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本發(fā)明公開了一種面向微博實(shí)時(shí)搜索的自適應(yīng)索引方法，該方 法包括：新建大小為π0 的第 0 層倒排索引 i0；將新的微博索引到第 0 層倒排索引 i0；當(dāng)?shù)?0 層倒排索引 i0 空間不夠時(shí)，生成第 0 層倒排索 引 i0 的副本第 0 層副本 i0`，將微博插入到清空后的第 0 層倒排索引 i0； 判斷當(dāng)前存在索引包的數(shù)量 k<、＝p 是否成立，若是，則創(chuàng)建大小 為 r^k×π0

本發(fā)明公開了一種基于電控液晶平面微透鏡的波前控制芯片。芯片包括面陣電控液晶平面微透鏡，其包括液晶材料層，依次設(shè)置在液晶材料層上表面的第一液晶初始取向?qū)印D形化電極層、第一基片和第一增透膜，以及依次設(shè)置在液晶材料層下表面的第二液晶初始取向?qū)印⒐搽姌O層、第二基片和第二增透膜；公共電極層由一層勻質(zhì)導(dǎo)電膜構(gòu)成；圖形化電極層由 m×n 元陣列分布的子電極構(gòu)成，每個(gè)子電極均由繞圓周呈十字叉型均勻分布的四個(gè)條狀導(dǎo)電膜構(gòu)成，單個(gè)

本發(fā)明公開了一種基于微位移測(cè)量的電流傳感器及其制作方法， 包括磁致伸縮反射面和光纖。其中制作方法包括以下步驟：選取長(zhǎng)方 形的金屬玻璃(metglass)并進(jìn)行清洗；在 metglass 上、下表面各濺射一 層一定厚度的磁致伸縮薄膜；在 metglass 下表面濺射一層一定厚度的 高反膜；在 metglass 下表面兩端用環(huán)氧樹脂各粘貼一個(gè)非磁性金屬塊； 在兩個(gè)非磁性金屬塊的另一端用環(huán)氧樹脂粘貼一塊正中帶有通孔的非 磁

本發(fā)明公開了一種基于電控液晶匯聚微透鏡的波前測(cè)量芯片。包括面陣電控液晶匯聚微透鏡和面陣可見(jiàn)光探測(cè)器；面陣電控液晶匯·743·聚微透鏡包括液晶材料層，依次設(shè)置在液晶材料層上表面的第一液晶初始取向?qū)印D形化電極層、第一基片和第一增透膜，以及依次設(shè)置在液晶材料層下表面的第二液晶初始取向?qū)印⒐搽姌O層、第二基片和第二增透膜；公共電極層由一層勻質(zhì)導(dǎo)電膜構(gòu)成，圖形化電極層由其上布有 m×n 元陣列分布的方孔或圓孔的

本發(fā)明公開了一種基于電控液晶紅外發(fā)散平面微透鏡的紅外波束控制芯片。其包括電控液晶紅外發(fā)散平面微透鏡陣列；電控液晶紅外發(fā)散平面微透鏡陣列包括液晶材料層，依次設(shè)置在液晶材料層上表面的第一液晶初始取向?qū)印⒌谝浑姼綦x層、圖形化電極層、第一基片和第一紅外增透膜，以及依次設(shè)置在液晶材料層下表面的第二液晶初·750·始取向?qū)印⒌诙姼綦x層、公共電極層、第二基片和第二紅外增透膜；公共電極層由一層勻質(zhì)導(dǎo)電膜構(gòu)成；圖形化電

本發(fā)明公開了一種微徑絲或管的制備裝置，包括：溶液容器，用于提供制備微徑絲或管的材料溶液；流量分配器，其上設(shè)置有陣列布置的多個(gè)噴嘴，溶液通過(guò)噴嘴噴出；固化裝置，其通過(guò)底板固定在噴嘴下方，用于固化形成的絲或管；底板與噴嘴通過(guò)高壓發(fā)生器相連，兩者之間形成高壓電場(chǎng)；該裝置中還包括管芯模，其具有呈陣列布置的多個(gè)管芯，各管芯一一對(duì)應(yīng)分別配合套裝在噴嘴中，從而在各噴嘴和管芯之間的形成容納材料溶液的空間，在電場(chǎng)的作用下，溶液通過(guò)該噴嘴中的該空間進(jìn)行流量分配后噴出形成射流，通過(guò)固化裝置固化后即可形成微徑絲或管。通過(guò)本

本發(fā)明公開了一種用于微納米顆粒表面修飾的裝置，包括：反應(yīng)腔，其內(nèi)部形成的空腔用于作為前驅(qū)體與微納米顆粒的反應(yīng)空間；多個(gè)前驅(qū)體供應(yīng)裝置，其分別通過(guò)管道與所述反應(yīng)腔相通以提供不同的前驅(qū)體；載氣輸送系統(tǒng)，前驅(qū)體通過(guò)該載氣輸送系統(tǒng)輸出的載氣輸送到反應(yīng)腔中；以及粉體顆粒裝載裝置，用于承載待修飾的微納米顆粒；通過(guò)多個(gè)前驅(qū)體供應(yīng)裝置分別向反應(yīng)腔交替地輸送前驅(qū)體，并進(jìn)入旋轉(zhuǎn)的粉體顆粒裝載裝置中以與微納米顆粒表面接觸進(jìn)行原子層沉積反應(yīng)，從而在微納米顆粒的表面形成包覆薄膜，實(shí)現(xiàn)表面修飾。本發(fā)明還公開了利用上述裝置進(jìn)行微

本發(fā)明公開了一種用于仿壁虎腳微納分級(jí)結(jié)構(gòu)的制造工藝，包括：S1、使用LPCVD設(shè)備在潔凈的硅片上熱生長(zhǎng)一層SiO₂薄膜；S2、在有 SiO₂層的硅片表面旋涂光刻膠并進(jìn)行光刻，制備出圓孔陣列圖形；S3、使用緩沖氫氟酸溶液對(duì)暴露出的SiO₂ 進(jìn) 行 刻 蝕 ， 將 光 刻 膠 上 的 圖 形 轉(zhuǎn) 移 到SiO₂層；S4、在

本成果以飛秒激光作為加工光源，研究飛秒激光束流作用下材料表面微結(jié)構(gòu)及彩色視覺(jué)效果形成機(jī)制，建立飛秒激光彩色微條紋制備理論模型；協(xié)同攻克高精度光機(jī)電多軸協(xié)調(diào)控制技術(shù)、三維動(dòng)態(tài)掃描振鏡及控制技術(shù)、激光參量監(jiān)測(cè)及穩(wěn)定性控制等關(guān)鍵技術(shù)，形成超快飛秒激光彩色微條紋制備工藝數(shù)據(jù)庫(kù)，集成開發(fā)精密制造裝備。 一、項(xiàng)目分類 關(guān)鍵核心技術(shù)突破 二、成果簡(jiǎn)介 飛秒激光金屬表面彩色微條紋全息精密制造裝備開發(fā)，突破金屬表面各類微條紋結(jié)構(gòu)精密加工需求，實(shí)現(xiàn)視覺(jué)上多層次、多區(qū)域幻彩效果顯示；相較于傳統(tǒng)顏料制備彩色條紋，采用激光制備技術(shù)的金屬表面彩色視覺(jué)效果依賴于表面微納米結(jié)構(gòu)，不會(huì)因金屬表面氧化改變顯示效果，也不存在掉色等現(xiàn)象，更具有使用價(jià)值，非常適用于3C、金屬模具加工、紀(jì)念幣、珠寶制造以及特殊信息存儲(chǔ)和防偽等領(lǐng)域。 本成果以飛秒激光作為加工光源，研究飛秒激光束流作用下材料表面微結(jié)構(gòu)及彩色視覺(jué)效果形成機(jī)制，建立飛秒激光彩色微條紋制備理論模型；協(xié)同攻克高精度光機(jī)電多軸協(xié)調(diào)控制技術(shù)、三維動(dòng)態(tài)掃描振鏡及控制技術(shù)、激光參量監(jiān)測(cè)及穩(wěn)定性控制等關(guān)鍵技術(shù)，形成超快飛秒激光彩色微條紋制備工藝數(shù)據(jù)庫(kù)，集成開發(fā)精密制造裝備。技術(shù)優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在： （1）采用高精密電機(jī)控制偏振態(tài)鏡片旋轉(zhuǎn)掃描裝置，同步實(shí)現(xiàn)激光加工參數(shù)、光束角度線偏振與圓偏振鏡片精密偏擺控制，突破光束偏振態(tài)多維調(diào)控，形成精密激光加工工藝數(shù)據(jù)庫(kù)； （2）配套國(guó)產(chǎn)飛秒激光器，由激光器性能優(yōu)化角度改善激光加工效果，于激光器內(nèi)部實(shí)現(xiàn)脈沖調(diào)制，減少外部控制環(huán)節(jié)； （3）基于自主開發(fā)的控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)工藝參數(shù)到控制系統(tǒng)集成，簡(jiǎn)化操作以提高加工效率；滿足根據(jù)實(shí)際應(yīng)用需求實(shí)現(xiàn)特定功能開發(fā)。

本發(fā)明公開了一種雙模復(fù)合紅外電控液晶微透鏡陣列芯片，包括：芯片殼體、電控散光液晶微透鏡陣列、以及電控聚光液晶微透鏡陣列，電控散光液晶微透鏡陣列與電控聚光液晶微透鏡陣列級(jí)聯(lián)耦合構(gòu)成雙模復(fù)合電調(diào)架構(gòu)，電控散光液晶微透鏡陣列與電控聚光液晶微透鏡陣列均設(shè)置在芯片殼體內(nèi)部，二者彼此緊密貼合并與芯片殼體連接，且二者的光軸重合，電控散光液晶微透鏡陣列的光入射面和電控聚光液晶微透鏡陣列的光出射面分別通過(guò)芯片殼體頂面和底面的開口