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成果的背景及主要用途： 該成果屬于高端裝備制造業(yè)領域，內容涉及數(shù)控技術創(chuàng)新與自主數(shù)控系統(tǒng)及 其產業(yè)化應用，是在已完成天津市數(shù)控系統(tǒng)技術重點攻關項目成果的基礎上，通 過進一步深化研究取得的。實施期限為 5 年，自 2006 年 10 月至 2011 年 12 月。 該成果針對復雜數(shù)控裝備的集成監(jiān)控、可重構數(shù)控系統(tǒng)流水線架構和三級加工自 優(yōu)化與控制等方面進行系統(tǒng)的研究。 技術原理與工藝流程簡介： （1）針對數(shù)控系統(tǒng)內多任務調度及實時并行化執(zhí)行的特點，提出基于可重 構的數(shù)控流水線架構。該架構由數(shù)控主控流水線線程、驅動程序和數(shù)控微代碼實 時執(zhí)行單元構成數(shù)控流水線體系，可實現(xiàn)軟件乃至于硬件的多重可重構。 （2）針對數(shù)控系統(tǒng)因功能集成造成的核心運動控制實時性差、結構復雜等 問題，提出一種新的多層次集成監(jiān)控數(shù)控的系統(tǒng)架構。該監(jiān)控系統(tǒng)架構通過底層 數(shù)控系統(tǒng)監(jiān)控層、監(jiān)控管理層、遠程診斷監(jiān)控層進行分級式地故障分析與診斷， 實現(xiàn)數(shù)控裝備的監(jiān)控與維護。 43天津大學科技成果選編 44 （3）提出一種具有三級加工自優(yōu)化功能的智能控制方法，實現(xiàn)通過數(shù)控系 統(tǒng)對數(shù)控機床的智能控制。 技術水平及專利與獲獎情況： 該成果在國內外首次提出并研究基于可重構、多層次集成監(jiān)控和三級加工自 優(yōu)化的數(shù)控流水線架構，并開發(fā)了全新的 2-6 軸聯(lián)動控制可重構數(shù)控系統(tǒng)，已獲 得三項國家發(fā)明專利和兩項軟件著作權，并發(fā)表重要論文 12 篇。經專家組鑒定， 達到了國際領先的水平。 應用前景分析及效益預測： 鑒于該成果的獨特技術特征及數(shù)控產業(yè)的國家需求和巨大市場潛力，依托該 成果的“天大精益數(shù)字化制造產業(yè)園”項目已于 2011 年在天津海河科技園區(qū)奠基 建設，占地面積 100 畝，可實現(xiàn)年產值 10 億元以上的規(guī)模。 應用領域：高端裝備制造業(yè) 技術轉化條件： 該成果已實現(xiàn)產業(yè)化運作，并推廣到福建威諾數(shù)控、鑫菱機床廠、威海東云 數(shù)控機床、天地股份有限公司等企業(yè)，取得了很好的經濟社會效益。 合作方式及條件：根據(jù)具體情況面議

本發(fā)明公開了一種應用于光柵三維投影測量中的相位誤差補償方法，包括如下步驟：生成正弦光柵條紋；采集經物體表面調制之后的光柵條紋；對圖像預處理；根據(jù)預處理的條紋圖像利用相移法解相位；投射單一灰度值的灰度圖像于標準白板表面；將步驟(5)的分區(qū)域結果，通過求得的理想相位映射到投影儀靶面；根據(jù)分區(qū)域結果建立不同區(qū)域的分區(qū)域校正模型；向物體投射正弦光柵條紋；利用相移法求解初相位，根據(jù)建立的分區(qū)域誤差補償對相位進行補償，求解實際相位；利用標定好的相機參數(shù)和求取的絕對相位，根據(jù)空間交匯法計算出被測物體的三維坐標信息。本發(fā)明可以解決由于Gamma非線性所導致的相位誤差和測量誤差。

本發(fā)明涉及一種用于組織/器官芯片集成制造的三維打印方法及裝置，包括以下步驟：1)設計三維芯片的三維結構圖，并轉化為片層圖形文件格式；2)開啟三維打印裝置，將打印墨水吸入各個噴頭中；導入片層圖形文件；3)三維打印裝置分別將主體材料打印墨水、犧牲材料打印墨水和不同的細胞打印墨水打印到底板系統(tǒng)預先設計的位置；4)重復步驟3)逐層累積完成三維芯片結構打印，直至片層圖形文件打印完成；5)加熱或制冷整體打印完成的三維芯片，使通道犧牲材料變?yōu)槿苣z態(tài)；6)將變?yōu)槿苣z態(tài)的通道犧牲材料使用移液槍吸出，去除通道犧牲材料，形成完整的三維芯片結構；7)對未被融化的細胞打印墨水材料進行交聯(lián)，灌流培養(yǎng)基。

第三代半導體氮化鎵和碳化硅因其禁帶寬、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，已廣泛應用于電子和光電子等領域。各種氮化鎵和碳化硅基器件是5G技術中的關鍵器件。將半導體晶片制成器件，其中的一個關鍵加工步驟是晶片表面的拋光。然而，氮化鎵和碳化硅的化學性質極其惰性，半導體工業(yè)目前常用的化學機械拋光方法無法對其實現(xiàn)高效加工。對此，我們從原理上創(chuàng)新發(fā)展了一種光電化學機械拋光技術，不僅可快速加工各種化學惰性半導體晶片（如:加工氮化鎵的材料去除速率可達1.2 μm/h，比目前的化學機械拋光的高約10倍），而且可加工出原子臺階結構的平滑表面。設備簡單，技術具有完全的自主知識產權。

本發(fā)明公開了一種基于單光場相機的微尺度流動三維速度場的測量裝置及方法，其中測量裝置包括雙脈沖激光器、熒光顯微鏡、相機系統(tǒng)、同步控制器和計算機，其中計算機用于存儲ＣＣＤ相機獲得的光場圖片；選擇兩幀時間間隔為Δｔ光場照片，利用計算的點擴散函數(shù)，反卷積重建出示蹤粒子的三維位置信息；通過三維互相關算法得出微流場的三維速度場信息。本發(fā)明采用單相機系統(tǒng)與傳統(tǒng)熒光顯微鏡結合，實現(xiàn)微尺度流場的三維速度場測量，系統(tǒng)無需深度掃描，可以對非定常流動或非周期性流動的流場測量。

本發(fā)明公開了一種基于均值漂移的不同精度下的三維點云數(shù)據(jù) 的融合方法，針對兩組精度等級不同的三維點云數(shù)據(jù)，利用高精度點 云建立低精度點云的誤差分布，進而對低精度點云進行均值漂移，消 除低精度點云的漂移誤差，從而實現(xiàn)兩組數(shù)據(jù)信息的融合，該方法包 括：S1：建立低精度點云的拓撲結構信息，包括每個樣點的鄰域點集 和單位法矢；S2：利用高精度點云對低精度點云進行密度聚類，根據(jù) 聚類結果確定低精度點云每個樣點的漂移誤差；S3：利用低精度點云 的拓撲結構信息和所述漂移誤差確定低精度點云各樣點的漂移矢量， 根據(jù)該漂移矢量對低精度點云的各樣點進行漂移，實現(xiàn)融合。本發(fā)明 的方法在消除低精度點云漂移誤差的同時，可實現(xiàn)小幅度噪聲的光順。 

該成果主要研究了大傾角 “ 三軟 ” 易燃厚煤層綜放面自燃規(guī)律、基于指標氣體的預測預報技術、大傾角 “ 三軟 ” 易燃厚煤層綜放面綜合防滅火技術。并制定寶雞秦源煤業(yè)有限公司火災事故應急救援預案、火區(qū)綜合治理技術。項目于 2008 年由陜西省科學技術廳組織的鑒定，鑒定委員會一致同意通過技術鑒定。認為該項目在大傾角 “ 三軟 ” 易燃厚煤層綜放面防滅火技術研究方面達到國際先進水平。

南方科技大學化學系副教授何鳳課題組在能源領域頂級期刊Joule發(fā)表最新研究成果，介紹了團隊合成的一種定位三氟甲基取代的高效有機太陽能電池受體材料，該材料可通過H/J聚集的協(xié)同作用形成具有更多電子跳躍傳輸結點的三維網(wǎng)絡結構，可極大改善電荷在分子間的傳輸，大幅提高器件性能。在該研究中，團隊成功地將三氟甲基引入到稠環(huán)電子受體中，得到了超窄帶隙受體BTIC-CF3–γ，并將其應用于太陽能電子器件中，極大地提高了器件的能量轉換效率，充分體現(xiàn)出光譜紅移和超窄帶隙的優(yōu)勢，在多元體系、半透明器件和疊層器件應用方面展示出非常有潛力的前景。更重要的是，BTIC-CF3–γ的單晶結構有助于研究人員從分子層面理解這類分子的堆積形式以及分子間相互作用，也為進一步設計新的高性能材料提供了有利的依據(jù)和指導。

【發(fā) 明 人】梁僑麗 ; 李軍 ; 雷玲玲 ; 鄒娜姝 ; 俞晶華 ; 吳啟南【技術領域】本發(fā)明涉及醫(yī)藥技術領域，具體的說是涉及一種從荊三棱中分離到的具有抗腫瘤和抗菌活性的茋類新化合物荊三棱酚II以及該化合物的制備方法【摘要】本發(fā)明涉及抗腫瘤抗菌新化合物荊三棱酚II及其制備方法，屬醫(yī)藥技術領域。荊三棱酚II為新順式茋類化合物，結構如下式。它可以從莎草科蔗草屬植物荊三棱的干燥塊莖中提取制備，即用80%乙醇提取，減壓濃縮，再分別以石油醚，乙酸乙酯萃取。乙酸乙酯萃取部分反復用硅膠柱層析純化，石油醚：乙酸乙酯梯度洗脫得到純品。荊三棱酚II具有很好的抗腫瘤和抗菌作用，對人子宮頸癌Hela細胞的IC50值為7.218μM，對金黃色葡萄球菌和白色念珠菌的MIC值皆為79.3ug/ml。