太陽能薄膜電池一種關鍵技術:磁控濺射制備微晶硅薄膜
目前在工業(yè)上廣泛采用的CVD技術制備硅膜,工藝和設備復雜,成本高,且在安全和環(huán)保環(huán)節(jié)上投入巨大。我們在國內首創(chuàng)出了微晶硅薄膜的PVD法沉積工藝,在溫度低于300度的條件下,在單晶硅片和普通玻璃片上制備出不同結晶度的微晶硅薄膜和納米結構硅薄膜,可以得到具有高度<111>方向取向生長的微晶硅薄膜,并實現了控制工藝的穩(wěn)定性和可重復性。利用磁控濺射技術成功實現微晶硅薄膜的制備是一項重大突破,從根本上克服了現有技術的缺點,具有綠色、高效、簡單等優(yōu)點。目前需要合作伙伴,把該實驗室技術放大到工業(yè)規(guī)模。
大連理工大學
2021-04-14