金屬離子測控、20μm級氣泡測控、50nm級殘留液膜測控等關(guān)鍵核心技術(shù)
一、項目分類
關(guān)鍵核心技術(shù)突破
二、技術(shù)分析
如何通過超潔凈流控技術(shù)降低流控污染,減少曝光缺陷,提升曝光良率,是國產(chǎn)高端半導體制造裝備研制面臨的重大挑戰(zhàn),直接關(guān)乎整機產(chǎn)品的產(chǎn)線應用性能與市場競爭力。此外,作為各類半導體制造裝備的共性核心零部件,超潔凈流控部件市場被美國、日本等國壟斷,使我國半導體制造裝備產(chǎn)業(yè)面臨核心零部件“卡脖子”風險。浙江大學流體動力與機電系統(tǒng)國家重點實驗室啟爾團隊所承擔的高端半導體制造裝備核心分系統(tǒng)之一的超潔凈流控系統(tǒng),自2004年以來在國家863計劃和國家02專項支持,聚焦超潔凈流控系統(tǒng)基礎(chǔ)研究、技術(shù)攻關(guān)和產(chǎn)品研發(fā),攻克了影響光刻分辨率、良品率與產(chǎn)率的1mk級溫度測控、5ppt級金屬離子測控、20μm級氣泡測控、50nm級殘留液膜測控等關(guān)鍵核心技術(shù),完成了超潔凈流控系統(tǒng)九大組件的研制和集成測試,為半導體制造設備掃描速度與產(chǎn)能的提高提供基礎(chǔ)理論與方法依據(jù),同時自主研發(fā)的半導體機臺核心超潔凈流控零部件實現(xiàn)了產(chǎn)品化,突破了國外技術(shù)的封鎖,為我國半導體制造的發(fā)展與自主創(chuàng)新提供了基礎(chǔ)支撐。
浙江大學
2022-07-22