本項目提出一種創新的集成電路(IC)制造工藝路線,即壓印光刻(Imprint Lithography-IL)技術,并對該技術相關的壓印和脫模工藝機理、紫外光固化阻蝕膠材料的物化和工藝特性、與IC制造其它工藝的綜合集成和優化、壓印光刻設備的關鍵技術等進行研究和技術開發。