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本產品為一種改性有機硅柔軟劑，主要用于織物的后整理，給予織物柔軟、滑爽等手感。氨基硅油作為一種織物柔軟劑，不僅對棉、毛、麻等天然纖維有較好的柔軟手感，對合成纖維也有較好的柔軟效果。但經氨基硅油整理后的織物也存在親水性差、經光線照射后容易黃變的缺點，從而不能用于對淺色織物的后整理。本產品對氨基硅油直接進行醇基化改性，產品既保留了部分未改性的氨基硅油，又引入了羥基親水基團。經過本產品處理過的織物，既有經過氨基硅油處理后的手感特點又可改善織物的染色性、耐熱性和耐水性。同時氨基硅油中容易氧化黃變的氨基被部分親水基團醇基取代，增加了織物的親水透氣性，降低了處理后織物的黃變。

本發明公開了一種深硅刻蝕方法，包括如下步驟：（1）在硅片表面制備圖形化的光刻膠掩膜；（2）對硅片進行深感應耦合等離子體干法刻蝕，包括多個刻蝕階段，每個刻蝕階段均在感應耦合等離子體機內，通過鈍化、轟擊和刻蝕三個步驟交替循環加工完成，隨著刻蝕深度的增加，各刻蝕階段中轟擊步驟的轟擊強度逐漸增強。本發明有效解決了現有技術中側壁垂直度及粗糙度難以控制以及大刻蝕深度難以實現的問題，在提高刻蝕效率的同時，提高了對光刻膠的選擇比，刻蝕槽側壁垂直度高，粗糙度小，刻蝕深度大。

主要生產藥用玻管、中性硼硅玻璃安瓿/小瓶、低硼硅玻璃安瓿/小瓶、低硼硅管制口服液體瓶等產品?，F擁有14條國際先進的拉管生產線，70余臺國際先進的制瓶機，年產各類安瓿/管制瓶32億支，藥用玻管（精品7.0）30000噸。

?  成果簡介：在機械加工總工作量中，約三分之一為孔加工，而深孔加工過程由于排屑困難、切削溫度高、軸線定向性差是孔加工工藝中的難點。生產實際中深孔加工的效率往往很低，加工精度也難以保證。本項目主要解決在中、大批量生產條件下，深孔加工刀具的設計與制造問題以及相應的切削技術。采用先進的刀具材料、合理的切削幾何結構、有效的排屑及冷卻潤滑方式，可大大提高孔加工刀具的耐用度和加工精度，生產效率增長一倍以上。替代國外同類刀具，刀具壽命提高兩倍以上，刀具轉速可達3000rpm以上。各種發動機中

ID-208智能消化爐     ID208智能消化爐是一款依據經典濕法消解原理研制而成的樣品消解設備。具有消解快速、安全、穩定等優點。廣泛適用于飼料、食品、糧食、土壤、肉類和乳制品等樣品化學分析前的消解處理。是凱氏定氮儀等蒸餾法設備的理想搭檔。   產品特點： l加熱體為鋁錠及電加熱管一體式直接鑄造成型，堅固耐用 l爐內溫度連續可調，控溫精度高，樣品消化穩定性好 l采用2.5寸彩屏顯示，進口芯片集成電路控制系統，保證儀器的高品質高標準 l具有曲線和直線兩種升溫模式，6階段自動升溫，設置簡單，加熱過程中無需人工操作，并倒計時，到時后自動停止加熱并報警 l過熱保護，超過設定溫度上限時，自動切斷電源并報警提示 l加熱體與程序控制板采用隔熱設計，陽極氧化黑色處理散熱器，提高散熱效率15%左右，可以最大程度降低與周圍環境的熱傳遞，對于程序控制中心起到良好的保護作用，從而達到快速、均勻、穩定的消化效果 l消化支架采用不銹鋼材質，機體表面經過噴涂處理，讓儀器更美觀耐用 l消化管口密封墊片采用耐腐蝕材料，密封效果好的同時不變形且抗老化。采用卡扣設計，易清洗易更換     技術參數： 溫度范圍 室溫~450℃ 控溫精度 ±1℃ 加熱方式 電加熱管加熱及鋁錠傳導 升溫速度 約30min（15℃~420℃空載） 隔熱方式 分體風道散熱器隔熱 處理能力 8個/批 消化管容量 300ml 通風要求 排廢系統（吸氣泵）和通風櫥 電源 220V±10%,50～60HZ 額定功率 1800w 外形尺寸（長*寬*高） 335 × 322× 145 mm 凈重 15kg       完善的周邊附件裝置：     排氣罩： l采用高性能耐腐蝕密封材料，使用壽命長，密封效果好。 l排氣罩采用滴盤設計，有效減少使用后的酸液對桌面等物體帶來的腐蝕。 l密封蓋采用卡扣式設計，方便更換及清洗。 l玻璃式排氣管及不銹鋼出氣口，能有效減少酸氣泄露對周圍空氣及人員的危害。           一體式鋁錠加熱體： l采用特制一體式鋁模塊加熱，升溫快，受熱均勻，消化效果好。 l鋁模塊耐溫高，不易變形。 l電加熱管采用鑲嵌式模式，能增加鋁錠及加熱管使用壽命。 l深井式加熱孔，孔壁光滑美觀，且能提高消化管底部樣品的消化效率。       智能液晶溫控器系統： l智能液晶控溫系統界面美觀大方，簡單易懂。   l進口芯片集成電路控制系統，提高了安全及穩定性。 lPID參數自檢，自動調節加熱速率，控溫精度高。 l采用超溫報警，定時控溫一體化，無需人員值守。 l一鍵式啟動設計，杜絕人員操作失誤。                                                               售后服務承諾：在一定期限內，產品支持“三包”政策。產品質保兩年；終身免費維修；終身提供配件；售后來電1小時內解決故障問題，部分支持上門安裝調試維修產品24小時內解決。支持電話、網絡、視頻指導。

ID-220智能消化爐 ID220智能消化爐是一款依據經典濕法消解原理研制而成的樣品消解設備。具有消解快速、安全、穩定等優點。廣泛適用于飼料、食品、糧食、土壤、肉類和乳制品等樣品化學分析前的消解處理。是凱氏定氮儀等蒸餾法設備的理想搭檔。   產品特點： l加熱體為鋁錠及電加熱管一體式直接鑄造成型，堅固耐用 l爐內溫度連續可調，控溫精度高，樣品消化穩定性好 l采用2.5寸彩屏顯示，進口芯片集成電路控制系統，保證儀器的高品質高標準 l具有曲線和直線兩種升溫模式，6階段自動升溫，設置簡單，加熱過程中無需人工操作，并倒計時，到時后自動停止加熱并報警 l過熱保護，超過設定溫度上限時，自動切斷電源并報警提示 l加熱體與程序控制板采用隔熱設計，陽極氧化黑色處理散熱器，提高散熱效率15%左右，可以最大程度降低與周圍環境的熱傳遞，對于程序控制中心起到良好的保護作用，從而達到快速、均勻、穩定的消化效果 l消化支架采用不銹鋼材質，機體表面經過噴涂處理，讓儀器更美觀耐用 l消化管口密封墊片采用耐腐蝕材料，密封效果好的同時不變形且抗老化。采用卡扣設計，易清洗易更換   技術參數： 溫度范圍 室溫~450℃ 控溫精度 ±1℃ 加熱方式 電加熱管加熱及鋁錠傳導 升溫速度 約40min（15℃~420℃空載） 隔熱方式 分體風道散熱器隔熱 處理能力 20個/批 消化管容量 300ml 通風要求 排廢系統（吸氣泵）和通風櫥 電源 220V±10%,50～60HZ 額定功率 2400w 外形尺寸（長*寬*高） 380 × 375× 145 mm 凈重 23kg       完善的周邊附件裝置：   排氣罩： l采用高性能耐腐蝕密封材料，使用壽命長，密封效果好。 l排氣罩采用滴盤設計，有效減少使用后的酸液對桌面等物體帶來的腐蝕。 l密封蓋采用卡扣式設計，方便更換及清洗。 l玻璃式排氣管及不銹鋼出氣口，能有效減少酸氣泄露對周圍空氣及人員的危害。           一體式鋁錠加熱體： l采用特制一體式鋁模塊加熱，升溫快，受熱均勻，消化效果好。 l鋁模塊耐溫高，不易變形。 l電加熱管采用鑲嵌式模式，能增加鋁錠及加熱管使用壽命。 l深井式加熱孔，孔壁光滑美觀，且能提高消化管底部樣品的消化效率。       智能液晶溫控器系統： l智能液晶控溫系統界面美觀大方，簡單易懂。   l進口芯片集成電路控制系統，提高了安全及穩定性。 lPID參數自檢，自動調節加熱速率，控溫精度高。 l采用超溫報警，定時控溫一體化，無需人員值守。 l一鍵式啟動設計，杜絕人員操作失誤。         售后服務承諾：在一定期限內，產品支持“三包”政策。產品質保兩年；終身免費維修；終身提供配件；售后來電1小時內解決故障問題，部分支持上門安裝調試維修產品24小時內解決。支持電話、網絡、視頻指導。

（專利號：ZL 201510093124.3） 簡介：本發明公開了一種基于激光沖擊波技術的內孔孔壁沖擊噴涂的方法及裝置，涉及零件加工再制造領域。本發明首先將料斗內的金屬料粉送至坩堝內加熱熔化制成金屬熔融液，然后利用強激光輻照在熔融液的液面上，熔融液表面部分物質吸收激光能量瞬間氣化、電離在液面產生高壓等離子體，高壓等離子體瞬間對熔融金屬液面施加一向下的超高的沖擊力，使熔液發生爆炸性濺射，濺射的熔滴在空中飛行遇到阻力，霧化成更為細小的微粒，并以很高的速度撞向工件內孔壁，在孔壁快速凝固后形成致密的涂層。實現該方法的裝置包括激光發生器、導光系統、送粉系統、工件夾具系統以及控制系統。本發明具有噴涂壓力超高、粒子濺射速度超快、涂層質量好以及效率高等特點。

本發明公開了一種用于多晶硅鑄錠爐的隔熱塊，設置在多晶硅鑄錠爐的坩堝底部外周，用于坩堝加熱或冷卻多晶硅過程中的隔熱保溫，該隔熱塊為中空方形筒體結構，筒體筒壁為中空夾層結構，其中內壁用于包覆設置在坩堝底部的熱交換塊外周壁面，且該內壁與所述熱交換塊外周壁面具有間隙，所述外壁用于與設置在坩堝外圍的豎直隔熱板固定接觸，所述坩堝中心線、熱交換塊中心線以及隔熱塊中心線重合，且所述隔熱塊頂部低于熱交換塊頂部。本發明還公開了具有

首次使用炔烴作為卡賓前體完成了一例不對稱Si-H鍵插入反應，高效構筑了一類新型手性有機硅化合物。該反應使用手性羧酸雙銠催化劑，首先促進羰基-烯-炔底物發生分子內環化現場生成雙芳基金屬卡賓，該金屬卡賓中間體進而對硅烷的Si-H鍵發生高對映選擇性的插入反應，給出相應的手性有機硅化合物。該反應的條件溫和，底物適用范圍廣，大部分產物的ee值都能達到90%以上。所得的手性烯丙基硅產物能夠進一步轉化，例如發生烯丙基乙酰化反應，對映選擇性能夠得到很好的保持，因此在有機合成中具有一定的應用潛力。動力學實驗表明，反應對雙銠催化劑、硅烷展現出一級動力學效應，對底物則表現出零級動力學特征，說明銠卡賓對Si-H鍵的插入步驟是反應的決速步，這與動力學同位素實驗的結果（KIE=1.5）相一致。本研究表明炔烴作為卡賓前體同樣可以發生高對映選擇性的Si-H鍵插入反應，結合炔烴化學在從簡單原料構筑復雜產物上的優勢，為結構多樣性有機硅化合物的合成提供了新的方向。