納米科技是21世紀材料技術革命的核心,而納米測量是納米技術中重要環節,我校研制的光電輪廓儀是納米測量的重要儀器之一。該儀器除在計量系統作為傳遞基準儀外,也可廣泛用于材料科學、生物學、化學、微機械學以及半導體工業等領域中的納米分析測量。
儀器主要技術指標為:
測量方法:非接觸式、三維、光學相移干涉法
物鏡倍率:40X
測量范圍:0.1×0.1mm
測量列陣:510×510象素
最小顯示值:0.1nm
測量表面粗糙度范圍:Ra~0.1nm-120nm
最大可測量臺階和孔深:1100nm
儀器Ra測量重復性:Ra≤1nm
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