本發明闡述了一種激光濺射法制備CsPbBr3薄膜的方法。具體步驟為:先通過DMF、DMSO、環己醇、PbBr2、CsBr材料以溶液加熱方法制備出足量的CsPbBr3單晶并壓成靶材,再采用脈沖激光沉積薄膜制備技術:調整激光能量和基底溫度,通過激光脈沖數控制薄膜厚度,真空沉積制備CsPbBr3薄膜。本發明利用脈沖激光沉積技術制備CsPbBr3薄膜,可實現均勻大面積薄膜的便捷制備,易于有效控制薄膜厚度并且節約材料,有利于該材料在太陽能電池的工業化生產與應用。