光柵尺寸在國際上居于領先地位,最大達到了 1400mm, 遠超對手的 940mm;研制了一系列國內首臺(套)具有自主知識產權的米量級光柵研制工藝關鍵設備;在國際上首創了曝光拼接方法,實現了利用小口徑曝光系統,制作出了遠 大于曝光系統口徑的光柵;掌握了脈沖壓縮光柵設計、工 藝容差分析和工藝過程控制技術,通過對曝光監測、顯影監測和刻蝕監測來保證光柵制作工藝的穩定性,保證了光柵制作質量;首次對大口徑高閾值光柵采用了綜合清洗技術處理,提高了光柵的衍射效率和抗激光損傷閾值。
樣品樣機測試階段
研制的采樣光柵已全面用于我國的強激光裝置;研制的各種口徑高閾值脈沖壓縮光柵打破了國外對我國的禁運;研制的高閾值合束光柵已服務于國內幾種型號的激光武器系統樣機;研制的寬帶高閾值壓縮光柵將突破國外禁運,為我國飛秒激光的研制和產業化提供核心部件。
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