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產(chǎn)品詳細介紹 ZYT—DDC 單人單面紫外誘變臺（垂直）   這是一種供單人操作的通用型局部凈化設(shè)備，氣流形式為垂直層流，它可造就局部高清潔度空氣環(huán)境，同時又具備紫外誘變技術(shù)功能對生物研究、科技育種、科研制藥、農(nóng)業(yè)科技等部門，紫外誘變臺是您最好的助手。 特點： 1、操作區(qū)為全不銹鋼。 2、外型美觀結(jié)構(gòu)合理。 3、采用自定們上下推拉門系統(tǒng)。 4、風(fēng)量可調(diào)，雙側(cè)電源插座。 5、紫外線單個控制，時間定時功能。 技術(shù)指標：   型號 ZYT--DDC 外形尺寸 900×800×1630 工作臺尺寸 870×650×570 潔凈等級 100級@≥0.5ｕm(美聯(lián)邦209E) 平均風(fēng)速 0.3—0.5m/s(可調(diào)) 噪音 ≤65dB(A) 振動 XYZ方向≤2ｕm 照明燈具 20W*1 感光燈 20W*1  紫外燈 主峰波長254NM  15W*3 紫外燈 主峰波長285NM  15W*3 電源 220V  50HZ 消耗功率 450W 備注 不銹鋼臺面，雙側(cè)電源，上下推拉門  

電流變液在具有廣泛的應(yīng)用前景，但是目前的巨電流變液采用極性分子包覆的方法，壽命很短，無實 數(shù)值孔徑是光學(xué)透鏡最重要的基本參量，衡量著光學(xué)系統(tǒng)的收集光子能力。對于顯微物鏡，數(shù)值孔徑 用價值。本項目已制備出納米碳鑲嵌在二氧化鈦表面的顆粒，與硅油混合后得到屈服強度高、漏電流低、 越大，成像光斑越小，成像細節(jié)越清晰。常規(guī)油浸物鏡由于采用了特殊的高折射率匹配液，在高分辨率成 壽命長、溫度穩(wěn)定性好的電流變液，達到實用的水平。計劃擴大生產(chǎn)量，并將電流變液應(yīng)用在阻尼器上， 像和浸潤式光刻中更被廣泛應(yīng)用。超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)是一種具有橫向亞波長尺度的微納光學(xué)結(jié)構(gòu)，可以在不 實現(xiàn)實用化。

以混合自適應(yīng)人工智能優(yōu)化程序設(shè)計出亞波長單晶硅超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)了相位的精確控制并減小了單晶硅結(jié)構(gòu)在可見光的吸收。進一步使用該結(jié)構(gòu)演示了浸鏡油浸沒下數(shù)值孔徑為1.48的高透過率超構(gòu)光學(xué)透鏡。

中協(xié)高靈敏擴聲系統(tǒng)融合了二合一桌麥、新型隱藏麥、吊麥、手持麥和手機麥多種擴聲手段，融合先進的高靈敏擴聲技術(shù)，拾音距離廣，為高校教學(xué)創(chuàng)造更加高效、便捷、靈活的擴聲環(huán)境，有效滿足現(xiàn)代教學(xué)對聲音處理的需求。

本發(fā)明公開了一種柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)制備方法，該制備方 法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)底層：在基底上旋涂 一層負性光刻膠，不用掩膜進行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負性光刻 膠上旋涂一層負性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進行曝光；(3)結(jié)構(gòu)層光 刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應(yīng)的掩模進行套刻曝光；(4)顯影： 將上述步驟中曝光后的結(jié)構(gòu)進行顯影；(5)鍍保護層膜：在步驟(4)中得 到的結(jié)構(gòu)表面形成一層保護膜；(6)剝離：將經(jīng)過步驟(5)處理后得到的 結(jié)構(gòu)從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)。按照本發(fā)明的 制備方法，工藝簡單，成本低廉，對該柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)的普及 應(yīng)用具有極大的促進作用。 

本發(fā)明公開了一種柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)制備方法，該制備方法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)底層：在基底上旋涂一層負性光刻膠，不用掩膜進行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負性光刻膠上旋涂一層負性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進行曝光；(3)結(jié)構(gòu)層光刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應(yīng)的掩模進行套刻曝光；(4)顯影：將上述步驟中曝光后的結(jié)構(gòu)進行顯影；(5)鍍保護層膜：在步驟(4)中得到的結(jié)構(gòu)表面形成一層保護膜；(6)剝離：將經(jīng)過步驟(5)處理后得到的結(jié)構(gòu)從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)。按