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一種電調(diào)光反射率薄膜
本發(fā)明公開(kāi)了一種電調(diào)光反射率薄膜。包括第一光學(xué)介質(zhì)層，依次設(shè)置在第一光學(xué)介質(zhì)層上表面的第一陽(yáng)極、第二光學(xué)介質(zhì)層和第二陽(yáng)極，以及設(shè)置在第一光學(xué)介質(zhì)層下表面的陰極，陰極為勻質(zhì)導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)，第一陽(yáng)極和所述第二陽(yáng)極均由其上布有 M×N 元陣列分布的納孔的導(dǎo)電膜構(gòu)成；通過(guò)調(diào)變加載在第一陽(yáng)極和陰極間的第一時(shí)序電壓信號(hào)以及加載在第二陽(yáng)極和陰極間的第二時(shí)序電壓信號(hào)，調(diào)變陰極上的陣列化電子的密度和分布形態(tài)，進(jìn)而調(diào)變電調(diào)光反射率薄膜的光
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種可尋址電調(diào)光反射率薄膜
本發(fā)明公開(kāi)了一種可尋址電調(diào)光反射率薄膜。包括陰極，陽(yáng)極陣列，以及設(shè)置在陰極和陽(yáng)極陣列間的介電層；陽(yáng)極陣列由 M×N 元陣列分布的陽(yáng)極單元構(gòu)成，陽(yáng)極單元由規(guī)則排列且相互連通的多個(gè)子電極構(gòu)成，可尋址電調(diào)光反射率薄膜被劃分為 M×N 元陣列分布的電調(diào)光反射率單元，陽(yáng)極單元與電調(diào)光反射率單元一一對(duì)應(yīng)，構(gòu)成電調(diào)光反射率單元的陽(yáng)極，所有電調(diào)光反射率單元共用陰極；通過(guò)陽(yáng)極單元和陰極對(duì)電調(diào)光反射率單元執(zhí)行獨(dú)立加電操作，進(jìn)而通過(guò)調(diào)變加
華中科技大學(xué)
2021-04-14
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基于印品反射率的透射印品高保真分色技術(shù)
透明類軟包裝產(chǎn)品、透明膠片、透明燈箱等產(chǎn)品的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，對(duì)于軟包裝產(chǎn)品的印刷要求也越來(lái)越高，客戶要求原稿、打樣與實(shí)際印刷品顏色之間的高度一致性是印刷廠面臨的重要問(wèn)題和困難。由于透射品與反射品的成像機(jī)理的不同特性，透射品的分色技術(shù)目前研究的較少，平時(shí)印刷廠進(jìn)行顏色分色、控制，也必須購(gòu)買專門的昂貴的透射稿顏色測(cè)量，無(wú)論是在成本上、效率上還是效率上，都導(dǎo)致目前很難對(duì)透射品進(jìn)行良好的分色以及質(zhì)量控制。 該技術(shù)通過(guò)大量的理論分析和實(shí)踐研究，在透射品和基于透射品的多層白墨
上海理工大學(xué)
2021-01-12
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高延伸率鋁合金時(shí)效處理技術(shù)
改進(jìn)鋁型材時(shí)效處理工藝，鋁合金的斷后伸長(zhǎng)率比普通時(shí)效工藝下變大（約15%），減小后期鋁合金彎管過(guò)程中出現(xiàn)裂紋或者斷裂的概率，也避免了工藝造成鋁合金管材容易刮擦劃傷的質(zhì)量問(wèn)題；通過(guò)鋁合金成形CAE技術(shù)，選擇合理工藝參數(shù)，提高鋁合金成形質(zhì)量；采用等溫?cái)D出技術(shù)改善材料強(qiáng)度和塑性。
集美大學(xué)
2021-04-29
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高折射率有機(jī)-無(wú)機(jī)納米復(fù)合光學(xué)薄膜
隨著光學(xué)器件在日常生活領(lǐng)域越發(fā)廣泛地應(yīng)用，對(duì)其新功能的需求也加大，其中高折射率材料的研究也越來(lái)越多,特別是高折射率聚合物（HRIP）。近來(lái)，由于其在高級(jí)光電制造中的潛在應(yīng)用，HRIPs已經(jīng)吸引了相當(dāng)多的關(guān)注，例如先進(jìn)顯示設(shè)備的高性能基底，用于有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，光學(xué)黏合劑或密封膠材料，高級(jí)光學(xué)應(yīng)用中的減反射涂層，193-nm浸潤(rùn)蝕刻光阻劑，和微透鏡組件中的電荷耦合式裝置以及互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體圖像傳感器。然而，一般普通聚合物的折光指數(shù)的范圍在1.30～1.70之間，但是在實(shí)際應(yīng)用中要求更高的折光指數(shù)（大于1.70，甚至 1.80）。由高折射率無(wú)機(jī)納米粒子和有機(jī)高分子基體組成的納米復(fù)合材料可以輕易地獲得高的折光指數(shù)。本項(xiàng)目將高折射率的無(wú)機(jī)納米粒子炭黑、二氧化硅、二氧化鈦等添加到各種聚合物基體中，獲得高折射率光學(xué)薄膜，且通過(guò)對(duì)無(wú)機(jī)粒子和聚合物基體間的界面設(shè)計(jì)，使得無(wú)機(jī)粒子少量填充即可獲得高折射率光學(xué)薄膜。具有核心技術(shù)（自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)），發(fā)明專利1項(xiàng)，獲得上海市自然科學(xué)基金資助。
華東理工大學(xué)
2021-04-11
反射鏡
產(chǎn)品詳細(xì)介紹 反射鏡外圓：φ1mm—200mm中心偏差：3—5分 表面精度：λ/2表面質(zhì)量：10/5—60/40 有效口徑：90% 反射膜：鍍鋁、金、銀等，介質(zhì)反射膜，金屬反射膜，二氧化談碳(Co2)激光反射膜等長(zhǎng)春寶泰光公司學(xué)可根據(jù)用戶需求設(shè)計(jì)加工各種球面反射鏡、柱面反射鏡，平面反射鏡，二氧化談碳(Co2)激光反射鏡和各種激光反射鏡 平面反射鏡外圓：φ1mm—200mm中心偏差：3—5分 表面精度：λ/2表面質(zhì)量：10/5—60/40 有效口徑：90% 反射膜：鍍鋁、金、銀等，介質(zhì)反射膜，金屬反射膜，二氧化談碳(Co2)激光反射膜等長(zhǎng)春寶泰光公司學(xué)可根據(jù)用戶需求設(shè)計(jì)加工各種球面反射鏡、柱面反射鏡，平面反射鏡，二氧化談碳(Co2)激光反射鏡和各種激光反射鏡 球面反射鏡（平凸球面反射鏡、平凹球面反射鏡各種球面反射鏡） 焦距：±5mm—±10000mm 外型：φ1mm—200mm 中心偏差：3—5分 表面精度：λ/2表面質(zhì)量：10/5—60/40 有效口徑： 90% 反射膜：鍍鋁、金、銀等，介質(zhì)反射膜，金屬反射膜，二氧化碳(Co2)激光反射膜等長(zhǎng)春寶泰光學(xué)公司可根據(jù)用戶需求設(shè)計(jì)加工各種球面反射鏡、柱面反射鏡，平面反射鏡，二氧化碳(Co2)激光反射鏡和各種激光反射鏡
長(zhǎng)春市寶泰光電科技有限公司
2021-08-23
反射鏡
產(chǎn)品詳細(xì)介紹反射鏡可根據(jù)用戶需求設(shè)計(jì)加工各種球面反射鏡、柱面反射鏡，平面反射鏡，二氧化談碳(Co2)激光反射鏡和各種激光反射鏡等各種反射鏡。外圓：4mm — 200mm 厚度公差：±0.1mm 表面精度：λ/4表面質(zhì)量：40/20 有效口徑：90% 反射膜：鍍鋁、金、銀等，介質(zhì)反射膜，金屬反射膜，二氧化談碳(Co2)激光反射膜等按客戶需求可進(jìn)行鍍膜。--------------------------------------------------------------------------------------------------------------平面反射鏡可根據(jù)用戶需求設(shè)計(jì)加工各種球面反射鏡、柱面反射鏡，平面反射鏡，二氧化談碳(Co2)激光反射鏡和各種激光反射鏡等各種反射鏡。外圓：4mm — 200mm 厚度公差：±0.1mm 表面精度：λ/4表面質(zhì)量：40/20 有效口徑：90% 反射膜：鍍鋁、金、銀等，介質(zhì)反射膜，金屬反射膜，二氧化談碳(Co2)激光反射膜等按客戶需求可進(jìn)行鍍膜。--------------------------------------------------------------------------------------------------------------球面反射鏡可根據(jù)用戶需求設(shè)計(jì)加工各種球面反射鏡、柱面反射鏡，平面反射鏡，二氧化談碳(Co2)激光反射鏡和各種激光反射鏡等各種反射鏡。焦距：2mm — 1000mm外圓：4mm — 200mm 厚度公差：±0.1mm 表面精度：λ/4表面質(zhì)量：40/20 有效口徑：90% 反射膜：鍍鋁、金、銀等，介質(zhì)反射膜，金屬反射膜，二氧化談碳(Co2)激光反射膜等按客戶需求可進(jìn)行鍍膜。
長(zhǎng)春市金龍光電科技有限責(zé)任公司
2021-08-23
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高電阻率金屬氧化物材料表面電鍍技術(shù)
電鍍作為金屬材料的表面改性技術(shù)已經(jīng)取得了很廣泛的應(yīng)用，近年來(lái)電鍍也開(kāi)始在非金屬導(dǎo)電材料的表面改性領(lǐng)域取得相當(dāng)規(guī)模的工業(yè)應(yīng)用。但高電阻率氧化物材料表面金屬鍍覆一直以來(lái)不能采用電鍍工藝，這是因?yàn)檫@類材料的電子電導(dǎo)小，電鍍液中被鍍金屬離子不能從材料表面得到電子，所以不能沉積下來(lái)。傳統(tǒng)的絕緣氧化物材料表面鍍覆金屬的方法有化學(xué)鍍、真空蒸鍍、濺射鍍、涂覆金屬漿料后再燒結(jié)等方法，各方法都有各自的優(yōu)缺點(diǎn)。如含有氨水的化學(xué)鍍銀溶液不穩(wěn)定，甚至有可能生成有爆炸危險(xiǎn)的疊氮化合物。真空蒸鍍和濺射鍍有設(shè)備投資大、維護(hù)費(fèi)用較高等缺點(diǎn)，涂覆金屬漿料后再燒結(jié)的方法有金屬層厚度不均勻等缺點(diǎn)。 我們發(fā)明了一種高電阻率金屬氧化物材料表面電鍍的技術(shù)，解決了多種高電阻率金屬氧化物材料表面不能電鍍的問(wèn)題。高電阻率金屬氧化物材料電鍍的基本過(guò)程是首先對(duì)氧化物材料表面進(jìn)行原子氫致電導(dǎo)改性處理，提高其表面電子電導(dǎo)，使材料表面出現(xiàn)半導(dǎo)化甚至金屬化，然后在氧化物材料表面直接電鍍金屬層。我們?cè)谶@個(gè)方向上已經(jīng)進(jìn)行了近十年的研究，發(fā)表了十幾篇學(xué)術(shù)論文，申請(qǐng)了兩項(xiàng)發(fā)明專利。 本技術(shù)適用于由氧化物功能材料制造的電子元器件表面電鍍，也適用于氧化物材料顆粒或塊體的電鍍等，所得金屬鍍層厚度均勻，與氧化物材料表面具有良好的結(jié)合力。
北京科技大學(xué)
2021-04-11
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一種高孔隙率多孔陶瓷的制備方法
一種高孔隙率多孔陶瓷的制備方法，它涉及多孔陶瓷的制備方法。本發(fā)明要解決現(xiàn) 有直接發(fā)泡技術(shù)制備高孔隙率多孔陶瓷中，漿料發(fā)泡和泡沫固化過(guò)程相互分離及制備工藝復(fù) 雜的問(wèn)題。本發(fā)明高孔隙率多孔陶瓷具有均勻的球狀蜂窩孔結(jié)構(gòu)單元，孔壁以多孔窗口相互連通，孔隙率可達(dá) 90%以上，制法：一、稱取原料，球磨得漿料；二、將漿料置于真空室中 除氣；三、測(cè)試漿料的過(guò)冷點(diǎn)；四、將漿料降溫，得過(guò)冷漿料；五、將過(guò)冷漿料進(jìn)行減壓發(fā) 泡與泡沫固化；六、將固化泡沫材料干燥，得陶瓷素坯；七、燒結(jié)陶瓷素坯，得高孔隙率多 孔陶瓷。本發(fā)明將漿料發(fā)泡與泡沫固化過(guò)程有機(jī)結(jié)合，工藝簡(jiǎn)單，制備的陶瓷孔隙率為 90% 以上。本發(fā)明用于制備高孔隙率多孔陶瓷
安徽理工大學(xué)
2021-04-13
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高折射率含硫聚苯并咪唑及其制備方法
本發(fā)明公開(kāi)了一種高折射率含硫聚苯并咪唑及其制備方法，其特點(diǎn)是將堿或強(qiáng)堿弱酸鹽1-138份，助劑1-20份，催化劑0.1-50份，含二氟二苯并咪唑單體486份和溶劑500-2000份加入帶有攪拌器和溫度計(jì)的反應(yīng)釜中，加入硫化物126.5-248份，在氮?dú)獗Ｗo(hù)下，于溫度150-210℃脫水反應(yīng)0.5-6h，在溫度180-230℃繼續(xù)反應(yīng)0.5-12h，得到粘稠的聚合物溶液，待上述溶液溫度降至80℃時(shí)，再將反應(yīng)液倒入水中，析出線條狀沉淀；將上述線條狀聚合物經(jīng)水洗滌3次，于溫度80～120℃干燥2～8h，粉碎，分別用去離子水、乙醇萃取提純，在溫度80～120℃干燥1～20h，獲得高折射率含硫聚苯并咪唑樹(shù)脂。它具有折射率高、透光性好、熱性能優(yōu)異的優(yōu)點(diǎn)，該含硫聚苯并咪唑可用于高折射率光學(xué)微透鏡材料。
四川大學(xué)
2016-10-11