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產品詳細介紹1070型多功能脫影翻拍儀價格：4500.00主要參數基座尺寸：600 × 600 mm 有效高度：1000 mm相機橫向移動：40 mm相機旋轉：360 °脫影箱規格：LP 3300 薄型燈箱脫影箱體積：570 × 435 × 52 mm有效脫影面積： 400 × 300 mm脫影色溫：5200° K顯色指數：Ra 93配置燈具：150 燈架( 1付 )可滿足基本拍證需求  

產品詳細介紹性能參數：1.展臺結構：折疊直立，全金屬外觀；幅面：A4幅面；色彩位數：24位；掃描速度：一秒高速掃描；2.工作分辨率:1600×1200 ,300萬像素3.掃描介質：實體物，試卷，文件，書籍，雜志等；光學原件：1/2.5 CMOS感光芯片；圖像控制：亮度調整、色彩調整、曝光長度調整；4.圖片格式：BMP,JPG,TIF,PNG,GIF；錄像格式：WAV，AVI，MPEG4；接口：2.0 USB線接口；5.軟件功能：●文本識別工作：具備ＯＣＲ文字識別功能，可幫助老師快速提取圖像中的文字，用于各種文字編輯工作，讓您輕松備課．●視頻制作：具有錄像功能，可用于老師多媒體視頻的錄制?！窀咚傥臋n掃描（拍攝）：支持手動、自動連拍功能；支持A4幅面，圖片清晰，每張A4圖片占用存儲空間?。豢梢詫С鑫募苯哟蛴〉?。高速（30張/分鐘）文件掃描，支持A4幅面，圖片清晰，每張A4圖片占用存儲空間?。豢梢詫⒍鄠€圖片打包成一個多頁格式，并且可排序、刪除；可以導出文件，發送電子郵件，傳真，直接打印，轉成PDF文件等。*圖片放大縮?。褐С忠允髽藶橹行亩ㄎ唬С謭D片以鼠標滾動縮放，支持WIN7 WIN8手勢；支持截圖；桌面白板軟件使用之時，支持OFFICE軟件備注，網頁備注等，桌面白板應用；文檔管理，支持完整的文檔管理分類?！窀咔鍖嵨镎古_ ：能夠與電腦和投影儀配合使用，把文件、手稿和其他實物清晰的投影在大屏幕上，且實時的展示講解過程中的書寫和勾畫或電子白板講解過程，并可以拍攝清晰的人物、景物、實物的照片，實時直接存入電腦。*支持動態文字的輸入?！窀咔逭n件錄像 ：高清晰度的場景錄像，可以將在展示范圍內的任何手動講解過程或在電子化資料上的白板講解過程，錄制成AVI格式的高清課件，作為課堂回放或學校資源的資料積累。全屏幕錄制講課過程。可錄制PPT講解過程、可錄制各種軟件或網站內容的講解過程，并帶有畫中畫功能，可同時將教室或教師講解場景現場制作成影音課件。*支持桌面錄像功能，記錄操作軌跡；支持錄像節目顯示錄像時間，支持全屏錄像；●通用圖像處理 ：拍攝后產生的圖片都可以進行去黑邊、糾斜、旋轉、鏡像、剪裁等圖像處理；調整圖像亮度、對比度、飽和度等，得到更佳的圖像效果；可以做灰度、黑白、反相、浮雕、銳化等。*支持彩色筆標注，箭頭標注，圖形插入，支持動態，靜態切換；軟件參數：1、帶專業的掃描軟件，能快速掃描試卷或講稿，可進行OCR文字識別，迅速 提取文字，形成Word文檔2、掃描文件的同時，可帶自動的切邊功能，可以快速的幫助老師進行紙張掃描糾偏。3、帶專業的展臺軟件，能進行視頻與實物展示，具有動態白板批注、課件錄制、對比教學、快速抓圖等軟件功能。通過軟件與視頻展示臺可以實現講稿動態即時旋轉和按照1%梯度縮放，4、視頻顯示內容能夠以鼠標所在點為中心，實時按照1%梯度進行無級自由縮放達300%, 實現黑白/彩色之間的轉換，實現色彩調節、對比度、亮度調節，帶背光補償。 5、帶有標注的保存功能，可以存儲標注，形成一張圖片，方便保存。6、可以實現全屏的視頻展示功能。7、教育展示所有的操作按鍵都在第一視窗界面，不存在2級菜單，方便老師簡易操作。8、具有在普通投影屏上用鼠標或無線教鞭進行白板標注講解教學和錄像，錄音功能9、可以自由劃線標注，支持8位彩色標注，透明度可設，筆畫粗細可設，每支標注畫筆可進行4種標注線條的選擇，多種圖形，文字，可保存、錄制，即簡易電子白板。并且可以將實物展示過程、人像以及聲音等進行錄制的視頻課件，實現錄播功能。10、具有課件制作掃描和管理功能：11、支持新建、刪除、改名，支持多級文件夾，支持鼠標直接拖動圖片改變圖片文件所屬文件夾；支持自動連續掃描，速度可設；支持局部畫面掃描，支持多個圖片一鍵裝訂成冊，并自帶閱讀器。支持成冊圖片和一組圖片一鍵轉換成PDF文件13、自動光圈,自動白平衡，支持USB純數字輸出，支持幅面的90度旋轉14、USB五伏電源直接供電，弱點環保無輻射，頂端內置高強數碼霧燈光源；15、證書：質量管理體系認證ISO9001：2008；環境管理體系認證ISO14001:2004

北京北極環影科技有限公司是一家專注于校園電視臺與融媒體演播室、錄音棚等高清視頻產品研發、生產、銷售及服務的高新技術企業，總部設在北京，在華中及西南地區設立了售后服務網點，業務覆蓋除港澳臺之外的所有省級行政區。 北極環影科技在數字音視頻領域擁有多項核心技術和知識產權，已通過ISO14001認證、ISO9001認證、軟件企業認定、國家信息中心檢測報告、3C產品認證。北極環影科技專注于視音頻的研發與銷售。我們致力于為用戶創造有價值的產品與用戶體驗，這正是北極環影科技前行的動力，堅信品牌的力量，堅信客戶的信賴。

1.痛點問題 光刻膠作為集成電路制備中不可或缺的一部分，已成為國家的戰略資源之一。半導體光刻膠的核心在于成膜樹脂，受限于研發難度大、專利壁壘高、資金投入多、準入門檻高，目前國內企業尚難以突破KrF膠（248nm）或ArF膠（193nm），而EUV膠完全不能自主供給。 2.解決方案 本項技術采用了國際最前沿的納米氧化物團簇材料的工藝路線，可以實現單2nm小分子的光刻膠成膜樹脂材料，攻克了材料合成和納米材料提純的難題，可滿足目前半導體3nm制程節點的技術要求，RLS分辨率、邊緣粗糙度、靈敏度三項關鍵性能指標優異，其曝光劑量遠低于Intel公司提出的20mJ/cm2的成本線。此外，本項技術具有多種半導體光刻膠兼容性，可以生產248nm和193nm光源的半導體光刻膠成膜樹脂，以及電子束半導體掩膜用光刻膠成膜樹脂，具有廣闊的技術替代優勢和市場應用前景。 3.合作需求 本項技術已設立衍生企業，位于江蘇常州的3000m2研發生產中心正在建設中。 1）融資需求：本輪天使輪融資6000萬元。 2）資源對接需求：集成電路芯片制造、掩膜板生產企業，地方政府等。

目前半導體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團的成膜材料和光產酸劑組成，這種體系最大的問題是光產酸在后烘階段會發生酸遷移，導致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產酸劑，且其光產酸是高分子強酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產酸基團的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產酸劑與其它成膜材料一起組成化學增幅型光致抗蝕劑。 以之為產酸劑與其它部分保護的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護部分酚羥基，由其組成了單組分的化學增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現。  利用高分子產酸劑透明性好的特點，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達5：1的光刻圖形：  在此基礎上，還制備了負型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現。這些高分子光產酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應條件溫和可控，去金屬雜質的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經過多年的深入研究之后，完全具備了產業化的條件。 半導體加工的關鍵設備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業的平穩發展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關鍵材料，日本公司的產品占據全球市場的70%以上，而我國在中高端產品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進口，即便是低端的i-線光刻膠國產化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉這種不利的局面，這需要科研工作者和產業界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關注，已有多家企業開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發與產業化，但絕大部分仍處于研發階段。我們研制的光刻膠具備了產業化的技術條件并具有與國外先進光刻膠產品競爭的產品性能。    半導體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結果，也在致力于這些光刻膠產品的產業化。 相關項目、專利及文章： 1.國家重大科技專項（02專項）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產酸劑及新型成膜樹脂的擴試技術研究） 2.國家自然科學基金應急管理項目，51641301, 含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應用，中國發明專利，專利號：9。

目前半導體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團的成膜材料和光產酸劑組成，這種體系最大的問題是光產酸在后烘階段會發生酸遷移，導致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產酸劑，且其光產酸是高分子強酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產酸基團的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產酸劑與其它成膜材料一起組成化學增幅型光致抗蝕劑。 以之為產酸劑與其它部分保護的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護部分酚羥基，由其組成了單組分的化學增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現。   利用高分子產酸劑透明性好的特點，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達5：1的光刻圖形：   在此基礎上，還制備了負型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現。這些高分子光產酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應條件溫和可控，去金屬雜質的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經過多年的深入研究之后，完全具備了產業化的條件。 半導體加工的關鍵設備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業的平穩發展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關鍵材料，日本公司的產品占據全球市場的70%以上，而我國在中高端產品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進口，即便是低端的i-線光刻膠國產化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉這種不利的局面，這需要科研工作者和產業界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關注，已有多家企業開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發與產業化，但絕大部分仍處于研發階段。我們研制的光刻膠具備了產業化的技術條件并具有與國外先進光刻膠產品競爭的產品性能。    半導體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結果，也在致力于這些光刻膠產品的產業化。 相關項目、專利及文章： 1.國家重大科技專項（02專項）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產酸劑及新型成膜樹脂的擴試技術研究） 2.國家自然科學基金應急管理項目，51641301, 含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應用，中國發明專利，專利號：9。

本發明公開了一種用于浸沒式光刻的浸液溫控系統，通過其獲得具有穩定溫度的浸液，以用于浸沒式光刻工藝中，其特征在于，該溫控系統包括：用于浸液流動的浸液管路，待溫控的浸液通過管路進口進入該浸液管路，溫控后的浸液通過該浸液管路出口輸出；用于對所述浸液進行冷卻的工藝冷卻液回路，工藝冷卻液在該回路中循環流動；以及熱交換器（6），所述浸液管路和工藝冷卻液回路同時流經該熱交換（6），利用該熱交換器（6）完成工藝冷卻液和浸液的熱交換，獲得具有穩定溫度的浸液，實現對浸液的溫度控制。本發明的裝置采用內部回流結構與熱交換器

本發明公開了一種光刻機自動調焦方法及裝置，其方法是將平行光束經第一狹縫投射至硅片表面，再經振動反射鏡掃描后通過第二狹縫，由光電探測器接收光強信號，然后通過提取光強信號中二倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的粗調量，通過提取光強信號中一倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的精調量，最后由驅動裝置調整硅片至焦點位置。調焦裝置主要由兩個狹縫、一個振動反射鏡、光電傳感器、驅動臺和若干光學鏡片組成，信號處理過程由計算機編程完成。該方法與裝置相較于以往對比光斑強度進行調焦的方式，具有結構簡單、響應迅速、精度高(優于 0.

本項目基于通用微機的數字減影血管造影圖象處理系統，與X線機配合，可實現國際上典型DSA系統的各種功能與指標，且操作使用更適合國人。本項目的特點是真正實現了與進口大型X線機的聯接，實現脈沖工作方式下的實時數字減影血管造影，樣機在第四軍醫大學唐都醫院替代進口西門子公司的Digitron-2數字減影系統已臨床使用2年多，實施診療5000余例次，收到了非常好的社會