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一種基于金屬基平面納尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜
本發(fā)明公開了一種基于金屬基平面納尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜，其包括：由金屬平面納尖簇線密集排布構(gòu)成的一層圖案化陽極和一層平面金屬納膜陰極/陽極，它們被分別制作在透光的納米厚度的基膜/光學(xué)介質(zhì)層的兩個外表面上；在加電態(tài)下，圖案化陽極中的金屬平面納尖與金屬納膜陰極/陽極間形成局域彎曲的銳化電場陣，陰極/陽極上可自由移動的電子被陰陽電極間所激勵的陣列化納電場驅(qū)控，向各納電場中電場強(qiáng)度最強(qiáng)部位聚集。本發(fā)明基于金屬基平面納尖簇電
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種基于金屬平面微納線尖電極的電調(diào)透光率薄膜
本發(fā)明公開了一種基于金屬平面微納線尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜，其包括：由金屬平面微納線尖有序密集排布構(gòu)成的一層圖案化陰極和一層平面陽極，它們被分別制作在一層納米厚度的透光基膜/電絕緣膜的上下表面；在加電態(tài)下，陰極上可自由移動的電子被陰陽電極間所激勵的電場驅(qū)控，向金屬平面微納線尖簇其各納線尖頂聚集，納線尖金屬電連接線上的自由電子分布密度因部分甚至絕大多數(shù)電子被納線尖頂抽走而減少甚至急劇降低。本發(fā)明基于金屬平面微納線尖
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種光譜橢偏儀中氙燈光源的光強(qiáng)平滑處理裝置及方法
本發(fā)明公開了一種應(yīng)用到光譜橢偏儀中的氙燈光線光強(qiáng)平滑處理裝置及方法。該光強(qiáng)平滑處理裝置包括準(zhǔn)直透鏡、匯聚透鏡和光闌，準(zhǔn)直透鏡為消色差透鏡，用于將待處理的氙燈光線準(zhǔn)直為平行光束；匯聚透鏡為單透鏡，用于將平行光束匯聚聚焦，匯聚后的光斑大小隨波長的增加而增大；光闌設(shè)置在匯聚透鏡后并間隔一定波長焦距位置處，通過設(shè)定該光闌的大小使紫外波段的光斑可透過該光闌而可見到近紅外波段的光斑被阻擋，從而減小可見到近紅外波段的光束光強(qiáng)，實現(xiàn)平滑。本發(fā)明還公開了一種氙燈光線光強(qiáng)平滑處理方法。本發(fā)明沒有損失任何波段的光線，探測
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種沿面擊穿型兩對棒極結(jié)構(gòu)觸發(fā)真空開關(guān)
本發(fā)明公開了一種沿面擊穿型兩對棒極結(jié)構(gòu)觸發(fā)真空開關(guān)；觸 發(fā)真空開關(guān)采用三段式結(jié)構(gòu)，包括上段波紋狀陶瓷外殼，下段波紋狀 陶瓷外殼，中段金屬屏蔽罩，設(shè)置在金屬屏蔽罩內(nèi)的上電極和下電極， 觸發(fā)電極，上電極金屬連桿，上電極法蘭盤，下電極金屬連桿以及下 電極法蘭盤；上電極法蘭盤與上段波紋狀陶瓷外殼連接，下電極法蘭 盤與下段波紋狀陶瓷外殼連接，再與金屬屏蔽罩共同構(gòu)成密閉殼體； 通過上段波紋狀陶瓷外殼連接上電極法蘭盤，以及通過下段波紋狀陶 瓷外殼連接下電極法蘭盤能有效提高上電極法蘭盤與下電極法蘭盤之 間的爬電距離
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種時間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的流場狀態(tài)測量方法
本發(fā)明公開了一種時間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的流場狀態(tài)測量方法，該方法包括如下步驟：首先，根據(jù)第 k+1 時刻圖像與第 k 時刻圖像之間的時間間隔Δt<sub>k</sub>，采集第 k+1 時刻圖像，并對第 k 時刻和第k+1 時刻的圖像進(jìn)行降噪處理；然后，據(jù) k 時刻圖像和第 k+1 時刻的圖像，采用粒子圖像測速方法，計算第 k+1 時刻的流場狀態(tài) X(k+1)，包括：位移場 x(k+1)、速度場 x′(k+1)、加速度場 a(k+1)，并輸出顯示；最后，更新第 k+2 時刻與第
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種容三盤失效糾刪碼的單數(shù)據(jù)盤失效快速重建方法
本發(fā)明公開了一種容三盤失效糾刪碼的單數(shù)據(jù)盤失效快速重建 方法，包括：單條帶重建時將每個條帶的每個條帶單元劃分為 p-1 個 子分塊，其中 p 為素數(shù)，且滿足 p+2 等于 RAID 組中磁盤的數(shù)量,獲取 每個條帶中用于重建失效盤的子分塊的總數(shù)量 Rideal＝Rlow+w%，在 磁盤個數(shù)為 p+2 的陣列中，將失效盤 i 失效的可行解值初始化為 3<sup>p-1</sup>，初始化計數(shù)器 j=0,用輾轉(zhuǎn)相
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種基于 I/O 流水線的失效節(jié)點(diǎn)數(shù)據(jù)重構(gòu)優(yōu)化方法
本發(fā)明公開了一種基于 I/O 流水線的失效節(jié)點(diǎn)數(shù)據(jù)重構(gòu)優(yōu)化方 法 ， 包 括 ： 從 糾 刪 碼 存 儲 集 群 中 的 存 活 節(jié) 點(diǎn) 中 任 選 k 個 節(jié) 點(diǎn) N1,N2,…,Nk，并初始化計數(shù)器 i＝0，j＝1，節(jié)點(diǎn) Nj 讀取其自身的分塊 Blocki,j，并將其發(fā)送到 Nj+1，并設(shè)置 j＝j(luò)+1，節(jié)點(diǎn) Nj 讀取其自身的 分塊 Blocki,j，并與接收自節(jié)點(diǎn) Nj-1 的分塊 Blocki,j-1 進(jìn)行線性組合計
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種兩性分子改性的鈣鈦礦光電功能材料及其應(yīng)用
本發(fā)明公開了一種有機(jī)兩性分子改性的 MzAyBXz+y+2 鈣鈦礦 基光電功能材料，其特征在于，該功能材料是以 ABX3 鈣鈦礦材料為 基 體 ， 以 有 機(jī) 兩 性 分 子 M 為 改 性 成 分 ， 其 化 學(xué) 通 式 表 示 為 MzAyBXz+y+2。本發(fā)明還公開了所述光電功能材料的制備方法及其應(yīng) 用。本發(fā)明所用的基體材料與改性材料成本低廉，原料豐富；此外， 制備方法可采用全溶液法，制備工藝簡單，無需昂貴的設(shè)備儀器，同
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種基于體感技術(shù)的機(jī)器人離線示教編程系統(tǒng)及方法
本發(fā)明公開了一種基于體感技術(shù)的機(jī)器人離線示教系統(tǒng)，其包 括空間點(diǎn)位采集模塊，數(shù)據(jù)處理模塊和離線編程模塊，其中，空間點(diǎn) 位采集模塊用于完成機(jī)器人的示教過程，其通過體感設(shè)備識別和捕捉 人體肢體動作，獲得肢體運(yùn)動軌跡中的空間點(diǎn)位，以提供給數(shù)據(jù)處理模塊;數(shù)據(jù)處理模塊用于對所述空間點(diǎn)位進(jìn)行濾波和光順處理，獲得 適合機(jī)器人運(yùn)動的運(yùn)動軌跡，并將處理后的空間點(diǎn)位坐標(biāo)提供給離線 編程模塊;離線編程模塊用于對運(yùn)動軌跡中的空間點(diǎn)的坐標(biāo)進(jìn)行坐標(biāo) 變換和后置處理，以生成機(jī)器人可以執(zhí)行的代碼，用于輸出至機(jī)器人 實現(xiàn)示教。本發(fā)明
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種適用于多級空氣壓縮機(jī)的配流機(jī)構(gòu)
本發(fā)明公開了一種適用于多級空氣壓縮機(jī)的配流機(jī)構(gòu)，其開設(shè) 有一級進(jìn)氣孔、一級排氣孔、二級進(jìn)氣孔、二級排氣孔、三級進(jìn)氣孔、 三級排氣孔、四級進(jìn)氣孔及四級排氣孔。所述一級進(jìn)氣孔、所述一級 排氣孔、所述二級進(jìn)氣孔、所述三級進(jìn)氣孔、所述四級進(jìn)氣孔及所述 四級排氣孔分別收容有一個氣閥，八個所述氣閥分別用于實現(xiàn)對應(yīng)的 氣體的單向流動。所述配流機(jī)構(gòu)還開設(shè)有第一連通孔、第二連通孔及 第三連通孔，所述第一連通孔與所述一級排氣孔及所述二級進(jìn)氣孔均 相連通;所述第二連通孔與所述二級排氣孔及所述三級進(jìn)氣孔均相連 通;所述第三
華中科技大學(xué)
2021-04-14