一種磷硅鎘單晶體的制備方法,以富磷CdSiP2多晶粉末為原料,工藝步驟為:(1)生長容器的清洗與干燥;(2)裝料;(3)將裝有生長原料并封結的雙層坩堝放入三溫區管式晶體生長爐,然后將生長爐的高溫區和低溫區以30~60℃/h的速率分別升溫至1150~1180℃、950~1050℃,并保持該溫度,繼后調節梯度區的溫度,使溫度梯度為10~20℃/cm,當所述生長原料在高溫區保溫12~36h后,控制雙層坩堝以3~6mm/day勻速下降,當雙層坩堝下降到低溫區并完成單晶生長后,使其停止下降,在低溫區保溫24~72h,保溫時間屆滿,將高溫區、梯度溫區、低溫區的溫度同時以20~60℃/h降至室溫。一種單晶體生長容器,由內層坩堝和外層坩堝組成,內層坩堝與外層坩堝之間的環形腔室內加有調壓用CdSiP2多晶粉末。
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