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一種高通量聚偏氟乙烯超濾膜的制備方法
本發明所述聚偏氟乙烯超濾膜的制備方法：(1)將聚偏氟乙烯、聚偏氟乙烯-g-聚乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯和溶劑加入反應容器，在攪拌下于50℃反應24小時，反應結束后，靜置脫泡至無可見氣泡，得到制膜液；其中，聚偏氟乙烯在所得制膜液中的質量濃度為15％～20％，聚偏氟乙烯-g-聚乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯的質量是聚偏氟乙烯質量的5％～15％；(2)將步驟(1)所得制膜液澆在光學反射鏡上，采用刮膜刀進行刮膜，刮膜后在室溫、空氣中放置40～80s，使制膜液中的溶劑揮發，然后進行30～60小時的凝固浴，最后在空氣中自然晾干，得到高通量超濾膜。本發明方法能進一步提高膜通量。
四川大學
2016-10-12
華中科技大學橢偏儀采購項目公開招標公告
華中科技大學橢偏儀采購項目招標項目的潛在投標人應在網上報名獲取招標文件，并于2022年06月23日09點30分（北京時間）前遞交投標文件。
華中科技大學
2022-06-01
一種透射式全穆勒矩陣光譜橢偏儀及其測量方法
本發明公開了一種透射式全穆勒矩陣光譜橢偏儀及其測量方法，方法是將起偏臂產生的調制光線投射到待測樣件表面，檢偏臂將待測樣件反射(或透射)的光線解調并接收，通過對測量光譜進行諧波分析，計算獲得待測樣件的全穆勒矩陣信息，并通過非線性回歸，庫匹配等算法擬合提取待測樣件的光學常數，特征形貌尺寸等信息。橢偏儀包括起偏臂(包括光源，透鏡組，起偏器和伺服電機驅動的補償器)，待測樣件和檢偏臂(包括伺服電機驅動的補償器，檢偏器，透鏡組和光譜儀)。本發明可實現各種信息光電子功能材料和器件，以及納米制造中各種納米結構的在線
華中科技大學
2021-04-14
一種產生近似圓偏的極紫外相干光源的方法
本發明公開一種產生近似圓偏的極紫外相干光源的方法，所述方法包括步驟：S1、對線性偏振入射激光進行增強使其強度量級達到10<sup>13</sup>～10<sup>14</sup>W/CM<sup>2</sup>；S2、將增強之后的入射激光與雙原子氣體分子進行相互作用產生諧波，所述諧波波譜具有兩個不同方向的分量，調整所述線性偏振入射激光的偏振方向與分子軸的夾角，直至獲取產生光源所需的諧波階段，所述諧波階段內諧波波譜分量能量強度相等
華中科技大學
2021-04-14
一種帶材收卷跑偏的補救糾偏系統及其控制方法
本發明公開了一種帶材收卷跑偏的補救糾偏系統及其控制方法， 所述系統包括收卷裝置、監測裝置、糾偏裝置、預收卷裝置和控制模 塊，所述監測裝置的圖像采集器實時采集收卷輥兩側邊緣剛剛收卷區 域的圖像并將其傳輸給控制模塊，控制模塊根據接收到的圖像判斷收 卷帶材是否跑偏，若跑偏，則控制模塊控制收卷電動機停轉，同時控 制預收卷裝置和糾偏裝置運作完成糾偏過程，最后由控制模塊控制預 收卷裝置和糾偏裝置回到正常收卷時的位置。本發明能夠對
華中科技大學
2021-04-14
一種直流偏磁多階段遞進式綜合治理評估方法
本發明公開了一種直流偏磁多階段遞進式綜合治理評估方法，包括:步驟 1，收集接地極和接地站 點的相關資料;步驟 2，從接地極向土壤注入小電流，獲得接地站點的直流電流測試值;步驟 3，采用 直流電流仿真模型計算接地站點的直流電流仿真值;步驟 4，基于接地站點的直流電流測試值和直流電 流仿真值調整直流電流仿真模型，并進行第一階段直流偏磁治理;步驟 5，從接地極向土壤注入逐步增 大的小電流，觀察治理站治理設備動作情況，測量測試站直流電流，檢查觀察站的運行情況和噪聲;步 驟 6，采用直流電流仿真模型計算測試站的直流電流仿真值，調整直流電流仿真模型;并進行下一階段 直流偏磁治理。本發明計算簡單、準確度高、效率高、切實可行。
武漢大學
2021-04-13
兩部門關于開展高性能生物反應器創新任務揭榜掛帥工作的通知
高性能生物反應器創新任務揭榜掛帥。
工信部
2025-06-05
聚偏氟乙烯基電極材料及其超級電容器的制備方法
本發明涉及一種聚偏氟乙烯基扣式與卷繞式超級電容器及其電極材料制備方法。該方法包括：（1）聚偏氟乙烯混合液制備；（2）聚偏氟乙烯復合膜制備；（3）對復合膜活化處理，制得扣式與卷繞式超級電容器的聚偏氟乙烯膜電極材料。以聚偏氟乙烯膜材料為扣式與卷繞式超級電容器的電極，制備成扣式超級電容器與卷繞式超級電容器。本發明制備的電極材料，不用直接添加活性物質，其成本低、充放電速度快、工藝簡單；制備的扣式與卷繞式超級電容器充放電性能好、循環壽命長；且電極材料可加工為任意大小，其厚度大約為85～120μm，符合器件小型化的要求及擴大其應用范圍。
四川大學
2021-04-11
一種用于廣義橢偏儀的光強自動調整裝置及其控制方法
本發明公開了一種廣義橢偏儀光強自動調整裝置及其控制方法。 裝置主要包括計算機、光譜儀、伺服電機控制器、直流伺服電機、增 量式編碼器和中性密度濾光片轉盤。在廣義橢偏儀硬件連接完成的情 況下，根據光譜儀采集的光譜曲線是否飽和以及是否絕大部分在光譜 儀線性響應區間來決定是否要轉動直流伺服電機，從而帶動中性密度 濾波片轉盤轉動以切換中性密度濾波片來改變光源照射出來的光強大 小。本發明可以實現對雙旋轉補償器廣義橢偏儀光強自動調整，且響 應快速，操作簡單。
華中科技大學
2021-04-11
一種用于廣義橢偏儀的光強自動調整裝置及其控制方法
本發明公開了一種廣義橢偏儀光強自動調整裝置及其控制方法。裝置主要包括計算機、光譜儀、伺服電機控制器、直流伺服電機、增量式編碼器和中性密度濾光片轉盤。在廣義橢偏儀硬件連接完成的情況下，根據光譜儀采集的光譜曲線是否飽和以及是否絕大部分在光譜儀線性響應區間來決定是否要轉動直流伺服電機，從而帶動中性密度濾波片轉盤轉動以切換中性密度濾波片來改變光源照射出來的光強大小。本發明可以實現對雙旋轉補償器廣義橢偏儀光強自動調整，且響應快速，操作簡單。
華中科技大學
2021-04-14