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MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：1Cr18Ni9Ti優(yōu)質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統(tǒng)：機械泵+分子泵（進口和國產(chǎn)可選）；極限真空：優(yōu)于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調(diào)，旋轉0～20r/min可調(diào)，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質量流量計：10sccm、50sccm質量流量控制器各1套；膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。

EV-246小型電阻蒸發(fā)鍍膜機真空腔室：1Cr18Ni9Ti優(yōu)質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統(tǒng)：機械泵+分子泵（進口和國產(chǎn)可選）；極限真空：優(yōu)于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉0～20r/min可調(diào)，可加熱至300℃（可選水冷功能）；蒸發(fā)源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發(fā)電源，功率2KW，配源間防污隔板；膜厚監(jiān)控儀：采用國產(chǎn)或進口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。