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光掩膜版(又稱光罩，掩膜版，英文 Photo-mask )是芯片制作中實現(xiàn)設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移的載體，是決定其微細(xì)結(jié)構(gòu)和線寬精度的核心材料和工具。 目前中國半導(dǎo)體掩膜版的國產(chǎn)化率10%左右，90%需要進(jìn)口，高端掩膜版國產(chǎn)化率3%，miniLED和microLED產(chǎn)業(yè)升級也需要更多高端掩膜版。隨著中國市場需求的持續(xù)提升，掩膜版產(chǎn)能嚴(yán)重不足。并且中國半導(dǎo)體掩膜版的產(chǎn)業(yè)起步較晚，技術(shù)滯后，核心技術(shù)和裝備基本讓國外公司壟斷，特別是在設(shè)備、材料領(lǐng)域眾多技術(shù)處于“卡脖子”狀態(tài)，例如掩膜版制造的核心裝備光刻機、檢測機、測量機、修復(fù)機和貼膜機等都依賴進(jìn)口，嚴(yán)重制約中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。華中科技大學(xué)徐智謀教授團(tuán)隊致力于全套高端半導(dǎo)體光掩膜版的關(guān)鍵核心技術(shù)研發(fā)與量產(chǎn)，為“卡脖子”技術(shù)研究而努力。 具有建立180 nm技術(shù)節(jié)點半導(dǎo)體掩膜版量產(chǎn)線相關(guān)核心技術(shù)；具備130 nm至28 nm半導(dǎo)體掩膜版研發(fā)、設(shè)計及驗證能力。主要研究成果如下： 1） 工藝突破 團(tuán)隊掌握了掩膜版MEMS微納加工量產(chǎn)核心技術(shù)，如電子束光刻、激光光刻和納米壓印光刻等MEMS微納加工工藝的各類技術(shù)參數(shù)的搭配和優(yōu)化，以及大數(shù)據(jù)量軟件快速處理、補償?shù)取? 2） 裝備國產(chǎn)化 A. 超高精度二維測量裝備 尺寸測量是驗證掩膜版技術(shù)指標(biāo)的核心，主要包括關(guān)鍵尺寸測量(CD)和長尺寸測量(TP)。團(tuán)隊已掌握掩膜版的關(guān)鍵測量技術(shù)，達(dá)到國內(nèi)先進(jìn)水平，具有整套設(shè)備的整機制造能力。 TP測量是掩膜版制作的核心指標(biāo)，直接影響到客戶的套合精度，該測量設(shè)備一直由國外極少數(shù)廠商壟斷，且價格昂貴，一般在1000萬美元以上，高端限制對中國出口。團(tuán)隊目前正在攻克該項技術(shù)，已取得階段性成果。 B. 缺陷修復(fù)裝備 掩膜版修補技術(shù)是提升良品率的關(guān)鍵手段，該技術(shù)一直為國外壟斷。團(tuán)隊已熟練掌握UV、DUV激光化學(xué)沉積技術(shù)及皮秒飛秒激光金屬處理技術(shù)，具備整機制造能力，可降低設(shè)備采購成本70%以上。 C. Pellicle自動貼膜裝備 隨著產(chǎn)品精度的提升和應(yīng)用領(lǐng)域的高端化，掩膜版貼膜是個不可缺少的重要環(huán)節(jié)。在IC制造領(lǐng)域100%掩膜版需貼Pellicle，在IC封裝領(lǐng)域90%以上需貼膜，在LED領(lǐng)域80%以上需貼膜。該貼膜設(shè)備一直國外公司壟斷，國內(nèi)廠家沒有提供，國外采購全自動貼膜設(shè)備需100萬美元左右。團(tuán)隊具備研發(fā)制造該設(shè)備的能力，貼膜精度±0.1mm,且有設(shè)備正式在產(chǎn)線運營，制造成本可節(jié)約90%以上。 3） 廠房建設(shè)關(guān)鍵技術(shù) 團(tuán)隊對MEMS及其掩膜工廠工藝設(shè)備廠務(wù)設(shè)計有豐富經(jīng)驗，掌握高等級防微震廠房結(jié)構(gòu)和設(shè)備平臺的設(shè)計施工，可達(dá)到VC-D級技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，滿足納米級生產(chǎn)技術(shù)要求。 【技術(shù)優(yōu)勢】 （1）掌握了高性價比掩膜版量產(chǎn)的關(guān)鍵核心技術(shù)，包括部分裝備的國產(chǎn)化，解決“卡脖子”技術(shù)難題，量產(chǎn)線建設(shè)成本節(jié)約30%以上； （2）具備28 nm及以下技術(shù)節(jié)點掩膜版設(shè)計開發(fā)能力和驗證平臺，驗證周期可縮短3倍； （3）擁有一支20多年以上掩膜版量產(chǎn)、研發(fā)和銷售經(jīng)驗的隊伍，成熟的企業(yè)管理經(jīng)驗，保證企業(yè)穩(wěn)步成長，確保投資風(fēng)險可控。 【合作方式】 股權(quán)投資合作共建或政府孵化+中試線。

北京耐爾得研發(fā)的NELD-CMC801型水泥膠砂試件恒溫養(yǎng)護(hù)水槽是根據(jù)國標(biāo)GB/T17671-1999，ISO679-1999的要求對水泥砂漿試體進(jìn)行水養(yǎng)護(hù)，保證試件在20℃±1℃的溫度范圍內(nèi)養(yǎng)護(hù)。本品采用304不銹鋼材質(zhì)，箱體安裝保溫材料，智能微處理儀表，溫度測量精確，控時準(zhǔn)確，用戶可以自由設(shè)置養(yǎng)護(hù)用水的循環(huán)時間，養(yǎng)護(hù)溫度等。箱內(nèi)溫度恒定速度快，養(yǎng)護(hù)水循環(huán)穩(wěn)定，雙過濾系統(tǒng)，可以用于水泥、膠砂、混凝土水養(yǎng)護(hù)。

光伏組件生產(chǎn)仿真實訓(xùn)讓學(xué)員以車間技術(shù)人員的身份參與晶硅光伏組件的生產(chǎn)工作。學(xué)員按標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)流程操作車間生產(chǎn)設(shè)備、檢測生產(chǎn)樣品以及了解生產(chǎn)車間的運作與問題返工流程。 一.1.1. 場景設(shè)計 場景由組件生產(chǎn)車間、材料準(zhǔn)備區(qū)、固化房、分選檢測區(qū)組成。場景素材從多個真實工廠采集而來，高保真還原車間設(shè)備與生產(chǎn)流程 場景模型主要包括：流水線傳送帶、全自動玻璃吸附機、EVA自動鋪設(shè)機、串焊機、排列機、自動緩存機、EVA/TPT裁剪鋪設(shè)機、EL檢測儀、層壓機、全自動修邊機、翻轉(zhuǎn)檢查機、全自動裝框機、灌膠機、全自動固化房、絕緣檢測儀、組件IV分選檢測儀、電烙鐵。材料模型包括：鋼化玻璃、EVA、TPT、焊帶、156多晶太陽電池片、鋁合金邊框、玻璃膠、接線盒、助焊劑、MC4接頭等... 一.1.2. 互動設(shè)計 第一人稱視角控制主角場景漫游，學(xué)員可以在三維空間中自由活動和觀察場景中的物體。 主角走到生產(chǎn)線相關(guān)崗位內(nèi)，出現(xiàn)信息提示，點擊彈出全息UI，動態(tài)圖文與人工智能語音相結(jié)合提示關(guān)鍵知識點 與車間工程師對話了解生產(chǎn)相關(guān)知識 學(xué)員可操作車間里的檢測設(shè)備，發(fā)現(xiàn)問題并進(jìn)行問題組件返工。

光伏組件質(zhì)量檢測仿真實訓(xùn)讓學(xué)員在虛擬場景中學(xué)習(xí)根據(jù)IEC61215標(biāo)準(zhǔn)使用各種檢測設(shè)備對組件進(jìn)行質(zhì)量檢測，從而了解組件的關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)以及發(fā)現(xiàn)組件典型缺陷。 一.1.1. 場景設(shè)計 根據(jù)IEC61215檢測標(biāo)準(zhǔn)要求設(shè)計18個檢測場景，包括： 1 組件外觀檢測實驗室 2 最大功率檢測實驗室 3 絕緣檢測實驗室 4 溫度系統(tǒng)檢測實驗室 5 標(biāo)稱工作溫度檢測實驗室 6 STC和NOCT下的性能檢測實驗室 7 低輻照度下的性能檢測實驗室 8 室外曝曬試驗場 9 熱斑耐久試驗室 10 紫外線試驗室 11 熱循環(huán)實驗室 12 濕凍試驗室 13 濕熱試驗室 14 牽引力實驗室 15 濕漏電實驗室 16 機械載荷實驗室 17 冰雹撞擊實驗室 18 旁路二級管試驗室 場景模型主要包括：實驗室建筑場景、外觀檢測臺、156多晶光伏組件、組件箱、工作臺、電腦、組件支架、IV檢測儀、EL檢測儀、高低溫濕熱交變試驗箱、濕漏電流測試儀及噴淋試驗箱、鹽霧腐蝕儀、紫外老化試驗箱、機械載荷試驗機、旁路二極管熱性能試驗儀、落球沖擊測試裝置、環(huán)境檢測儀、室外環(huán)境監(jiān)測儀、直流電源、萬用表、光度計、數(shù)碼相機等...

本發(fā)明屬于煤泥水處理領(lǐng)域，具體涉及一種多功能煤泥水處理池。本發(fā)明包括圓環(huán)狀的池體，還包括呈圓環(huán)狀設(shè)置在池體的內(nèi)部的導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板和池體之間設(shè)有將所述環(huán)槽分隔為上部為配水區(qū)域、下部為導(dǎo)流區(qū)域的環(huán)狀隔板，導(dǎo)流板的內(nèi)壁圍成處理區(qū)域；所述隔板上設(shè)有貫穿隔板板體的過水孔，本發(fā)明中還設(shè)置有使過水孔在貫通和封閉兩種狀態(tài)下切換的擋孔板；本發(fā)明還包括與所述配水區(qū)域相連的脫泥入料單元、與所述處理區(qū)域相連的濃縮入料單元以及分別與所述配水區(qū)域和處理區(qū)域相連的溢流出料單元。本發(fā)明不但能夠?qū)γ耗嗨M(jìn)行脫泥處理，還能夠?qū)γ耗嗨M(jìn)行濃縮處理，同時本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單且運行穩(wěn)定可靠。

本實用新型屬于水產(chǎn)品養(yǎng)殖器具技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種水產(chǎn)養(yǎng)殖池。養(yǎng)殖池的側(cè)壁設(shè)有若干氧氣頭；養(yǎng)殖池的底壁設(shè)有刮槽，刮槽的一端設(shè)有刮板；刮槽的另一端為集污口，集污口與養(yǎng)殖池外的集污槽相通，集污口處設(shè)有上下推拉的門，門與養(yǎng)殖池的連接處設(shè)有密封條；養(yǎng)殖池的上方設(shè)有進(jìn)水口，下方設(shè)有出水口，進(jìn)水口通過管道和水泵與凈水池下方的出水孔相連，出水口通過管道與凈水池上方的進(jìn)水孔相連；凈水池上方設(shè)有弧形篩，進(jìn)水孔設(shè)有弧形篩上方；凈水池內(nèi)部設(shè)有紫外燈。本實用新型通過設(shè)置循環(huán)水路，實現(xiàn)各養(yǎng)殖池之前的養(yǎng)殖用水循環(huán)使用，對循環(huán)水進(jìn)行殺菌和過濾處理，避免水質(zhì)惡化，延長養(yǎng)殖用水的使用周期，在增產(chǎn)的同時節(jié)省用水量。

托布帶：克重4600g/㎡，厚度10mm 吸油氈：厚度10~20mm 適用于：人造毛皮行業(yè)，毛紡行業(yè)，燙光機、燙剪機以及各類進(jìn)口、國產(chǎn)機械以上產(chǎn)品規(guī)格根據(jù)客戶需求均可定制。

        技術(shù)成熟度：技術(shù)突破         目前的潮流能發(fā)電機組以直驅(qū)液壓變槳及帶變速箱的液壓變槳為主，其發(fā)電機和變速箱均采取機械動密封方式進(jìn)行密封防水處理，海洋環(huán)境下，機械動密封的可靠性和運行效率往往沖突，密封層級多運行阻力大，效率低，密封層級少，密封可靠性差，機組的運行可靠性大大降低。光伏、波浪、海流一體化集成發(fā)電，波浪能與海流能水輪機對轉(zhuǎn)并通過磁力耦合驅(qū)動發(fā)電機增速，具有多能互補、高效獲能、轉(zhuǎn)換效率高、結(jié)構(gòu)簡單、運行可靠等特點，為規(guī)模化海洋能開發(fā)提供創(chuàng)新型設(shè)計。         意向開展成果轉(zhuǎn)化的前提條件：中試放大及產(chǎn)業(yè)化工藝開發(fā)資金支持

本仿真實訓(xùn)要求學(xué)員根據(jù)常見60KW以下小型分布式光伏電站項目需求書要求，到現(xiàn)場進(jìn)行測量、采集項目所需數(shù)據(jù)，然后回到辦公室使用設(shè)計軟件進(jìn)行項目設(shè)計，并且做出系統(tǒng)分析結(jié)果、施工圖以及施工材料清單。 1.1. 場景設(shè)計 虛擬場景包括辦公設(shè)計場景，樓頂建筑場景； 場景模型主要包括：辦公室建筑模型、辦公家具、辦公設(shè)備、長度測量工具、方向測量工具、樓頂建筑模型等 設(shè)計軟件模擬包括：陰影陣列分析軟件、CAD制圖軟件、傾角分析軟件、系統(tǒng)分析模擬軟件 1.2. 互動設(shè)計 在辦公室里使用電腦了解項目需求書，根據(jù)提供的信息收集項目所在位置的地理與環(huán)境信息 到現(xiàn)場使用長度與方向測量工具測量設(shè)計所需數(shù)據(jù) 回辦公室使用各種專業(yè)設(shè)計軟件對該項目進(jìn)行系統(tǒng)設(shè)計。

分布式小型光伏電站系統(tǒng)施工建設(shè)仿真實訓(xùn)讓學(xué)員以現(xiàn)場施工工程師的身份根據(jù)提供的項目說明書、施工圖紙和材料到現(xiàn)場進(jìn)行小型電站的模擬施工，提高學(xué)員的實踐能力和動手能力。 1.1. 場景設(shè)計 虛擬場景主要由廠戶樓頂施工場景組成； 場景模型主要包括：廠戶建筑模型、支架基礎(chǔ)樁、支架前后立柱、橫梁、側(cè)梁、接地扁鋼、晶硅光伏組件、邊壓塊、中間壓塊、接線盒、連接線、直流匯流箱、進(jìn)線、出線、熔斷器盒、斷路器、避雷器、逆變器、PVC保護(hù)線管、五金螺絲螺母、安全帽、施工工具等 1.2. 互動設(shè)計 在施工場景看懂圖紙，檢查施工物料 根據(jù)提示到指定位置使用工具把支架、光伏組件、匯流箱、逆變器一一安裝起來 進(jìn)行組件陣列間串聯(lián)和并聯(lián)接線 進(jìn)行防雷焊接 施工完成后進(jìn)行投切并網(wǎng)操作 場景植入VR太陽模塊，精準(zhǔn)計算該項目所在位置的太陽位置，太陽高度角和方位角，在虛擬場景中全時仿真太陽產(chǎn)生的陰影。