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基于IP庫的通用MEMS器件可視化仿真與驗證工具
項目的背景及目的 迄今為止，集成電路的模擬、仿真直至評測已有了非常完善的工具軟件；并已成為設計過程的重要組成部分；對設計的成功、可靠、高效都已起到決定性作用。而對MEMS而言，還相差甚遠，這和MEMS發展的成熟程度有著直接關系。當然，這并不意味著MEMS不需要這樣的工具和系統。相反，由于MEMS的功能多樣、加工復雜、分析困難、設計周期長、成本高等。特別需要一個能包括運動仿真、評測在內的設計工具和系統。這是當前推動MEMS發展的當務之急。
南開大學
2021-04-14
一種面向芯片級器件的焊點制備方法及裝置
本發明公開了一種面向芯片級器件的焊點制備裝置，包括：溶液容器，用于提供焊料溶液；流量分配器，其上設置有陣列布置的多個噴嘴，其與溶液容器連通，焊料溶液通過噴嘴噴出；器件固定板，其通過一底板固定在噴嘴下方，其上平鋪有待制備焊點的器件，且該器件固定板與噴嘴通過高壓發生器相連，兩者之間形成高壓電場；還包括管芯模，其包括呈陣列布置的多個管芯，且各管芯一一對應配合插裝在噴嘴中，在各噴嘴和管芯之間的空隙內形成容納焊料溶液的空間，在電場的作用下，焊料溶液通過該噴嘴中的空間進行流量分配后噴出形成噴點或噴絲，滴落于器件
華中科技大學
2021-04-14
安徽大學在氮化鎵功率器件研究領域取得新進展
近日，我校物質科學與信息技術研究院唐曦教授課題組與電氣工程與自動化學院胡存剛教授、曹文平教授課題組在氮化鎵功率器件領域取得最新研究進展，在氮化鎵GaNHEMT方向取得突破。
安徽大學
2022-06-01
溝道的刻蝕方法、半導體器件及其制備方法與電子設備
本發明提供了一種溝道的刻蝕方法，提供一待刻蝕對象，對所述待刻蝕對象一次刻蝕后，交替進行表面處理?二次刻蝕，直至刻蝕掉所有的鰭結構的犧牲層；其中，一次刻蝕用于刻蝕掉所述若干鰭結構中當前寬度最小的鰭結構的全部犧牲層以及其它寬度更寬的鰭結構的部分犧牲層；表面處理用于在待刻蝕對象的溝道層與剩余的犧牲層的暴露在外的表面形成保護層；所述二次刻蝕用于刻蝕掉當前寬度次之的鰭結構的全部的犧牲層，以及所述保護層。本發明在傳統的刻蝕工藝中加入氧化步驟，既實現了對溝道層的保護，又實現了在不同溝道寬度的刻蝕中，減少溝道層的損失量。
復旦大學
2021-01-12
高性能系列鈮酸鋰、鉭酸鋰晶體和光電器件
光電晶體及其器件作為激光技術的關鍵材料和器件，被諸多國家列為優先發展的技術領域。本項目在國家 863 計劃、天津市重大科技攻關、國防科工局民口配套等項目支持下，瞄準國家需求，圍繞產品化關鍵技術攻關，取得了以下主要科技創新：
（1）自主設計基于經驗數據庫的智能計算機晶體生長自動控制系統，并開發了晶體生長成套裝備，應用于多種晶體生長，得到批量推廣應用。
（2）發展了兩種非固液同成分共熔配比晶體的制備方法，實現了 SLN 晶體和 SLT 晶體的批量、廉價制備。
（3）開發了寬溫度范圍工作鈮酸鋰電光調 Q 晶體及電光調 Q 開關，在-55℃～70℃溫度區間穩定工作，大幅提高了軍用激光系統的溫度穩定性。（4）以高溫度穩定性電光調 Q 開關為核心技術自主研發的系列高溫度穩定性鈮酸鋰電光調 Q 激光系統，實現了批量生產和應用。
（5）開發了滿足激光雷達等長期在線工作的低內電場鈮酸鋰電光調 Q 晶體和電光調 Q 開關。
（6）開發了高抗光損傷閾值的鉭酸鋰電光調 Q 晶體和電光調 Q開關，典型 1064nm 波段的激光損傷閾值比鈮酸鋰晶體提高兩個數量級以上，且能夠滿足軍工寬溫度范圍要求。
南開大學
2021-04-13
一種基于有源和無源器件的小型力觸覺再現方法
本發明公開了一種基于有源和無源器件的小型力觸覺再現方法，步驟如下：首先進行磁流變阻尼器和直流電機的標定，獲得輸入電流和輸出力矩的關系；將預期力/力矩數值轉換成磁流變阻尼器的電流輸入，由磁流變阻尼器輸出相應力矩，再經力觸覺傳遞裝置作用于操作人員身體；其次，安裝在力/力矩作用點的傳感器測量實際作用的力/力矩，比較實際輸出與預期力/力矩數值，計算力/力矩誤差；最后，將力/力矩誤差轉換成直流電機的輸入信號，驅動直流電機產生誤差所對應的力矩；本發明可實現小型器件輸出大范圍、高精度力/力矩，使得力觸覺再現設備更加輕便、小巧，提升了力觸覺交互的逼真度；可廣泛應用于虛擬現實、遙操作機器人控制、醫療等領域。
東南大學
2021-04-11
液體分析測量超高靈敏度光纖折射率傳感器件
項目簡介 本成果提出基于微結構芯填充技術和非對稱耦合理論的光纖折射率傳感器，可以檢 測水溶液等低折射率樣本的成份、含量、比例等特性，具有靈敏度高、適用液體范圍廣、 檢測極限低的特點。已授權發明專利 1 項（ZL201110356530.6）。 性能指標 （1）靈敏度達到 1×104 nm/RIU。 （2）檢測極限達到 1×10-7 RIU。 適用范圍、市場前景 適用范圍：生物、醫學等領域對微量成分的檢測與分析，基于溫度調諧的超靈敏度 濾波器。 市場前景：光纖
江蘇大學
2021-04-14
一種用于超薄、柔性電子器件轉移的裝置、方法和應用
本發明公開了一種用于電子器件轉移的裝置，包括:上電極層 和下電極層，其對置間隔布置，通電后在兩者之間可產生電場;粘性 層，其固結在下電極層的下表面;還包括設置在上電極層和下電極層 之間的電活性層，其可在兩電極層通電而產生的電場作用下被擠壓而 產生縱向以及橫向的變形，該變形驅動電極層和粘性層產生變形，從 而產生剪力和/或者凹凸頂起力，使其被脫粘并放置于受體基板上。本 發明還公開了利用上述裝置進行電子器件轉移的方法及其應用。本發 明可實現電子器件主動放置，裝置結構簡單，具有快速、可靠，容易 控制等優點;
華中科技大學
2021-04-14
新型顯示器件高分辨率噴印制造技術與裝備
我國新型顯示產業規模和在建產線均居世界第一，但主要核心裝備依賴進口，制約我國新型顯示產業自主可控發展。新型顯示器件向大尺寸、超高清、柔性化方向發展，其面臨的重大挑戰是如何在大面積柔性基板上實現納米特征-微米結構-米級器件跨尺度高精度制造。光刻/蒸鍍技術受限于模板尺寸和平面工藝，傳統噴印受制于打印分辨率低（>20μm），均無法滿足大尺寸/超高清/柔性化新型顯示高精度/高效率/高可靠制造要求，急需發明新的制造原理、技術與裝備。
針對新型顯示器件高精高效制造國際難題，本項目原創高分辨率電流體噴印新原理，發明了電流體噴印新噴頭、新技術和新裝備，國際首創多款柔性新型顯示器件并占領高端市場。
目前提出的“拉伸式”高分辨率電流體噴印新原理，實現<200nm結構的噴印制造，兼具按需點噴、射流直寫、霧化制膜等不同噴射模式，突破了傳統噴墨打印技術分辨率低、材料適用范圍窄、噴射模式單一的問題。
本成果發明了陣列化獨立可控電流體噴印系列噴頭、高速視覺測量裝置等核心裝置與智能控制算法，開發了國際首臺新型顯示電流體噴印裝備。部分核心專利作價3000萬元實現成果轉化，創新技術支持下開發的系列裝備在顯示龍頭企業測試應用，實現了高分辨率OLED/QLED/PeLED（>300PPI）等新型顯示器件集成制造。
華中科技大學
2023-04-24
微小型器件及微系統高加速度實驗與標定技術（技術）
成果簡介：利用高速旋轉的轉子產生的高離心力對在高承載環境下使用的器件進行加載試驗，采用成熟試驗技術方法和檢測手段，實現對微小型機械結構件和電子器件、加速度傳感器在高承載環境下的高載荷試驗和標定。該設備最高加速度實驗值：8萬g，最高加速度標定值：1萬g，實驗對象最大回轉半徑：50mm，加速度實驗精度：3%，標定精度：6%，實驗對象尺寸：實驗件最大尺寸長度≤18mm，實驗件三維尺寸處于直徑D=18，高度H=15的圓柱體范圍里。適合鋼、鋁及銅質等各種材質加工的，在高承載環境下工作的機械結構件、電子元器件
北京理工大學
2021-04-14