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哈爾濱工業大學（深圳）電子與信息工程學院的徐科副教授、姚勇教授與其合作者，針對光通信芯片集成度受限的問題，通過光波導模場的精細調控，在實現多模波導低損耗和低串擾的同時，將關鍵器件的尺寸縮小了1-2個數量級。芯片支持3×112 Gbit/s高速模分復用信號的任意緊湊布線，使多模光學系統的大規模片上集成成為可能。該成果將進一步助力集成光子芯片在光通信、人工智能、高性能計算、量子信息等眾多高新領域中加速發展和應用。

用于量子保密通信、近紅外探測成像、高速量子光通信、激光雷達探測。 針對單光子探測需求，提取關鍵技術參數，通過多次半導體器件仿真優化，最終得到外延結構設計。結合 13 所 自主外延生長技術與精準的鋅擴散方案，最終實現較為成功的 GM-APD 芯片。該芯片已經成功達到量子保密通信中單光子探測需求，并在安徽問天量子技術有限公司的產品中得到應用。 

本發明公開了一種廣譜成像探測芯片。包括熱輻射結構和光敏陣列。廣譜入射光波進入熱輻射結構后，在納尖表面激勵產生等離激元，驅動圖形化金屬膜中的自由電子向納尖產生振蕩性集聚，納尖收集的自由電子與等離激元驅控下涌入的自由電子相疊合，產生壓縮性脈動，使電子急劇升溫并向周圍空域發射主要成分為可見光的熱電磁輻射，光敏陣列將熱電磁輻射轉換為電信號，經預處理后得到電子圖像數據并輸出。本發明能將廣譜入射光波基于壓縮在納空間中的高溫

本發明公開了一種多頂針芯片剝離裝置，包括多頂針主體機構， 安裝于 Z 向升降機構上并連接旋轉驅動機構，其包括中心頂針和外圈 頂針，外圈頂針先接觸藍膜上芯片的外緣實現預頂松，然后中心頂針 上升至外圈頂針等高并協作頂起芯片，完成芯片剝離；旋轉驅動機構， 連接多頂針主體機構，用于先后驅動外圈頂針和中心頂針上升以完成 芯片頂起動作；Z 向升降機構，安裝于三自由度微調對準機構上，停 機狀態時其處于下降位置，工作狀態其處于抬升位置，為頂起芯片做 好準備；三自由度微調對準機構，用于對多頂針主體機構進行 X、Y 和 Z 向的微調。本發明可實現頂針的快捷更換以及各頂針高度的方便 調節，芯片受力均勻，有效減少剝離過程中的芯片失效。 

本發明公開了一種超薄芯片的制備方法，具體為：首先在硅晶圓表面光刻形成掩膜以暴露出需要減薄的區域，再采用刻蝕工藝對硅晶圓進行局部減薄，對減薄后的區域進行芯片后續工藝處理得到芯片，最后將芯片與硅晶圓分離。本發明只是部分減薄了硅片，所以硅晶圓的機械強度仍然可以支持硅片進行后續的加工工藝，相對于傳統的利用支撐基底來減薄芯片的方法，簡化了工藝流程，降低了工藝成本。另外由于不需要用機械研磨工藝來進行減薄，所以不會因為機械研磨對硅晶圓造成的輕微震動而使厚度不能減得過小，通過本發明可以使芯片減薄到比機械研磨方法更薄的程度。

成果與項目的背景及主要用途： RFID是射頻識別技術的英文(Radio FrequencyIdentification)的縮寫，射頻識別技術是 20 世紀 90 年代開始興起的一種自動識別技術，射頻識別技術是一項利用射頻信號通過空間耦合(交變磁場或電磁場)實現無接觸信息傳遞并通過所傳遞的信息達到識別目的的技術。RFID 系統通過射頻信號自動識別目標對象并獲取相關數據，識別工作無須人工干預。作為條形碼的無線版本，RFID 技術具有條形碼所不具備的防水、防磁、耐高溫、使用壽命長、讀取距離大、標簽上數據可以加密、存儲數據容量更大、存儲信息更改自如等優點，已經被世界公認為本世紀十大重要技術之一，在生產、零售、物流、交通等各個行業等各個行業有著廣闊的應用前景。 本項目主要研發了基于 ISO18000-6B 協議的無源電子標簽芯片，其可用于物流，貨品識別，高速公路收費等諸多領域，是目前國內外射頻電路研究領域的熱點。 技術原理與工藝流程簡介：UHF 頻段的無源電子標簽工作原理如下：通過標簽上外置的偶極子天線接收讀卡器發送的載波信號，并將其轉換為直流信號，為整個芯片供電；同時片上的解調模塊解調出經調制的載波信號所攜帶的數據信息，并傳遞給片上的基帶部分加以處理；基帶部分連同 EEPROM 部分一起完成數據的讀寫和控制功能，再由調制模塊以反向發射的形式將上行信號返回給讀卡器完成一次通信。 本設計的工藝流程是基于 Chartered 0.35um EEPROM 數字工藝，從芯片設計、仿真、版圖驗證。最終通過代工廠完成芯片制作。技術水平及專利與獲獎情況：根據測試結構表明，各項指標都達到了商用需求，在國內屬領先水平。該項成果已獲得國家知識產權局頒發的集成電路布圖登記證書。BS.06500285.7 應用前景分析及效益預測：目前國內的 UHF 頻段的 RFID 產品正處于高速成長期，需求量快速增長，但大多數核心技術需要依賴進口。如果本項目能夠實現技術轉產，可以預計的前景和經濟效益是相當可觀的。有了自主知識產權的 UHF頻段電子標簽，在很多領域都可以加以移植，取代進口產品不但可以大大節省開支，同時也可以實現產品的自我定制及更新，最大程度的方便了國內用戶的應用。 應用領域：貨品跟蹤和識別（代替條形碼）、高速移動物體的識別、防偽認證以及電子支付等領域都會有廣泛的應用。 技術轉化條件（包括：原料、設備、廠房面積的要求及投資規模）：四十平方米以上的辦公用房，電腦、工作站若干，相應軟件。也可以和 RFID天線制造單位，卡片封裝單位共同合作，將成果轉產。 合作方式及條件：面談。

成果與項目的背景及主要用途： 該顏料在化學結構上與還原藍 RS（染料）相同，屬還原顏料類。與酞菁藍 相比有較強紅光藍的優點，不含任何金屬離子及聯苯類致癌物，有益于環境保護 和人身健康。該顏料具有鮮艷的紅光藍色和優異的耐候、耐溶劑性能，均超過酞 菁藍。耐曬達 8 級，耐熱 200℃。C.I. 顏料藍 60 作為顏料主要使用于高級轎車 的面漆中，此外還用于高檔塑料工業、合成纖維原漿著色。具有較鮮艷的紅光藍 色，有良好的耐熱、耐罩漆性能和優異的耐久性能。由堿熔縮合法得到的還原藍 RS（染料）在晶型、顆粒大小及分布、粒子表面狀態等方面無法滿足顏料直接 使用要求，不能直接用作顏料，必須進行顏料化處理。國內目前尚未有 C.I. 顏 料藍 60 商品生產。國內所用 C.I. 顏料藍 60 為從國外進口，因此該產品投產既 可滿足內銷需求，也可批量出口。該方法立足于國內易得原料，勿需高溫高壓， 操作簡單，三廢少，適宜于批量生產。 技術原理與工藝流程簡介： 23天津大學科技成果選編 24 本技術以染料還原藍 RS（國內有大量生產）為原料，通過酸溶、稀釋、過 濾，然后將濾餅在有機溶劑中調整晶型并經特殊表面處理，最終可制備與國外品 牌特性相近的 C.I. 顏料藍 60 顏料。 應用前景分析及效益預測： 現國內尚無該產品的批量生產廠家，國內市場需求完全由進口解決。有國 外公司從我國進口原染料還原藍 RS，然后加工為 C.I. 顏料藍 60 銷售或返銷回 中國。也經常有國外公司向中國尋求 C.I. 顏料藍 60 商品的訂單，因此，若該顏 料生產，既可保證市場，又有可觀效益。 主要原料成本約 16 萬元/噸，售價在 30 萬元/噸以上，以年產 50 噸計，增 值可保證 700 萬元以上。其中主要原料成本為還原藍 RS，占總成本近 90％，若 能降低該原料價格，則可進一步增加經濟效益。 應用領域：汽車漆、塑料、印鈔、有機顏料、涂料。 技術轉化條件（包括：原料、設備、廠房面積的要求及投資規模）： 生產規模及產量：年產 50 噸 C.I. 顏料藍 60。 所需廠房面積：300m2。 主要設備：主要設備為常壓的搪瓷攪拌反應釜、壓濾機、烘干器、熱交換器、 高位槽等。 主要原材料及來源：還原藍 RS、硫酸、有機溶劑、表面活性劑，均為國產。 主要設備投資：100 萬元。 總投資：依生產廠具體情況而定。 合作方式及條件：面議.

內容介紹： Nb-Si基超高溫合金具有高熔點（1750°C以上）、低密度、適中的室 溫韌性、良好的高溫強度及優良的耐腐蝕特性，可使用在1200?1450C 的溫度范圍內，用于制備航空航天、化工、高溫爐等高溫結構部件，適 合于取代鉗佬合金漏板，從而大幅度降低玄武巖纖維的制備成本。 本項目開發了Ti, Cr, Hf, Al, Mo, B, Zr

該顏料在化學結構上與還原藍RS（染料）相同，屬還原顏料類。與酞菁藍相比有較強紅光藍的優點，不含任何金屬離子及聯苯類致癌物，有益于環境保護和人身健康。該顏料具有鮮艷的紅光藍色和優異的耐候、耐溶劑性能，均超過酞菁藍。耐曬達8級，耐熱200℃。C.I. 顏料藍60 作為顏料主要使用于高級轎車的面漆中，此外還用于高檔塑料工業、合成纖維原漿著色。具有較鮮艷的紅光藍色，有良好的耐熱、耐罩漆性能和優異的耐久性能。由堿熔縮合法得到的還原藍RS（染料）在晶型、顆粒大小及分布、粒子表面狀態等方面無法滿足顏料直接使用要求，不能直接用作顏料，必須進行顏料化處理。國內目前尚未有C.I. 顏料藍60商品生產。國內所用C.I. 顏料藍60為從國外進口，因此該產品投產既可滿足內銷需求，也可批量出口。該方法立足于國內易得原料，勿需高溫高壓，操作簡單，三廢少，適宜于批量生產

技術特點：1、方向性溝槽，有利于排除積雪和泥水；2、采用多復合軟胎面、3D鋼片技術，提升冰雪路面操控性能。