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一種聚焦光斑快速收斂的光束整形調制片
本實用新型公開了一種聚焦光斑快速收斂的光束整形調制片。所述光束整形調制片為濾光片，其光強透過率分布中心對稱，其徑向的每一處光強透過率采用振幅調制函數計算獲得，將調制片放置在光路中對光束進行濾波整形獲得快速收斂的聚焦光斑。本實用新型利用振幅調制片以較小的成本和技術難度改變聚焦光斑的收斂性質，降低衍射光斑的旁斑強度，在生物成像，激光光學等諸多領域有著巨大的應用價值和潛力。
浙江大學
2021-04-13
一種液晶基紅外波束偏振控制芯片
本發明公開了一種液晶基紅外波束偏振控制芯片，包括芯片殼體(4)以及位于該芯片殼體(4)內的陣列化液晶偏振控制結構(3)；芯片殼體(4)上設置有第一驅控信號輸入端口(1)，第二驅控信號輸入端口(2)，第三驅控信號輸入端口(5)，第四驅控信號輸入端口(6)。紅外光波進入芯片的陣列化液晶偏振控制結構后，按照液晶偏振控制結構的陣列規模和排布情況被離散化為子波束陣。子波束與受控電場激勵下的液晶分子相互作用，被執行水平、垂直、4
華中科技大學
2021-04-14
變幻的色彩（光的彩色偏振實驗器）
310mm×250mm×280mm，偏振片一對，不同部位用不同的層數，顯示不同的彩色。
寧波華茂文教股份有限公司
2021-08-23
激光標識和激光防偽應用
激光打標機和激光整形機可應用于產品商標制作及激光防偽應用，也可應用于薄材質的切割,在各種金屬材料、有色塑料、晶體管、集成電路及各種工具、刃具上刻蝕各種字符、漢字和圖形。可用于硅、鍺、砷化鎵和其他半導體襯底材料的劃片與切割。提供產品標簽和防偽條形碼的設計和制作。同時，也用于對有機玻璃、膠合板、皮革、紙板等材料進行圖文切割，也可以在各種金屬薄膜上進行圖文切割。例如，我們利用該機器在各種厚度的硅片上進行了打孔，最小孔徑達100微米；最大（厚度）深度為500微米。激光刻蝕技術應
南開大學
2021-04-14
激光筆
寧波浪力儀器有限公司（余姚市朗海科教儀器廠）
2021-08-23
一種無衍射光束漂移的二維探測裝置
本發明公開了一種無衍射光束漂移的二維探測裝置，包括兩個45o分光鏡、兩個成像透鏡組、兩個高速圖像探測器和連接所述兩個圖像探測器的計算機處理系統；無衍射光束發生器發射的無衍射光首先入射到第一個 45o分光鏡，經分光為一路反射光和一路透射光，該一路反射光經其中一個成像透鏡組后成像在其中一個高速圖像探測器上；另一路透射光入射到另一個 45o分光鏡，經分光后的一路反射光經另一成像透鏡組后成像在另一個高速圖像探測器上，兩個圖像探測器同步探測出光束截面圖像，并輸入到計算機處理系統進行比較處理，探測出無衍射光的光
華中科技大學
2021-01-12
一種偏振無關空間光調制方法和裝置
本發明公開了一種偏振無關空間光調制方法和裝置，該方法利 用偏振分束、偏振旋轉、偏振相關空間光調制器件、偏振合束實現偏 振無關空間光調制。裝置包括偏振分束鏡，反射鏡、半波片和反射式 偏振相關空間光調制器件，其中偏振分束鏡、偏振相關空間光調制器 件和反射鏡構成直角三角形回路或者多邊形回路，半波片位于回路中。 裝置還可以進行多種改進。本發明可以適用于多種空間光束，如軌道 角動量光束、多路廣播的軌道角動量光束、任意空間相位調
華中科技大學
2021-04-14
基于偏振成像的水下考察勘探成像觀察儀
? 成果簡介：對于自然光照明的水下場景，不同距離上目標場景的偏振信息不同。當采用線/圓偏振光照明時，目標場景的退偏度一般均大于水體散射光的退偏度，利用該特性來濾除傳輸路徑上的水體后向散射光。本成果研究了自然光在水下傳輸的偏振變化規律，提出一種利用目標和背景偏振差異進行水下低對比度圖像復原的方法，利用偏振成像及其圖像處理技術，研制水下考察勘探成像觀察儀(照相機或攝像機)，實現在日光照明或全色主動照明條件下對海洋、湖泊、水庫等的水下觀察、勘探和救援等。其觀察距離較裸眼遠3~5倍，較
北京理工大學
2021-04-14
多焦點光束產生裝置及多焦點共焦掃描顯微鏡
本發明揭示了一種多焦點光束產生裝置及多焦點共焦掃描顯微鏡,多焦點光束產生裝置包括光源,偏振器和偏振濾波光路;偏振濾波光路在光源出射光束經過偏振器后的光路上設置有第一偏振分光鏡,光束經過第一偏振分光鏡后一部分發生反射,一部分發生透射;在反射光路上依次設置有第一反射鏡,第一濾波片和第二偏振分光鏡;在透射光路上依次設置有第二濾波片,第二反射鏡和第二偏振分光鏡,反射光束和透射光束在第二偏振分光鏡處匯合成一束光束.通過多焦點光束產生裝置產生的光束經聚焦后得到的焦點均勻性高,尺寸小和形狀呈圓對稱分布.本發明掃描顯微鏡可保證高分辨率的前提下成像速度快,或者在同樣的成像速度下具有更高分辨率
上海理工大學
2021-05-04
一種寬光束、可調送粉角的高效半導體裝置
本發明屬于激光表面改性技術領域，公開了一種寬光束、可調送粉角的快速高效半導體激光熔覆裝置，包括半導體激光器(1)、光束整形與菲涅爾聚焦系統(2)、可調寬光帶送粉頭(3)、送粉器(6)、高速機床(5)、六軸聯動機器人(4)及中央控制系統(9)，光束整形與菲涅爾聚焦系統(2)用于將激光整形并聚焦成寬光帶激光；可調寬光帶送粉頭(3)用于向待處理的大型軸型工件表面輸送粉末及寬光帶激光；工件直徑大于1000mm，長度不低于10m。
華中科技大學
2021-04-10