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XM-655B淺、深感覺傳導束模型 ? XM-655B淺、深感覺傳導束模型展示深淺感覺傳導束的起止行程和位置，脊髓丘腦前束和脊髓丘腦側束分別以綠色和紫色表示，三叉丘系以草綠色和深藍色表示，深感覺以淺藍色表示，神經核用彩色球表示，傳導束用鐵絲表示。 尺寸：放大，50×23×73cm 材質：鐵絲+塑料

本實用新型公開了一種可自動上料的中藥研磨裝置，包括封口板、攪拌研磨架、研磨入料口和出料裝置，所述封口板的中間部位設置有入料管，且入料管的下側裝設有攪拌斗，所述攪拌斗的兩側端口處鑲嵌有連接架，所述輸料管的中間部位鑲嵌有閥門板，所述出料裝置的兩側裝設有研磨斗和集料斗，且集料斗的底端設置有固定架，所述固定架的兩側端口處鑲嵌有支撐桿，所述支撐桿的兩側端口處裝設有研磨斗和防滑腳墊，該可自動上料的中藥研磨裝置

提出了時間無依賴可用格點QCD計算的 quasi-PDFs，并發現，當動量非常大的時候quasi-PDFs可以近似為PDFs。近期，馬滟青研究員與合作者把季向東教授的方法進行推廣，提出了最一般的方法“格點散射截面”。在該方法中，保留了時間無依賴這一要求，但是與PDFs之間的聯系是通過證明因子化定理來保證。馬滟青研究員與合作者構造出了一系列便于格點QCD計算的“格點散射截面”，并量子場論框架下嚴格證明了它們與PDFs之間聯系的因子化定理，從而能夠利用格點QCD計算得到PDFs。

近年來，濫用抗生素產生的耐藥性問題日益嚴重，對人類疾病造成了巨大的威脅。尋找新的可替代抗生素的新藥迫在眉睫。抗菌肽（Antimicrobial peptides），是生物體經誘導產生的一類具有抗菌活性的小分子多肽，來源廣泛，其分子量小，大約在 3~6 kD 之間，有耐熱、 耐酸性強，水溶性好，快速的殺菌能力等特點（Hancock REW，Scott MG. Proc Natl AcadSci USA，2000，97（16）：8856~ 8861）?？咕牡目咕鷻C制不同于普通抗生素，抗菌機制一般包括①

可以量產/n該項目來源于國家自然科學基金、科技部對俄合作專項、一帶一路專項。目前測試服務用戶40 多個，來自國內20 個省市、國外個別單位。投產后年產值可達600-800 萬元，凈利潤150-200 萬元。主要技術指標:（1）紫外磁光譜：提供紫外偏振光譜、磁圓二向色性、磁圓偏振熒光譜測試服務，磁場1.5T，溫度12-300K，波長380-980nm。設備為自研，可生產紫外磁光譜儀。（2）深紫外磁光譜：研發100-300nm

1 成果簡介放射治療是主要腫瘤治療手段之一。我國目前每年有共計約 200 萬腫瘤患者需要接受放射治療，目前國內裝備的直線加速器只能滿足其中約五分之一左右的需求。據專家估計現在全國每年新增的醫用直線加速器數量應該近 150 臺，年均增長率近 15%左右。目前國內的放射治療直線加速器市場尤其是中高端市場基本被三家跨國公司瓦里安、醫科達和西門子所占據， 100%的中高端以及 60%以上的低端市場都被國外公司占據。 現代放射治療需要影像引導，醫用加速器與影像設備一體化是革命性發展方向。近年來，影像技術和計算機控制技術有了長足的發展，國外發展了稱之為影像引導放療（ ImageGuided Radiation Therapy, IGRT）的技術和設備。醫科達的 Synergy以及瓦里安的 OBI等 IGRT加速器一經推出，就迅速普及推廣。 但是，目前國際上放療加速器廠商的 IGRT 設備，都分別存在各自技術缺陷。醫科達的Synergy 以及瓦里安的 OBI（圖 1 右下），都是使用 MV 級射線治療，同時，與治療射線束軸 90 度方向另加一套 KV 級 X 射線影像系統的方式來實現 IGRT。這種結構除了增加制造成本外，非同源影像所反映的治療靶區運動變化情況也有先天的致命缺陷，無法保證治療空間坐標和成像空間坐標的一致性，帶來治療誤差；西門子的 MVision（圖 1 左上） 以及Tomotherapy 公司的 Hi-Art 則利用治療用的 MV 級射線成像，解決了同源問題，但由于 MV級射線能量高，無法得到高質量圖像?！?同源” 結構， KV 級射線的影像，成了幾家主要廠商的無奈取舍，“ KV/MV 同源雙束” 加速管技術就是解決以上問題的完美組合。各廠家近十年來均非常重視“ KV/MV 同源雙束” 加速管技術的研發。  圖 1 幾種 IGRT 技術的對比 清華大學 2006 年 12 月承擔了十一五科技支撐計劃 “ 放射治療及與影像定位一體化裝置的研制” 課題，經過兩年多的攻關，發明了國內外尚沒有的“ KV/MV 同源雙束” 加速管，并制造出能穩定出束，快速切換高能和低能的“ KV/MV 同源雙束” 加速管，高能 6MV，低能達 500KV，其他指標亦完全符合設計要求，并研制出“ KV/MV 同源雙束” IGRT 加速器樣機。 2009 年該課題通過科技部、衛生部驗收。2 技術指標3 應用說明本設備可以在病人每個射野照射治療前進行 KV 級圖像配準，驗證位置誤差，實現精確放療。由于同源，定位便捷精確， KV 級影像帶來的高質量影像，也完全滿足位置驗證的需求。該設備應用于我國千余家放療單位（醫院），還可出口海外。4 效益分析國外IGRT加速器售價在 1000~2000萬元/臺，本設備成本約 200萬元，預計售價500~1000萬元，預計年銷售 30~50 臺，年銷售額約 3 億（ 2008 年 Varian 公司全球放療銷售額 17 億美元）。技術創新、自主知識產權的國產醫用 IGRT 加速器產業化成功，不僅可以改變我國中高端醫用加速器長期依賴進口的局面，還可出口海外市場，其經濟、社會效益極大， 推廣前景廣闊。5 合作方式清華大學目前正進行產品化工作，尋求戰略投資及合作伙伴。

XM-655腦干腦神經核傳導束 ? XM-655腦干腦神經核傳導束由6部件組成，顯示腦干腦神經核及腦神經、錐體系傳導束、錐體外系、淺深感覺傳導束、視聽覺和深感覺傳導束、深感覺前庭傳導束和脊髓小腦束等結構形態。 尺寸：放大 材質：優質鐵絲

XM-655腦干腦神經核傳導束 ? XM-655腦干腦神經核傳導束由6部件組成，顯示腦干腦神經核及腦神經、錐體系傳導束、錐體外系、淺深感覺傳導束、視聽覺和深感覺傳導束、深感覺前庭傳導束和脊髓小腦束等結構形態。 尺寸：放大 材質：優質鐵絲

該裝置屬專利技術，是一種電弧放電光纖研磨截面高精度拋光方法及裝置，利用兩電極間的放電電弧對研磨后光纖表面進行拋光處理，以便去除光纖研磨過程中產生的微裂損傷，提高研磨光纖的質量的新型光纖拋光設備。屬于光纖通信系統技術領域，特別屬于利用光纖包層場的變化來制作高精度光器件的技術領域。 光纖屬于硬脆玻璃材料，在光纖研磨過程中，研磨砂將不可避免地會在其表面產生大量的凹坑和微裂損傷，表面粗糙度較高，從而引起光信號的散射和吸收損耗較大，雖然采用顆粒尺寸很小的微粉對光纖的研磨表面進行機械拋光，可在一定程度上降低表面的粗糙度，但機械微粉拋光法并不能消除研磨光纖表面那些不可見的微裂損耗，如果不進行處理，當空氣中的水汽進入這些微裂紋時，將導致所制作的光纖器件的性能很快惡化，對提高器件的穩定性極為不利的。而且由于光纖的直徑僅為125微米，為提高其研磨表面的光滑行對機械微粉的材料、尺寸和純凈性要求極高，在實際加工中并不適用。因此，為進一步提高光纖研磨后表面的光滑性，避免微裂損傷造成的器件性能惡化，迫切需要一種價格便宜、使用方便、并且能對研磨光纖表面的微裂紋進行消除的新型拋光設備。 技術內容： 利用兩電極間的放電電弧對研磨后光纖表面進行高精度拋光的方法及裝置， 解決其技術問題所采用的技術方案是： 一種電弧放電光纖研磨截面高精度拋光方法，其特征在于，利用在電壓控制下，兩電極放電電弧所產生的高溫效應，將研磨光纖的表面進行熔化，消除研磨光纖表面的微裂紋；通過定位傳感器，是放電電極沿著研磨后待拋光光纖的軸向移動，調節光纖拋光的長度；利用電機速度控制器控制電極的移動速度。 技術特點： 1、利用在電壓控制下，兩電極放電電弧所產生的高溫效應，經研磨光纖表面進行熔化，消除研磨光纖表面的微裂紋； 2、利用電壓控制PZT，調節放電電極與研磨后待拋光光纖間的距離，調節精度為0.01微米； 3、通過精密導向機構和定位傳感器控制拋光電極的移動范圍，調節光纖拋光的長度，長度為0-140mm； 4、利用電機速度控制器對電極的移動速度進行控制。 利用電壓控制壓電陶瓷PZT，從而調節放電電極與研磨后待拋光光纖間的距離；并通過定位傳感器來控制拋光電極的移動范圍，實現光纖拋光的長度的調節。其發明的主要內容如下： 該拋光裝置，由PZT高度調節器，電機速度控制器、精度導向傳送帶，定位傳感器、V型刻槽光纖放置用微晶玻璃和電極組成。主要優點：（1）采用火焰拋光的方法，通過PZT調節研磨拋光后的光纖與電極的相對位置，利用電極打火所產生的高溫將研磨光纖的表面進行熔化，從而有效消除研磨光纖表面的粗糙度，抑制微裂紋或凹坑造成的較大損耗；（2）通過精密導向機構的定位傳感器，是放電電極沿著研磨后待拋光光纖的軸向移動，從而實現對光纖拋光的長度進行任意調節；（3）利用電機速度控制器對電極的移動速度進行控制。