本發明公開了一種用于提取半導體納米結構特征尺寸的方法,包括待提取參數取值范圍的劃分,子光譜數據庫的建立,支持向量機分類器訓練光譜的生成,支持向量機分類器的生成、測量光譜的映射和在子光譜數據庫中進行的最相似光譜搜索。與現有方法相比,本發明方法通過額外增加一個可以離線進行的支持向量機分類器訓練環節,實現了將測量光譜映射到一個小范圍的子數據庫中。與在整個大數據庫中進行最相似光譜檢索相比,在子數據庫中展開的檢索所消耗的時間大大減少。并且,通過增加每個分類器中包含的類數,可以得到更小的子數據庫,從而進一步加速參數的提取。該方法實現了參數的提取速度可預期與可控。
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