一種多點接觸模式下的大面積納米壓印硅模具加工方法,它將硅(100)單晶片置于多微球的多點接觸板垂直下方位置,再使硅片與多點接觸板兩者垂直相對運動至發生接觸,并達到一定接觸載荷F;使多點接觸板和硅片按照既定軌跡相對運動,進行刻劃;刻劃后,將硅片放入質量分數為15~25%的KOH溶液中腐蝕一段分鐘,即可得到具有預先設定結構的納米壓印硅模具。該方法在多點接觸模式下進行,可以方便地控制所加工納米壓印硅模具的圖案、排列方式等;刻劃過程中硅片與多點接觸板始終保持平行狀態。該方法的設備和原材料成本低,操作簡便、步驟簡單,能一次性完成大面積的硅(100)單晶片納米壓印模具加工,具有明顯的低成本、高效率的特點。
國內領先
前景優越