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目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問題是光產(chǎn)酸在后烘階段會發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。  利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：  在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經(jīng)過多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場的70%以上，而我國在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競爭的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項(xiàng)開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專利及文章： 1.國家重大科技專項(xiàng)（02專項(xiàng)）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國發(fā)明專利，專利號：9。

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問題是光產(chǎn)酸在后烘階段會發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。   利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：   在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經(jīng)過多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場的70%以上，而我國在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競爭的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項(xiàng)開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專利及文章： 1.國家重大科技專項(xiàng)（02專項(xiàng)）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國發(fā)明專利，專利號：9。

本發(fā)明公開了一種用于浸沒式光刻的浸液溫控系統(tǒng)，通過其獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，以用于浸沒式光刻工藝中，其特征在于，該溫控系統(tǒng)包括：用于浸液流動的浸液管路，待溫控的浸液通過管路進(jìn)口進(jìn)入該浸液管路，溫控后的浸液通過該浸液管路出口輸出；用于對所述浸液進(jìn)行冷卻的工藝?yán)鋮s液回路，工藝?yán)鋮s液在該回路中循環(huán)流動；以及熱交換器（6），所述浸液管路和工藝?yán)鋮s液回路同時(shí)流經(jīng)該熱交換（6），利用該熱交換器（6）完成工藝?yán)鋮s液和浸液的熱交換，獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，實(shí)現(xiàn)對浸液的溫度控制。本發(fā)明的裝置采用內(nèi)部回流結(jié)構(gòu)與熱交換器

本發(fā)明公開了一種光刻機(jī)自動調(diào)焦方法及裝置，其方法是將平行光束經(jīng)第一狹縫投射至硅片表面，再經(jīng)振動反射鏡掃描后通過第二狹縫，由光電探測器接收光強(qiáng)信號，然后通過提取光強(qiáng)信號中二倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的粗調(diào)量，通過提取光強(qiáng)信號中一倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的精調(diào)量，最后由驅(qū)動裝置調(diào)整硅片至焦點(diǎn)位置。調(diào)焦裝置主要由兩個狹縫、一個振動反射鏡、光電傳感器、驅(qū)動臺和若干光學(xué)鏡片組成，信號處理過程由計(jì)算機(jī)編程完成。該方法與裝置相較于以往對比光斑強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)焦的方式，具有結(jié)構(gòu)簡單、響應(yīng)迅速、精度高(優(yōu)于 0.

本發(fā)明公開了一種用于投影式光刻機(jī)成像系統(tǒng)的波像差檢測方法，包括光刻機(jī)成像系統(tǒng)的快速正向模型建立，澤尼克系數(shù)靈敏度矩陣的解析求解，檢測用掩模圖形優(yōu)化求解，基于單次光強(qiáng)測量的波像差求解。本發(fā)明方法通過解析求解無像差時(shí)的空間像光強(qiáng)值和澤尼克系數(shù)靈敏度矩陣，實(shí)現(xiàn)了基于單次離焦空間像光強(qiáng)測量的波像差檢測。

本發(fā)明公開了一種精確控制浸沒式光刻機(jī)浸液溫度的裝置，包括增壓泵；初級熱交換器，其浸液入口與增壓泵出口連通，浸液在其中進(jìn)行熱交換，實(shí)現(xiàn)浸液溫度的初級調(diào)控；次級熱交換器，其浸液入口與初級熱交換器浸液出口連通，浸液在其中進(jìn)行再次熱交換，實(shí)現(xiàn)浸液溫度的次級調(diào)控；流量伺服閥，其入口與初級熱交換器浸液出口連通，與次級熱交換器形成并聯(lián)，用于調(diào)節(jié)進(jìn)入次級熱交換器的浸液流量。通過協(xié)調(diào)控制進(jìn)入初級熱交換器和次級熱交換器的冷媒流量，并結(jié)合流量伺服閥對進(jìn)入次級熱交換器的浸液流量的調(diào)節(jié)，可實(shí)現(xiàn)對浸液溫度的兩級調(diào)控，從而獲得溫

高分辨率電子電路光刻膠是制造高密度、高精度電子電路的核心材料之一， 該類光刻膠在達(dá)到分辨率要求的同時(shí)，還需具備高感度、高硬度、優(yōu)異的耐焊性 和耐酸堿性等物理化學(xué)性能，以滿足電子電路復(fù)雜的制造工藝要求。長期以來， 由于我國高性能基礎(chǔ)光固化材料開發(fā)的滯后，導(dǎo)致國產(chǎn)電子電路光刻膠技術(shù)水平低下，相關(guān)產(chǎn)品占國內(nèi)市場份額不足 30%，其中高分辨率電子電路光刻膠更是被國際公司所壟斷。針對上述現(xiàn)狀，團(tuán)隊(duì)通過高性能光固化材料的開發(fā)突破了高分辨率電子電路光刻膠制備關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)品創(chuàng)新技術(shù)，并制備了以高分辨率阻焊油墨和光致抗蝕劑為主的一系列具備優(yōu)異物理化學(xué)性能的高分辨率電子電路光刻膠產(chǎn)品。

成果介紹一種高性能石墨烯柔性電子皮膚，該電子皮膚結(jié)合了一種具備脫水性的商業(yè)化妝品膠體以及可編程的激光刻寫石墨烯，在無毒、環(huán)保、可大量印刷的制備加工工藝下，具有輕薄、貼合皮膚、可降解、高耐用性的特性，實(shí)現(xiàn)了高于500的應(yīng)變系數(shù)、大于75[[[%]]]的拉伸范圍以及穩(wěn)定的電阻變化能力。該柔性表皮壓阻式傳感器可應(yīng)用在生命體征監(jiān)測、人機(jī)交互等領(lǐng)域中，目前已經(jīng)將其初步應(yīng)用在手勢識別之中，并做出了一系列人機(jī)交互應(yīng)用。技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)及參數(shù)采用綠色環(huán)保的新工藝，解決了傳統(tǒng)激光刻寫石墨烯脆弱的問題，實(shí)現(xiàn)了可編程激光刻寫石墨烯的耐摩擦性、耐用性改善，且傳感器可降解回收利用。

(東北師范大學(xué)物理學(xué)院無掩膜光刻機(jī)（進(jìn)口）設(shè)備采購)的潛在供應(yīng)商應(yīng)在（長春市二道區(qū)東南湖大路3030號，中資國際工程咨詢集團(tuán)有限責(zé)任公司一樓）獲取采購文件，并于2020年12月14日13點(diǎn)30分（北京時(shí)間）前提交響應(yīng)文件。