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可組裝結構，包括線圈、常開、常閉、公共端連接件、底座等。

本技術基于聲發射原理進行原巖應力測試的一種方法。聲發射發又稱凱塞效應法，是巖石材料的凱塞效應來測量巖體原巖應力的一種方法。材料在受到外載荷作用時，期內部儲存的應變能快速釋放產生彈性波并發生聲響的現象。1950 年，德國學者凱塞發現，受單向拉伸作用的材料在應力未達到材料的最大先期應力時，不會出現明顯的聲發射現象，但應力達到或者超過歷史上所受的最大值之后，聲發射率明顯增加，這種現象稱為凱塞效應。從很少產生聲發射到大量產生聲發射的轉折點就是凱塞效應點，凱塞效應點的應力即為材料在歷史上受到的最大應力。后來，古德曼在 20 世紀 60 年代初通過實驗驗證了材料具有凱塞效應，從而為應用這一技術測定巖石應力奠定了基礎，根據凱塞效應，如果從原巖中取回定向巖芯制成巖石試件，通過對加工好的取自不同方向的巖石試件進行加載聲發射實驗，并測定凱塞效應點，即可找出每個巖石試件先前受到的最大應力值，進而可以求出取樣點的三維應力狀態。目前進行原巖應力的方法主要有直接測量法和間接測量法兩大類，直接測量方法包括扁千斤頂法、水壓致裂法等，間接測量方法主要有應力解除法等，這些方法中一般需要進行大量的鉆孔、裝配測試傳感器和測定等工程工序，工程量大，如果在地下空間進行原巖應力測試，空間相對狹小，施工不方便，也不易實現大規模、大區域內的原巖應力測量。本技術進行原巖應力測量和現在所有方法相比，地下空間進行測量時，只需在測量地點進行一次水平取芯便能完成現場工作，方法簡單，余下少量的測量和計算工作均在實驗室內完成，加快了原巖應力測量的工序進行，減少了在地下空間的工作時間，大大減少了測量費用，特別適合大面積多點區域內的原理應力測量，而且比較其它原巖應力的測量方法，成功率明顯提高，使得測量工作更易控制和操作，因此本技術是原巖應力測量中一種施工方便、工期縮短、成功率高的原巖應力測量方法。

成果描述：本實用新型公開了便攜式電路原理實驗儀,包括實驗儀本體,所述實驗儀本體的下方設有基座,所述基座靠近實驗儀本體的一側設有支柱,所述支柱的兩側對稱開設有卡槽,所述實驗儀本體靠近基座的一側設有固定座,所述固定座靠近基座的一側開設有固定凹槽,且支柱活動設于固定凹槽內,所述固定凹槽的兩側對稱開設有第一槽道,且第一槽道設于固定座上,所述第一槽道內活動設有固定柱,且固定柱延伸至第一槽道外,所述固定柱活動設于卡槽內,所述固定柱的兩側對稱設有活動塊,所述活動塊上設有復位彈簧。本實用新型結構簡單,生產成本低,操作簡單,能夠快速拆卸基座和支柱,便于人們攜帶,滿足人們的使用需求。市場前景分析：本實用新型結構簡單,生產成本低,操作簡單,能夠快速拆卸基座和支柱,便于人們攜帶,滿足人們的使用需求。與同類成果相比的優勢分析：國內領先

提出了系統熱集成的結構性能連續性原理，并成功應用于以船用鍋爐控制柜為代表的分布參數系統和以換熱網絡為代表的集總參數系統，提高工業過程 系統能量利用效率。

DR、CT、MRI 和 MRS 系列仿真實驗儀軟件可用于低成本批量化規范化仿真實驗教學，同時還可以在模型設計，系統問題（偽影）分析和解決，放療模擬定位，提高磁共振掃描效率，人工智能影像診斷領域樣本增廣方面有應用。

采用Intel i386EX單板微機作為系統核心，具有Windows環境的匯編語言和C語言源程序調試環境，具有單步、跳過、斷點、連續、變量跟蹤等調試手段，全面支持80x86實模式和保護模式的教學實驗，支持課程設計和電子競賽。

相關成果已獲授權發明專利4項（其中國際發明專利1項）、實用新型專利兩項，已申請發明專利8項。獲中國僑界貢獻獎（創新成果）、江蘇僑界貢獻獎（創新成果）、第十三屆“挑戰杯”全國大學生課外學術科技作品競賽團體二等獎、第八屆全國研究生電子設計大賽全國總決賽“團體特等獎”、第十四屆中國國際工業博覽會高校展區優秀展品二等獎等多個獎項。2015年4月榮獲第43屆日內瓦國際發明展特別金獎。

隨著納米技術的發展，光學腔的尺寸越來越小，甚至可以達到亞波長尺度或者納米尺度，同時伴隨著非常局域的電場。由于金屬的損耗以及低的收集效率，單個表面等離激元納腔和單個量子發射體的強耦合很少被報道。論文通過精心設計光學模式，將金屬納腔置于金屬或者介質納米線提供的一維的電磁真空背景中，通過一維電磁背景強局域效應，可極大地增強單個量子發射體和金屬納腔的相互作用。理論指出在疏逝的電磁背景下，納米間隙中的耦合系數可以達到真空中的4.2倍，同時熒光收集效率可提高到47%。此外，這個體系輻射出的光子，還可以通過納米線的一維倏逝波導入到集成芯片上。

本發明公開了一種基于投影莫爾原理的共面度測量系統，包括冷光源(1)，準直透鏡(2)，CCD 攝像機(3)，LCD 面板(4)，投影透鏡(5)，光學平臺(6)，高精度移動臺(7)和計算機(8)。所述 LCD 面板(4)上顯示通過所述計算機(8)產生的條紋圖案，所述冷光源(1)發出的光經所述準直透鏡(2)后照射到所述 LCD 面板(4)上，將顯示在所述 LCD 面板(4)上的條紋圖案投影到被裝載在高精度移動臺(7)上的參考平面或者待測物表面上，所述 CCD 攝像機(3)設置在 LCD 面板(4)側面。本

概述： FCP磁場控制平臺是根據磁控原理設計的理想磁測量系統，磁場范圍超過3T，利用TESTIK475高斯計穩定磁場控制，適合各系列電磁鐵配置，連續可變的電磁氣隙，實心的和光學入口極帽，線型雙極，真實四象限電磁鐵電源。 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 錦正茂磁場控制平臺磁控原理磁測量系統 FCP磁場控制平臺控制特征： TESTIK475型高斯計努力保持確切的磁場密度，用戶輸入的控制設定點，用G、T、Oe、A/m來表示。北京錦正茂的電磁鐵磁場控制平臺集成了硬件和控制部件來形成一個變化的磁場平臺，可以被獨立的被利用或做為用戶設計的測量系統的一個基礎。 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 錦正茂磁場控制平臺磁控原理磁測量系統 ※ 磁場控制平臺包括錦正茂公司的電磁鐵、雙極電源、具有控制能力的DSP技術的高斯計、霍爾探頭及支架等。 錦正茂提供的磁場控制平臺具有不同的配制用來滿足在磁場強度、磁場均勻性、樣品尺寸、自定義測量要求等基礎之上的用戶要求。可以獨立的形成用戶所需要的不同磁場強度的可變磁場。廣泛用于磁光測量系統、VSM測量系統、在線退火、霍爾效應、磁化率測量、自旋磁共振、B-H曲線測量和精準的傳感器校準等領域。 475高斯計從高斯計霍爾探頭得到反饋來計算并調整控制（模擬）輸出。為了更大程度實現控制的穩定性，475型高斯計每33毫秒更新模擬輸出。結果是一個內置的PI 控制器提供了峰值-到-峰值的0.5 G*的磁場穩定性。 ※ 當設定點速率激活的時候，儀器會開始從當前磁場讀數加速而不是當前設定點，基于對P和I的設定。另外，475高斯計能設定速率來控制設定點，從當前磁場讀數到一個新的值，使用一個磁場中平滑線性變換而不是瞬態特性的PI控制。 ※ 開環磁場控制也可能用手動輸出來使用475模擬輸出，這意味著忽視了反饋并且模擬輸出停留在手動用戶調整。這個方法使磁體電源操作處于恒定電流模式。 ※ 475也包含了用戶可設定的控制斜率限制和模擬輸出電壓限制。這些軟件限制保證了磁體電源如果磁場控制系統遭到不合適的調整或開始擺動而不會損壞。 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ FCP磁場控制平臺標準配置： TESTIK475有1個計算機接口：RS-232串口:。這個接口可以設置所有儀器參數和測量值得讀回。在磁場控制期間，接口的讀數率是額定每秒30個讀數。475的LabVIEW驅動是提供的（選配）。磁場控制平臺不含應用軟件。